JPH03252346A - セラミックスラリー分散用ビーズ及びセラミックスラリーの製法 - Google Patents
セラミックスラリー分散用ビーズ及びセラミックスラリーの製法Info
- Publication number
- JPH03252346A JPH03252346A JP2045969A JP4596990A JPH03252346A JP H03252346 A JPH03252346 A JP H03252346A JP 2045969 A JP2045969 A JP 2045969A JP 4596990 A JP4596990 A JP 4596990A JP H03252346 A JPH03252346 A JP H03252346A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- beads
- ceramic
- ceramic slurry
- slurry
- dispersion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 62
- 239000011324 bead Substances 0.000 title claims abstract description 54
- 239000002002 slurry Substances 0.000 title claims abstract description 36
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 title claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 9
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 claims abstract description 9
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- 239000000843 powder Substances 0.000 abstract description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 4
- 238000011109 contamination Methods 0.000 abstract description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract description 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- -1 alkyl methacrylates Chemical class 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N bismuth(iii) oxide Chemical compound O=[Bi]O[Bi]=O WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000012508 resin bead Substances 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000807 Ga alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Crushing And Grinding (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、セラミック電子部品を製造する際のセラミッ
ク原料粉末のセラミックスラリ−を得るのに用いるスラ
リー分散用ビーズ及びこれを用Gまたセラミックスラリ
−の製法に関する。
ク原料粉末のセラミックスラリ−を得るのに用いるスラ
リー分散用ビーズ及びこれを用Gまたセラミックスラリ
−の製法に関する。
セラミックコンデン号のような電子部品にセラミック体
は広く用いられているが、最近その電気特性を向上する
とともに、そのバラツキを一段と少なくしたものが求め
られている。この特性の向上及びバラツキの減少は、セ
ラミック体の組成を厳密にコントロールすることによっ
て+=J能となる。
は広く用いられているが、最近その電気特性を向上する
とともに、そのバラツキを一段と少なくしたものが求め
られている。この特性の向上及びバラツキの減少は、セ
ラミック体の組成を厳密にコントロールすることによっ
て+=J能となる。
一般に電子部品用セラミック体は、例えばBaTiO3
,5rTiJ 等のナタン[[にTiO2,5to2
、Bi2O3等の酸化物を水等とともに加え、湿式混合
、分散を行ってセラミックスラリ−を調製し、このスラ
リーを脱水乾燥後仮焼し、所定の金属原子組成比のチタ
ン酸塩とし、この後、水溶性樹脂、アルコール、水等か
らなりその固形分を燃焼可能なバインダーと混合し、成
形した後、バインターを焼失させ、約1200〜140
0℃で本焼成し、焼結体のセラミック体を得る。あるい
は、上記スラリーを脱水乾燥したものを上記バインダー
と混合して造粒し、ついで成形し、徐々に1350℃位
まで昇温させてこの温度で焼成し、焼結体のセラミック
体を得る。
,5rTiJ 等のナタン[[にTiO2,5to2
、Bi2O3等の酸化物を水等とともに加え、湿式混合
、分散を行ってセラミックスラリ−を調製し、このスラ
リーを脱水乾燥後仮焼し、所定の金属原子組成比のチタ
ン酸塩とし、この後、水溶性樹脂、アルコール、水等か
らなりその固形分を燃焼可能なバインダーと混合し、成
形した後、バインターを焼失させ、約1200〜140
0℃で本焼成し、焼結体のセラミック体を得る。あるい
は、上記スラリーを脱水乾燥したものを上記バインダー
と混合して造粒し、ついで成形し、徐々に1350℃位
まで昇温させてこの温度で焼成し、焼結体のセラミック
体を得る。
この一連の工程でセラミックスラリ−を調製するときに
、その分散手段のセラミック原料粉末と接触する部分が
摩耗し、その摩耗した材料ができあがったセラミックス
ラリ−中に混入し、最終的に得られるセラミック体の例
えば金属チタン酸塩の金属組成比を当初設計した配合値
と異ならせることが多い。そのため、この分散手段に何
を用いるかは極めて重要なことである。
、その分散手段のセラミック原料粉末と接触する部分が
摩耗し、その摩耗した材料ができあがったセラミックス
ラリ−中に混入し、最終的に得られるセラミック体の例
えば金属チタン酸塩の金属組成比を当初設計した配合値
と異ならせることが多い。そのため、この分散手段に何
を用いるかは極めて重要なことである。
この分散を行う分散機として古くからボールミルが知ら
れている。これは円筒あるいは球状の容器の中にセラミ
ック原料粉末、水又はその他の分散媒を硬質のボールと
ともに入れ、容器全体を所定時間回転させて、ボール同
士やボールの容器内壁に対する摩擦によりセラミック原
料粉末を粉砕し、水等に分散させようとするものである
。その際、ボールの材質として摩耗し難く、かつ摩耗し
てその材料がセラミックスラリ−に混入しても、得られ
るセラミック体の組成比に影響が少ないものが選択され
る。例えば天然石(シリカを主成分とする)、メノウ石
、アルミナ磁器ボール、5iC1Si3N4等の非酸化
物ボールが用いられている。
れている。これは円筒あるいは球状の容器の中にセラミ
ック原料粉末、水又はその他の分散媒を硬質のボールと
ともに入れ、容器全体を所定時間回転させて、ボール同
士やボールの容器内壁に対する摩擦によりセラミック原
料粉末を粉砕し、水等に分散させようとするものである
。その際、ボールの材質として摩耗し難く、かつ摩耗し
てその材料がセラミックスラリ−に混入しても、得られ
るセラミック体の組成比に影響が少ないものが選択され
る。例えば天然石(シリカを主成分とする)、メノウ石
、アルミナ磁器ボール、5iC1Si3N4等の非酸化
物ボールが用いられている。
ところが、最近、例えばセラミックコンデンサ等もコン
パクトで高性能のものが求められ、そのためにはセラミ
ック製品もその組織が緻密であることが要求され、セラ
ミックスラリ−を調製する際も分散性の向上が求められ
るとともに生産性を向上させるために、連続生産システ
ムとしてビーズミルを使用することが多くなってきた。
パクトで高性能のものが求められ、そのためにはセラミ
ック製品もその組織が緻密であることが要求され、セラ
ミックスラリ−を調製する際も分散性の向上が求められ
るとともに生産性を向上させるために、連続生産システ
ムとしてビーズミルを使用することが多くなってきた。
ビーズミルは、円筒型容器の中に回転板を複数枚離間し
て取付けた回転軸を設け、さらに円筒容器内の空間の5
0〜70%に直径0.5〜5fiのピースを入れ、これ
にセラミックスラリ−の原料を投入して上記回転軸を高
速回転させ、ビーズ同士の摩擦及びビーズと容器内壁と
の摩擦により分散を行うものである。このビーズミルに
よれば、短時間で分散効率を良くし、高分散性のセラミ
ックスラリ−を連続的に得ることができる。
て取付けた回転軸を設け、さらに円筒容器内の空間の5
0〜70%に直径0.5〜5fiのピースを入れ、これ
にセラミックスラリ−の原料を投入して上記回転軸を高
速回転させ、ビーズ同士の摩擦及びビーズと容器内壁と
の摩擦により分散を行うものである。このビーズミルに
よれば、短時間で分散効率を良くし、高分散性のセラミ
ックスラリ−を連続的に得ることができる。
しかしながら、ビーズミルの高分散性の主な要因である
ビーズ同士の摩擦及びビーズと容器内壁との摩擦は、例
えばアルミナビーズを使用すると、ビーズを摩耗させ、
その摩耗した材料が不純物としてセラミックスラリ−に
混入し、上記した如くセラミック体の組成を変化させる
。これはガラスピーズ、ナタニアビーズを用いてもなお
満足するセラミック体が得られていない。現在、y2o
3部分安定ジルコニアを成分としたジルコニアビーズが
最も耐摩耗性に優れ、使用されるようになってきた。し
かし、これは非常に高価であり、例えばアルミナビーズ
に比較して約5〜lO倍はコスト高になる。
ビーズ同士の摩擦及びビーズと容器内壁との摩擦は、例
えばアルミナビーズを使用すると、ビーズを摩耗させ、
その摩耗した材料が不純物としてセラミックスラリ−に
混入し、上記した如くセラミック体の組成を変化させる
。これはガラスピーズ、ナタニアビーズを用いてもなお
満足するセラミック体が得られていない。現在、y2o
3部分安定ジルコニアを成分としたジルコニアビーズが
最も耐摩耗性に優れ、使用されるようになってきた。し
かし、これは非常に高価であり、例えばアルミナビーズ
に比較して約5〜lO倍はコスト高になる。
本発明の目的は、焼結体のセラミック体の組成への不純
物混入の影響を少なくするとともに、安価に提供できる
セラミックスラリ−分散用ビーズ及びこれを用いたセラ
ミックスラリ−の製法を提供することにある。
物混入の影響を少なくするとともに、安価に提供できる
セラミックスラリ−分散用ビーズ及びこれを用いたセラ
ミックスラリ−の製法を提供することにある。
本発明は、上記課題を解決するために、セラミック原料
をスラリー化する際に用いるスラリー分散用ビーズに分
子量1〜100万のアクリルニトリル−スチレン共重合
体樹脂にて形成したビーズを含有することを特徴とする
セラミックスラリ−分散用ビーズを提供するものである
。また、このセラミックスラリ−分散用ビーズを用いて
セラミックスラリ−を製造するセラミックスラリ−の製
法を提供するものである。
をスラリー化する際に用いるスラリー分散用ビーズに分
子量1〜100万のアクリルニトリル−スチレン共重合
体樹脂にて形成したビーズを含有することを特徴とする
セラミックスラリ−分散用ビーズを提供するものである
。また、このセラミックスラリ−分散用ビーズを用いて
セラミックスラリ−を製造するセラミックスラリ−の製
法を提供するものである。
セラミックスラリ−製造の際にアクリルニトリル−スチ
レン共重合体の樹脂からなるビーズを用いると、このビ
ーズが摩耗してその材料がセラミックスラリ−に混入し
ても有機物であるので後の仮焼あるいは焼成の工程で焼
失され、得られる焼結体のセラミック体の組成に影響を
及ぼさない。
レン共重合体の樹脂からなるビーズを用いると、このビ
ーズが摩耗してその材料がセラミックスラリ−に混入し
ても有機物であるので後の仮焼あるいは焼成の工程で焼
失され、得られる焼結体のセラミック体の組成に影響を
及ぼさない。
〔実施例〕
次に本発明の詳細な説明する。
実施例1
高純度BaTiO3を主原料としてこのBaTiO31
モルに対し、旧2030.002モル、TiO20,0
04%ル及び5i020.02モルを正確に秤量し、こ
れに総粉体重量の1.5倍の水を加え、ボールやビーズ
を使用しない攪拌羽根投げ込み型バッチ式混合攪拌機に
より混合(粗分散)を行った。
モルに対し、旧2030.002モル、TiO20,0
04%ル及び5i020.02モルを正確に秤量し、こ
れに総粉体重量の1.5倍の水を加え、ボールやビーズ
を使用しない攪拌羽根投げ込み型バッチ式混合攪拌機に
より混合(粗分散)を行った。
次にこの粗分散物をアクリルニトリル−スチレン共重合
体樹脂(分子量40万)からなるビーズを用いたビーズ
ミルにて下記条件により分散処理を行ってセラミックス
ラリ−を得た。
体樹脂(分子量40万)からなるビーズを用いたビーズ
ミルにて下記条件により分散処理を行ってセラミックス
ラリ−を得た。
ビーズミル内容積:51
ビーズミル回転数:毎分800回転
ビーズ投入量: 3.5 f
ビーズ径:1.5削
スラリー吐出量:毎分21
なお、ビーズは熔融状態の樹脂を加圧ノズルより吹き出
し、急冷させる、いわそるスプレー製造方式により成形
した。
し、急冷させる、いわそるスプレー製造方式により成形
した。
この後通常のセラミック焼成体の製造方法と同様に湿式
篩、脱水乾燥工程を経て、水、ポリビニアルコール樹脂
からなるバインダーと摺潰機等により混合して造粒し、
所定形状に成形後1350℃の大気雰囲気のトンネル型
電気炉で約15時間焼成し、焼結体のBaTiO3半導
体セラミック体を製造した。
篩、脱水乾燥工程を経て、水、ポリビニアルコール樹脂
からなるバインダーと摺潰機等により混合して造粒し、
所定形状に成形後1350℃の大気雰囲気のトンネル型
電気炉で約15時間焼成し、焼結体のBaTiO3半導
体セラミック体を製造した。
このようにして得られた半導体セラミック体の両面にI
n−Ga合金を擦り付けて電極を形成し、測定用試料と
した。この試料について抵抗値を測定(25℃)し、そ
の比抵抗を算出してその結果を下記表に示す。
n−Ga合金を擦り付けて電極を形成し、測定用試料と
した。この試料について抵抗値を測定(25℃)し、そ
の比抵抗を算出してその結果を下記表に示す。
比較例1
実施例1において、ビーズミルを使用する代わりに、通
常、BaTiO3半導体抵抗(PTCサーミスタ)製造
の際に原料の湿式午後方法として用いられるメノウ玉石
によるボールミルを使用した以外は同様にしてセラミッ
クスラリ−を得た。
常、BaTiO3半導体抵抗(PTCサーミスタ)製造
の際に原料の湿式午後方法として用いられるメノウ玉石
によるボールミルを使用した以外は同様にしてセラミッ
クスラリ−を得た。
このセラミックスラリ−についても実施例1と同様に処
理してBaTiO3半導体セラミック体を製造し、実施
例1と同様に比抵抗を算出しその結果を下表に示す。
理してBaTiO3半導体セラミック体を製造し、実施
例1と同様に比抵抗を算出しその結果を下表に示す。
比較例2〜5
実施例1において、ビーズの材質を下表のそれぞれの欄
に記載されたものを用いた以外は同様にしてセラミック
スラリ−を得、これから実施例1と同様に半導体セラミ
ック体を得、その比抵抗を算出した結果を下表に示す。
に記載されたものを用いた以外は同様にしてセラミック
スラリ−を得、これから実施例1と同様に半導体セラミ
ック体を得、その比抵抗を算出した結果を下表に示す。
上記表から明らかのように、実施例1のビーズを使用し
たものから得られた半導体セラミック体の比抵抗は他の
ものより小さいことがわかる。これはセラミックスラリ
−の乾燥粉末をバインダーとともに造粒、成形した後焼
成する工程で、ビーズの摩耗した材料がセラミックスラ
リ−に混入していたとしてもバインダーとともに低温帯
(200〜500℃)で焼失し、セラミック焼成体に残
留しないため、抵抗値を高めることがないためと考えら
れる。
たものから得られた半導体セラミック体の比抵抗は他の
ものより小さいことがわかる。これはセラミックスラリ
−の乾燥粉末をバインダーとともに造粒、成形した後焼
成する工程で、ビーズの摩耗した材料がセラミックスラ
リ−に混入していたとしてもバインダーとともに低温帯
(200〜500℃)で焼失し、セラミック焼成体に残
留しないため、抵抗値を高めることがないためと考えら
れる。
上記はアクリルニトリル−スチレン共重合体樹脂からな
るビーズを用いたが、メタクリル酸のメチル、エチル、
イソプロピル等のメタクリル酸アルキルの単独重合体又
は2種以上の共重合体、メタクリル酸アルキル、アクリ
ル酸アルキル、アクリル酸等の内2種以上含む共重合体
のアクリル系樹脂からなるビーズを上記アクリルニトリ
ル−スチレン共重合体樹脂のビーズに併用しても良い。
るビーズを用いたが、メタクリル酸のメチル、エチル、
イソプロピル等のメタクリル酸アルキルの単独重合体又
は2種以上の共重合体、メタクリル酸アルキル、アクリ
ル酸アルキル、アクリル酸等の内2種以上含む共重合体
のアクリル系樹脂からなるビーズを上記アクリルニトリ
ル−スチレン共重合体樹脂のビーズに併用しても良い。
また、アクリルニトリル−スチレン共重合体樹脂からな
るビーズあるいは上記アクリル系樹脂のビーズにポリス
チレン樹脂のビーズを併用しても良い。また、これら3
種のビーズを併用しても良い。
るビーズあるいは上記アクリル系樹脂のビーズにポリス
チレン樹脂のビーズを併用しても良い。また、これら3
種のビーズを併用しても良い。
これらの樹脂はその分子量が1〜100万であることが
好ましい。
好ましい。
本発明によれば、アクリルニトリル−スチレン共重合体
樹脂のビーズを含有するビーズを用いてセラミック原料
粉末の分散体であるセラミックスラリ−を得るようにし
たので、このビーズの摩耗した材料がこのスラリーに混
入しても後の焼成工程でこれが焼失し、あとに残らない
のでセラミ・ノ夕焼成体における不純物の混入が少な(
、例えば半導体セラミック体の比抵抗を高くならないよ
うにできるとともに、安定な比抵抗を得ることができる
。また、ジルコニアビーズに比べて安価で、コスト的に
も優れ、その経済効果も大きい。
樹脂のビーズを含有するビーズを用いてセラミック原料
粉末の分散体であるセラミックスラリ−を得るようにし
たので、このビーズの摩耗した材料がこのスラリーに混
入しても後の焼成工程でこれが焼失し、あとに残らない
のでセラミ・ノ夕焼成体における不純物の混入が少な(
、例えば半導体セラミック体の比抵抗を高くならないよ
うにできるとともに、安定な比抵抗を得ることができる
。また、ジルコニアビーズに比べて安価で、コスト的に
も優れ、その経済効果も大きい。
平成2年2月28日
Claims (2)
- (1)セラミック原料をスラリー化する際に用いる分散
用ビーズに分子量1〜100万のアクリルニトリル−ス
チレン共重合体にて形成したビーズを含有することを特
徴とするセラミックスラリー分散用ビーズ。 - (2)請求項1記載のセラミックスラリー分散用ビーズ
を用いてセラミックスラリーを製造することを特徴とす
るセラミックスラリーの製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2045969A JPH03252346A (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | セラミックスラリー分散用ビーズ及びセラミックスラリーの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2045969A JPH03252346A (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | セラミックスラリー分散用ビーズ及びセラミックスラリーの製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03252346A true JPH03252346A (ja) | 1991-11-11 |
Family
ID=12734059
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2045969A Pending JPH03252346A (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | セラミックスラリー分散用ビーズ及びセラミックスラリーの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03252346A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5584547A (en) * | 1978-12-20 | 1980-06-25 | Chuo Kakouki Shoji Kk | Ball of ball mill |
| JPS61168552A (ja) * | 1985-01-22 | 1986-07-30 | Toshiba Glass Co Ltd | 耐摩耗性結晶化ガラスビ−ズ |
-
1990
- 1990-02-28 JP JP2045969A patent/JPH03252346A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5584547A (en) * | 1978-12-20 | 1980-06-25 | Chuo Kakouki Shoji Kk | Ball of ball mill |
| JPS61168552A (ja) * | 1985-01-22 | 1986-07-30 | Toshiba Glass Co Ltd | 耐摩耗性結晶化ガラスビ−ズ |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0240015B2 (ja) | ||
| US4152166A (en) | Zircon-containing compositions and ceramic bodies formed from such compositions | |
| JPH0218309B2 (ja) | ||
| JPH08283073A (ja) | 窯道具 | |
| JPS62100412A (ja) | アルミナ−ジルコニア複合粉体の製造方法 | |
| JPH05345662A (ja) | フォルステライト磁器の作製方法 | |
| US3844808A (en) | Synthetic aggregates made from impure bauxite | |
| US3679383A (en) | Process for the manufacture of shaped articles of zirconium corundum | |
| JPH03252346A (ja) | セラミックスラリー分散用ビーズ及びセラミックスラリーの製法 | |
| JP3237965B2 (ja) | 窒化アルミニウム粉末の製造方法 | |
| JPH03252345A (ja) | セラミックスラリー分散用ビーズ及びセラミックスラリーの製法 | |
| JPH03193143A (ja) | セラミックスラリー分散用ビーズ及びセラミックスラリーの製法 | |
| JPH0440095B2 (ja) | ||
| JPS60141671A (ja) | ジルコニア焼結体の製造方法 | |
| US3093495A (en) | Magnesia composraon and method of | |
| Nassetti et al. | Granulation of powders for whitebody ceramic tiles | |
| AU594086B2 (en) | Method for the manufacture of formed parts from Al2O3 and ZrO2 and formed parts manufactured by this method | |
| JPH04367349A (ja) | 球状鋳物砂の製造方法 | |
| JP2000169201A (ja) | セメント用混和材の製造方法および該混和材を使用した組成物 | |
| JPH07126080A (ja) | 軽量焼結アルミナクリンカーの製造方法 | |
| RU2021229C1 (ru) | Шихта для изготовления керамических изделий сложной конфигурации | |
| JPH02275753A (ja) | 高強度長石質磁器 | |
| US5211727A (en) | Process for the manufacturing of grinding elements from aluminium oxide without firing accessories | |
| JP2703177B2 (ja) | 高圧鋳込用泥漿の調製方法 | |
| CN105837184B (zh) | 特重铝镁陶瓷质研磨石 |