JPH03263476A - 被膜形成用塗布液 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は、被膜形成用塗布液に関し、さらに詳しくは、
ボイドの少ない緻密な被膜が得られるような被膜形成用
塗布液に関する。

発明の技術的背景 シリカゾルと、アルコキシシランの部分加水分解物とが
含まれた塗布液は、従来より知られている（特開昭８３
−１１．７．０７４号公報、特開平１−１７０，８８８
号公報、特開昭６３−２７８，９７７号公報、特開昭５
１−２，７３８号公報、特開昭６２−１０５，９８７号
公報参照）。

しかしながら、これらの塗布液に含まれているシリカゾ
ルは、いずれも、アルカリ金属ケイ酸塩を脱アルカリし
てなる液状のケイ酸化合物を重合させることにより得ら
れており、このような方法で得られたシリカゾルには微
量のアルカリが含有されてしまう。

従って、このような方法で得られたシリカゾルを、半導
体用絶縁膜などの用途に適用しようとすると、塗布液中
に含まれた微量のアルカリのために、半導体の機能が低
下する虞があり、従って、このような用途には、上記の
方法で得られた塗布液を用いることはできない。

発明の目的 本発明は、上記のような従来技術に鑑みて完成されたも
のであって、ピンホールあるいはボイドなどが発生する
ことがなく、緻密であって、密着性、機械的強度、耐薬
品性、耐湿性、絶縁性なとに優れ、さらに比誘電率の低
いシリカ系被膜を形成することかできるよ・うなシリカ
系被膜形成用塗布液を提供することをＬ−１的と１゛Ｃ
いる。

発明の概要 本発明に係る被膜形成用＊　ｒｒＩ液には、−形成Ｒ８
１（ＯＲ”）　　　（式中、＋１はＯｎ　　　　　　　
　　４−ｎ 〜３の整数、Ｒ，Ｒ，’　は炭素数１〜８のアル−ギル
基、アリール、！！またはビニル基を表わ（２、Ｒ，Ｒ
’は同一・であっても異ム′っていても良い）で示され
るアル：１ギシシー）ンを加水分解ｊｎ縮、ＡＩ、　し
て得られるシリカゾルと、 前記のアル二■キンンランの部分加水分解物との反応物
が含まれこ〜いる。

本発明に係る被膜形成用塗布液の好ましい製造法は、−
形成Ｒ８１（ＯＲ′）４−ｎ　　　　（式中、１１ｎ　
　　　　　　　４−ｎ はＯ〜・３の整数、ＲＳＲ’　は炭素数１〜・８のアル
キル基、アリール基またはビニル基を表わし、ＲとＲ“
　とは同一であツーζも異なっ′Ｃいてもよい）で示さ
れるアルコキンシランを、水、ａ機溶媒およびアルカリ
触媒のＩＴ　（＋−下−Ｃ加水分解重縮合さ（４で、平
均粒径１５０へ５５００人のシリカ粒子がり〕散したシ
リカゾルを得る［、程と、１１０記の）′ル“Ｊキシシ
ランまたはこのアルＴ１キシシランの部分加水分解物と
、Ｌ記シリカゾルさを混合１７．３　（′）４−ｎ　℃
以」−４の温度で反応させる才程 とからなる。

本発明に係る被膜形成用塗布液は、好ま１．＜は］−記
のような製造法を採用することにより得られ、例えば゛
１′、導体用絶縁膜、プラスデック、ノＩラスの表面保
護膜などの用途に適用すると、ピン；１、−ルあるいは
ボイドなどが発４１８することがなく、緻密Ｃあって、
密着性、機械的強度、耐薬品性、耐湿性、絶縁性なとに
優れ、さらに比誘電率の低いシリカ系被膜を形成するこ
とかできる。

発明の詳細な説明 以下、本発明に係る被膜形成用塗布液およびその製造法
についで具体的に説明４″る。

被膜形成用塗布液 本発明に係る被膜形成用塗布液には、 −・形成　ＲＳ　ｉ　（ＯＲ’　）　４□（式中、＋１
は０〜３の整数、ＲＳＲ’　は炭素数１〜８のアルキル
基、アリール基またはビニル基）て示されるアルコキシ
シランを加水分解重縮合１．。

て得られるシリカゾルと、 前記［、たアル：１キシシランの部分加水分解物との反
応物が含まれている。

本発明に係る被膜形成用塗布液には、」−記のような成
分が含まれているため、ピンホールあるいはボ・イドな
どが発ルすることがなく、緻密てあっ°Ｃ１密着性、機
械的強度、耐薬品性、耐ん１性、絶縁性なとに優れ、さ
らに比誘電率の低いシリカ系被膜を形成することができ
る。

被膜形成用塗布液の製法 上記のような本発明に係る被膜形成用塗布液は、好まし
くは以ドのような方法で得られる。

まず、シリカゾルは、ド記−・形成で示されるアルコキ
シシランを１．水、ｒｆ機溶媒およびアルカリ触媒の存
ｒ１．下に加水分解重縮合させることにより得られ、こ
の、Ｊ二うなシリカゾルの１凋製ａ、とし、では、従来
より公知の方法を採用することかできる。

【３ ＲＳ　］（ＯＲ）　４−ｎ 口 式中、「〕は（−〕〜３の整数を表わ＋７、Ｉで、Ｒ′
は炭素数１〜８のアルキル基、アリール基またはビニル
基を表わし°ζいる。

アル：１キシシランの具体例と（２ては、テトラメトキ
シシラン、テＩ・ラエトキシシラン、テトライソプロポ
キシシラン、テトラブトキシシラントラオクチルシラン
、メチルトリメｌ−　Ｖジシラン、メチルトリエトキシ
シラン、エチルトリエｌーキシシラン、メチルトリイソ
プロポ片ジシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチル
ｉ・リブトキシシラン、オクチルＩ・リエトキシシラン
、フゴニルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシ
ラン等が挙げられる。

本発明においては、これらのアルコキシシランを１１１
独で用いてもよく、２種以上組合せて用いてもよい。

有機溶媒としては、アルコール類、ケトン類、エーテル
類、エステル類等が挙げられ、より具体的には、例えば
メタノール、エタノール、ブロバノール、ブタノールな
どのアルコール類、メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブなどのエチレングリコールエーテル類、エチレングリ
コール、プロピレングリコールなどのグリコール類、酢
酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチルなどのエステル類等
が用いられる。

アルカリ触媒としては、アンモニア、アミン、アルカリ
金属水酸化物、第４級アンモニウム化合物、アミン系カ
ップリング剤など、水溶液中でアルカリ性を示す化合物
が用いられ、反応混合物のｐＨが７〜］、２、好ましく
は８〜１１となるような量で用いられる。

シリカゾルの調製法をさらに詳細に説明すると、例えば
、水−アルコール混合溶媒を攪拌しながら、この混合溶
媒にアルコキシシランおよび、例えばアンモニア水のよ
うなアルカリ触媒を添加し、反応させる。

この際、水は、アルコキシシランを構成する５ｔ−ＯＲ
基１モル当り５〜５０モル、好ましくは５〜２５モルと
なるような量で用いられ、アンモニアは、前記のｐＨ範
囲となる量で、例えば屹　０１〜１．０モル／　Ｓ　Ｌ
　０２モル、好ましくは０．０５〜０．８モル／　Ｓ　
ｉ　０２モルとなるような量で配合される。

反応は、通常、常圧下における用いられる溶媒の沸点以
下の温度で、好ましくは沸点より５〜１０℃程度低い温
度で行なわれるが、オートクレーブ等の耐熱耐圧容器を
用いる場合には、この温度よりもさらに高い温度で行な
うこともできる。

上記のような条件で加水分解すると、アルコキシシラン
の重縮合が三次元的に進行し、シリカ粒子が生成、成長
する。

また、上記のように、例えば攪拌下の水−アルコール混
合溶媒に、アルコキシシランとアンモニアとを添加し、
水−アルコール混合溶媒の沸点以下の温度、すなわち約
１００℃以下の温度で反応を進行させて、シリカ粒子を
生成・成長させ、その後、上記温度を溶媒の沸点以上の
温度、すなわち約１００℃以上の温度に昇温し、一定時
間保持する加熱処理を行なっても良い。

このような加熱処理を行なうと、アルコキシシランの重
縮合が一層促進され、密度の大きいシリカ粒子が分散し
たシリカゾルが得られる。

このようにして得られたシリカゾルのうち、本発明にお
いて用いられるシリカゾルは、その平均粒径が約５０〜
５００人、好ましくは１００〜３００人の範囲内の均一
なシリカ粒子が分散したゾルである。この粒径が５０人
未満では、得られる被膜形成用塗布液を用いた膜成形時
に、膜面にクラックが発生する傾向があり、一方、５０
０人を越えると膜にボイドが多発し、緻密な膜が得られ
ない。

シリカ粒子は、シリカゾル中に、Ｓ　１０２として約５
０重量％以下、好ましくは４０重量％以下となるような
量で含まれていることが望ましい。

シリカ含量が５０重量％を越えるとゲル化し易い傾向が
ある。

本発明においては、後述するようにシリカゾルとアルコ
キシシランとを反応させるが、その際に、前述の方法で
得られた未精製のシリカゾルをそのまま用いてもよいが
、このように両者を反応させるに先立ち、予めシリカゾ
ルから、限外濾過等の手段により分散媒の水−有機溶媒
系を水系に溶媒置換させておくことが好ましい。

この溶媒置換操作は、前述のシリカゾルの加熱処理前に
行なっても良い。

本発明においては、上記のようにして、まずシリカゾル
を調製したのち、さらにこのシリカゾルと新たなアルコ
キシシランまたはその部分加水分解物とを反応させる。

シリカゾルと反応させるアルコキシシランは、シリカゾ
ルの調製に用いられたものと同一のものでも良く、また
は前述のシリカゾル調製に用いられるアルコキシシラン
であれば必ずしも同一のものでなくても良い。この反応
においては、シリカゾル中のシリカ粒子の成長あるいは
新たなシリカ粒子の生成は起らず、シリカ粒子の表面で
、このシリカ粒子と新たなアルコキシシランとの結合反
応が起り、その結果、本発明の目的にかなった塗布液が
得られる。

本発明においては、シリカゾルと反応させるア０ ルコキシシランはそのＪ、ま用いても良いが、常法ＩＪ
従って予め部分加水分解さゼた後、得られた部分加水分
解物とシリカゾルとを混合することが好ましく、このよ
うにすると、ゾルの凝集、ゲル化が起こり難くなる傾向
がある。

このようにアル−１キシシランの部分加水分解を行なう
際には、通常、水、イｊ機溶媒、酸またはアルカリ触媒
が用いられる。有機溶媒およびアルカリ触媒としては、
前述ｊ、たちのが挙げられる。酸触媒とし、では、具体
的には、塩酸、硝酸、硫酸などの無機酸、ｉ′）酸、ン
コウ酸などの有機酸または金属石ケンなと水溶ｌｌ＆中
で酸性を示す化合物が用いられる。

水は、アルコキシシランを構成するＳ　ｉ　−ＯＲ基１
モル当り、通常、０．１〜２モル、好ましくは０．５〜
２モルの量で用いられる。酸触媒が用いられる場合には
、反応液のｐ　Ｈが、通常、０〜６、好ま［７，＜は１
〜−３となるような量で、また、アルカリ触媒か用いら
れる場合には、反応液の１〕Ｉ（が、通常、７〜１０、
好ま【、＜は７〜８とな１す るような量で用いられる。

」−記のような条件Ｃ得られる１ルコフ１−ジシラン部
分加水分解物のり〕重量は、約１００−・１．０．００
０、好ま１．＜は５００〜・５０００　（ボリスチ１ノ
ン換算分子量）であることが望ま＋７い。

本発明においては、このような方法でアルコ１′−ジシ
ランの部分加水分解物が得られるが、さらに、先に出願
した特願平１−１８９，０４８号あるいは特願平１−２
５３．５８０号記載の方法により得られる塗イ［Ｉ液を
本発明の部分加水分解物として用いることもてきる。す
なわち、特願平１ｉ、８９．０４１３月に記載されＣＣ
ＪＩＥ中、Ｒは炭化水素基であり、Ｒ２は炭化数１−・
４のアルキル基であり、ｒ］は０〜３°Ｃある）で示さ
れるアルコキシシランの１種または２種以」、を、有機
溶媒、水およびアルカリ触媒のイｊ−（＋’、ドて部分
加水分解し、 次いで得られた部分加水分解液を、水および酸触媒の存
在ＦＣさらに部分加水分解しζ゛なる、アルコキシシラ
ン部分加水分解物の縮重合物を含む２ シリカ系被膜形成用塗布液を本発明における部分加水分
解物と１２で用いることができる。あるいは、特願平１
−２５８．５８ｆ１号に記載されているように、一般式
Ｒ，５ｉ（ＯＲ）　　　　（式中、Ｒ１は２ ｎ　　　　　　　　　　　　　　　４−口炭化水素基で
あり、Ｒ２は炭化数１〜４の゛ア月ｌ−ルｈ（であり、
＋１は０〜３である＞　＝Ｃ示されるアルコキシ：／ラ
ンの１種または２種以」−を、有機溶媒、水および酸の
存（Ｅ　”１’で部分加水分解し、次いで得られた部分
加水分解液をアルカリと接触させ、得られた塗布液にさ
らに必要に応じて酸を加えて酸性にし−Ｃなる、アルコ
キシシラン部分加水分解物の縮重合物を含むシリカ系被
膜形成用塗布液を、本発明における部分加水分解物と（
、、て用いることもできる。

本発明においては、シリカゾルと、アルコキシシランあ
るいはその部分加水分解物とを、シリカゾル中のＳ　ｉ
　０２　　（Ａ　）の重量／アルコキシシランあるいは
その部分加水分解物中の８１０２　　（Ｂ）の重量−（
，１，１〜１０　、　（、）、好ましくは０．２５〜４
．、Ｏとなるような重量比で混　３ 合させることが望まし５い。

成分（Ａ）の瓜か多くなると、得られるシリカ系被膜は
、耐熱性、耐湿性には優れるが、１ｖい膜厚を有するシ
リカ系被膜を形成するとクラックが発生しやすくなる傾
向が生じ、−力成分（Ｂ）の瓜が多くなると、得られる
シリカ系被膜は耐熱性、耐湿性に劣る傾向が生ずる。

本発明においては、上記のようにシリカゾルとアルコキ
シシラン部分加水分解物とを混合した後、約１００℃以
下、好ましくは８０℃以下の温度で、また温度条件等に
より変動するが、通常、０．５〜５時間、好ましくは１
〜・３時間加熱処理を行なう。このような処理を行なう
と、本発明に係る被膜形成用塗布液が得られる。なお、
処理温度の下限には特に制限はないが、低温になる程反
応時間が長くなり、生産性に劣る。−）ｊ　、　１．、
　ＯＯ’Ｃを越えると、′アルコキシシランの加水分解
反応が進行し過ぎるため好ましくない。

なお、被膜を形成するには、」上記のように＋２て得ら
れた被膜形成用塗布液を基板Ｌｌ、：塗布（２、次４ いで乾燥、焼成すれば基板上に被膜が形成される。

なお、該塗布液を基板上に塗布するには、スプレー法、
スピンコード法、ディップコ−１・法、ロールコート法
、スクリーン印刷法、転写印刷法など通常の方法を採用
することができる。

上記の焼成温度は、通常、１５０〜８００℃、好ましく
は２００〜８００℃程度である。

このようにして得られた被膜は、用途によっても異なる
が、通常、膜厚０．０５〜２μｍ１好ましくは０．１〜
１μｍ程度であり、膜形成時にはクラックの発生が見ら
れず、密着性に優れ、耐アルカリ性、耐湿性に優れ、特
に比誘電率が著しく低い。従って、本発明に係る塗布液
は各種保護膜、半導体用絶縁膜等の形成用として広く用
いられる。

なお、ガラス基板にＩＴＯ膜等の電極膜が形成された液
晶素子において、ガラス基板中のアルカリ成分（Ｎａ）
によるＩＴＯ膜アシアタツク止するため、ガラス基板と
ＩＴＯ膜との間に、本発明に係る塗布液により被膜を設
けると、ＩＴＯ膜のアルカリアタックを防止することが
できるので、い５ わゆるアルカリパッシベーション用膜としても有用であ
る。

発明の効果 本発明によれば、ピンホールあるいはボイドなどが発生
することがなく、緻密であって、密着性、機械的強度、
耐薬品性、耐湿性、絶縁性などに優れ、さらに比誘電率
の低いシリカ系被膜を形成することができるようなシリ
カ系被膜形成用塗布液が提供される。

［実施例］ 以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが
、本発明はこれらの実施例に何ら制約されるものではな
い。

１、（シリカゾルの調製） （１）純水１０１．．５ｇとメタノール４０６．１ｇの
混合溶液にエチルシリケー１−２８（多摩化学工業型）
１１．０．４＋ｒを加えたのち、６５℃に加熱し、この
温度を保持しながら５％アンモニア水８９．５ｇを３時
間かけて添加した。添加終了後、さらにこの温度で１時
間熟成した。熟成後、この６ 反応液を限外濾過で未反応エチルンリケ−１・、メタノ
ール、アンモニアを除去すると同時に純水を加えた。そ
の結果Ｓ　ｉＯ２濃度５重量％、平均粒径約１００人の
８１０２粒子が分散したシリカゾル（Ａ）を得た。

（２）純水２０３．Ｏｇとメタノール８１．２．２ｇの
混合溶液にメチルシリケート−５１，（多摩化学工業型
）１．２１．６＋ｒを加えたのち、４５℃に加熱し、こ
の温度を保持しながら５％アンモニア水１５０ｇを５時
間かけて添加した。添加終了後、さらにこの温度で１時
間熟成した。その後、未反応メチルシリケート、メタノ
ール、アンモニアを除去すると同時に純水を加え、８１
０２濃度５重量％、平均粒径約１１０人の５ｌＯ３粒子
が分散したシリカゾル（Ｂ）を得た。

（３）純水］、３９．１ｇとメタノール１．．６９．９
ｇの混合溶液を６０℃に保持し、これに、エチルシリケ
ー１−２８の水−メタノール溶液（重量比２／８の水／
メタノール混合液２４５０ｇにエチルシリケート−２８
を５３２．５に加えたもの）２９８２．５７ ｇおよび０．２５％アンモニア水５９６．４ｇを同時に
５２時間かけて添加した。添加終了後、さらにこの温度
で３時間熟成した。その後、限外濾過法で同様の操作を
行ない、Ｓ　Ｌ　０２６度１０重量％、平均粒径約２５
０人のＳｉＯ□粒子が分散したシリカゾル（Ｃ）を得た
。

（４）エチルシリケー１−２８の代わりにエチルシリケ
ー１−４０（多摩化学工業型）を３７２．８ｇＪＴＩい
た以外は、シリカゾル（Ｃ）と同様の条件で水分散ゾル
を得た。この水分散ゾルをオートクレーブで１５０℃、
１２時間処理し、Ｓ　ｓ　Ｏ２濃度１０重量％、平均粒
径約２７０人のＳ　五〇　２粒子が分散したシリカゾル
（Ｄ）を得た。

（５）エチルシリケート−４０の代わりに、メチルトリ
メトキシシラン ケート−２８　　２６６、３ｇの混合液を用いた以外は
、シリカゾル（Ｄ）と同様の条件で調製し、Ｓ　１　０
　２濃度１０重量９６、乎均粒径約２５０人のＳ　ｉＯ
　２粒子が分散したシリカゾル（Ｅ）を得た。

（６）シリカゾル（Ａ）をオートクレーブで８ １５０℃、１２時間処理し７、で、Ｓ／リカゾル（Ｆ）
を得た。（Ｓ　＋、　０２　／ａ、痕、粒子の甲均拉径
はシリカゾル（Ａ）と同じ。） ２゜（アルコ１ギシシラン部分加水分解物の調製）（１
）エチルシラン１゛−１・−２８（多摩化学１−梨型）
３５　”？、　　１．　ｇ、エタノール４Ｃ，）２．９
ｇおよび純水２４０．０ｇの混合溶液に濃硝酸を添加（
，５、ｐＨを１．５に調整し１．た。この溶ｌ（ｋを５
０℃、１時間反応させることによって部分加水分解物（
Ａ）を　（＋３　　）こ　。

（２）メチルシラン１ｙ−１−５１（多摩化学−１４業
製）１９６　、　１．、　ｇ　％　”−タノール０８３
、Ｃ′）ｇおよび純水１２０、□　ｇの混合溶液に１０
６アンモニア水を添加し１、ｐ　Ｈを８　、　　（１１
）　１ｍ調整（また。これを５０　”Ｃ１１時間加水分
解させ、その後、濃硝酸でｐ　Ｈを２．５に調整し１、
さらに５０°Ｃ，３０分間処伸した（部分加水分解物（
Ｂ））。

（３）メチルトリメトキシシラン４５４．５ｇ。

エタノール１．８５．５ｇおよび純水３６０．Ｏｇの混
合溶液を濃硝酸でｐＨ１、（）に１規整１．だの１（９ ち、５０℃、２時間加水分解させた。その後、１％アン
モニア水を添加Ｉ５、■）丁■逢’１．０ζ４−調整］
またのち、さらに５０℃で２時間処理り戸、＝。　（部
分加水分解物（Ｃ））。

（４）メチルトリーｌ−キシシラン２２’７．３ｇ。

ゴヂルシリノト　ｌ・　２８′３５７．１ｇ、エタノル
１−７５．０ｇおよび純水２４０．Ｏｇの？Ｉ１．合溶
液を１％アンＴ：二Ｔ水で￥）Ｈ８，５に調整し５．５
０℃、２時間加水分解させた。次いで、９１５％酢酸水
溶液でｐＨ４に調整し７たのぢ、さらに５０　”Ｃて５
時間処理した。（部分加水分解物（Ｄ））。

（５）メチルトリメトキシシラン２７２．７ｇ。

メチルシリゲ−１・〜５１　　１５６．９に、　丁、タ
ノール３′３０．４ｇおよび純水２４．０．０ｇの混合
溶液を濃硝酸でＩＩ）Ｈ２，Ｏに調整し１．５０℃、１
時間加水分解させた。次いで、１％トリエタノール′ア
ミン水溶液−ｒ　ｐ　Ｈを７．０に調整１．たのち、さ
らに５０℃で２時間処理した。（部分加水分解物（Ｅ）
）。

　０ ３、　（塗布液の調製） １　（シリカゾルの調製）で得られたシリカゾルと２（
アルコキシシラン部分加水分解物の調製）で得られたア
ルコキシシラン部分加水分解物を表１記載の所定の割合
で混合し、５０℃で１時間加熱処理しまた。次いで、ロ
ータリー毛バボレー、−夕で、水、アルコールを留ノく
し、て−チルセルソルブまたはブｒ７ビ１ノングリコー
ルモノプロビル上・、チルと溶媒置換し２、ＳｉＯ□濃
度１．、　ＯＸｎ　ｍ　９６のす重液１〜■を調製し５
た。

次いで、これらの塗布液をガラス基板にスピナー法で塗
布し７、乾燥後、３５０　℃、３　（１分間焼成：、チ
ー膜厚２．Ｃ］／！ｍの被膜を形成］、た。得られた被
膜につい０１次の如き評価を行な７．た。

（１）クラックのｆ」−無＋　１１１１：ｌ　′ｆ１．
Ｊ、観察。

（２）密着性・中成のｂ　＋：：ｙハンチ　ブを膜面に
はりイ・ｊけ、その端部を膜面に灼１７で直角に保ち、
瞬間的に引き（、ｔが４゛。そのときの膜の剥離状態を
観察。

（３）−ノ“ルカリ性　０℃の５銀量％Ｎ　ａ　ＯＨ水
１ 溶液に２４時間浸したのちの膜面の状態を観察。

（４）絶縁性：絶縁抵抗１−１で測定。

（５）アルカリパッシベーション能：４５０℃で加熱処
理し、加熱前後の膜の抵抗変化を評価。

さらに、各塗布液をシリコンウェハに２　ｆｔ　＋］）
の厚さになるように、スピナー法で塗布、乾燥（７，３
５０℃、３０分間、窒素気流中で焼成１２て被膜を形成
１，５た。さらにこのＳ　ｉ　０２膜の」−にＡΩの蒸
着膜を形成り、　−Ｃ”　、比誘電率を測定した。それ
ぞれの結果を表１に示す。

（以Ｆ余白） 　２ 手続中ｒｙｙ　Ｊ−Ｔ二書 ］、事件の表示 平成　２年　特　許　願　第６２，２５５号平成　２年
３月１３日提出の特許願 ２、発明の名称 被膜形成用塗布液 ３、補正をする者 事件との関係　　特許出願人 住　所　東京都千代田区大手町２丁［１６番２号名称　
触媒化成］二業株式会社 代表者　綱島　建吉 ４、代　理　人　（郵便番号１４１） 住　所　　　東京部品用区西五反田二丁目１９番２号荒
久ビル　３階 ６゜ ７゜ 補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 補正の内容 別紙の通り（補正の対象の欄に記載した事項以外は内容
に変更なし） 補正の内容 １）明細書第８頁第１９行において、 「約１００℃以上の温度に昇温し」とあるのを、「約１
００℃以上の温度に加圧下で昇温し」と補正します。

２）明細書第２１頁第２０行において、［０℃の５重量
％Ｎａ０ＨＪとあるのを、１３０℃の５重量％Ｎａ０Ｈ
Ｊと補正します。

３）明細書第２２頁第３行において、 ［アルカリパッシベーション能：４５ｏ℃で」とあるの
を、 「アルカリパッシベーション能・それぞれの被膜のうえ
にさらにＮＥＳＡ膜を、ＣＶＤ法で設けたのち、４５０
℃で」と補正します。

以　　上

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）一般式Ｒ＿ｎＳｉ（ＯＲ′）＿４＿−＿ｎ（式中、
   Ｒ、Ｒ′は炭素数１〜８のアルキル基、アリール基また
   はビニル基を表わし、ｎは０〜３の整数である）で示さ
   れるアルコキシシランを加水分解重縮合して得られるシ
   リカゾルと、 前記アルコキシシランの部分加水分解物との反応物を含
   む被膜形成用塗布液。