JPH03272019A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［概要］ データが書き込まれるデータゾーンと、ヘッドが接触す
るＣ３Ｓゾーンとを有する磁気記録媒体の製造方法に関
し、 ＣＳＳゾーンではヘッドの吸着が発生せず、データゾー
ンではヘッド低浮上化が可能な磁気記録媒体の製造方法
を「１的とし、 基板全体の表面粗さをヘッドが吸着しない程度に加−７
１する第１のテクスチャー処理の工程（ステップ１１）
と、データが書き込まれる磁性膜をスパッタリングによ
り形成する工程（ステップ１２）と、前記磁性膜を保護
する保護膜をスパッタリングにより形成する上捏（ステ
ップ１３）と、データゾーンの表面粗さをＣＳＳゾーン
より小さくする第２のテクスチャー処理の工程（ステッ
プ１４）とを有するように構成する。

［産業上の利用分野］ 本発明は、データが書き込まれるデータゾーンと、ヘッ
ドが接触するＣＳＳゾーンとを右する磁気記録媒体の製
造方法に関する。

近年、磁気記録密度の高密度化により、ヘッドの浮上量
は極低浮上となる傾向がある。よって、磁気記録媒体に
おいては、表面粗さを小さく押える必要がある。

［従来の技術］ 次に図面を用いて従来例を説明する。第１１図は従来の
磁気記録媒体の製造方法の概略を示すフロー図である。

図において、先ず、アルミニウム合金やガラスの基板の
成形を行う（ステップ１）。

次に、基板上にテクスチャー処理と呼ばれるテープ研磨
加工がなされる（ステップ２〉。この加工は基板上の表
面粗さを：＃整するためになされる。

次に、スパッタリングにより基板上に磁性膜を形成する
（ステップ３）。

続いて、スパッタリングにより磁性膜上にカーボンの保
護膜を形成する（ステップ４）。

なお、これら２つのステップのスパッタリング時には、
磁気特性及び膜質のコントールのために、予め基板を加
熱（３００℃以下）してから行われる。

そして、実隙に設定した磁気ヘッドの浮上量よりも低く
浮上量を設定した磁気ヘッドを用いて、微小突起をとる
ヘッドバニッシュがなされる（ステップ５）。

最後に、序擦を低減するために潤滑剤を塗布する（ステ
ップ６）。

［発明が角ｑ決しようとする課題］ 上記従来の製造方法においては、ステップ２のテクスチ
ャー処理において、基板の面全体が同一条件で加工され
るために、データが書き込まれるデータゾーンと、ヘッ
ドが接触するＣ　Ｓ　Ｓ−／−ンとは同じ表面粗さであ
る。

よって、ヘッドの低浮上化を実現しようとして、表面ｉ
■さを小さくすると、ＣＳＳゾーンではヘッドの吸着が
発生するという問題点がある。

又、逆にヘッドの吸着を防止しようとして、表面粗さを
大きくすると、ヘッドの低浮上化が困難であるという問
題点がある。

更に、このステップ２のテクスチャーにおいて、データ
ゾーン又はＣＳＳゾーンだけ選択的に表面粗さを変える
ことも可能であるが、後工程のスパッタリングで面粗度
が変化する。その変化率は不安定であるため、変化量を
予ＪＦＩ　して加工することは難しいという問題点があ
る。

本発明は上記問題点に鑑みてなされたもので、その目的
は、ＣＳＳゾーンではヘッドの吸着が発生せず、データ
ゾーンではヘッド低浮上化が可能な磁気記録媒体の製造
方法を提供することにある。

［課題を角ｌｌ決するための手段］ 第１図は本発明の原理図である。図において、ステップ
１１は基板全体の表面粗さをヘッドが吸着しない程度に
加工する第１のテクスチャー処理の工程であり、ステッ
プ１２はデータが書き込まれる磁性膜をスパッタリング
により形成する工程であり、ステップ１３は磁性膜を保
護する保護膜をスパッタリングにより形成する工程であ
り、ステップ１４はデータゾーンの表面粗さをＣＳＳゾ
ーンより小さくする第２のテクスチャー処理の工程であ
る。

［作用］ 第１図に示す磁気記録媒体の製造方法において、第２の
テクスチャー］二秒でデータゾーンの表面粗さはＣＳＳ
ゾーンより小さくなる。よって、ＣＳＳゾーンではヘッ
ドの吸着が発生せず、データシンではヘッドの低浮上化
が可能となる。

［実施例］ 次に、図面を用いて本発明の一実施例を説明する。第２
図は本発明の磁気記録媒体の製造方法の一例を説明する
概略フロー図、第３図は第２図に示す第２のテクスチャ
ー処理の時に用いられる研磨装置の平面構成図、第４図
は第３図における部分断面構成図、第５図は第２図に示
す製造方法で製造された磁気記録媒体のＣＳＳゾーンの
表面粗さを説明する図、第６図は第２図に示す製造方法
で製造された磁気記録媒体のデータゾーンの表面粗さを
説明する図、第７図は第２図に示す製造方法で製造され
た磁気記録媒体のＣＳＳゾーンの摩擦特性を説明する図
、第８図は第２図に示す製造方法で製造された磁気記録
媒体のデータゾーンの摩擦特性を説明する図、第９図は
第２図に示す製造方法で製造された磁気記録媒体のＣＳ
Ｓゾーンでのヘッドの浮上特性を説明する図、第１０図
は第２図に示す製造方法で製造された磁気記録媒体のデ
ータゾーンでのヘッドの浮上特性を説明する図である。

先ず、第２図乃至第４図を用いて本実施例の製造方法に
ついて説明を行う。

先ず、アルミニウム合金やガラスの基板１の成形を行う
（ステップ２１）。

次に、基板１全体に第１のテクスチャー処理（テープ研
磨処理）がなされる（ステップ２２）。

そして、本実施例では、テープは１Ａ＄４０００を用い
た。

次に、スパッタリングにより基板上に磁性膜を形成する
（ステップ２３）。

続いて、スパッタリングにより磁性膜上にカーボンの保
護膜を形成する（ステップ２４）。

次に、基板１上のデータゾーン２のみに対して、第２の
テクスチャー処理を行う。（ステップ２５）。本実施例
においては、第３図及び第４図に示すように、回転可能
に設けられた円形のバッド５の底面にテープ６を貼付し
たものを用いる。そして、バッド５のテープ６を基板１
に押圧させ、基板１を回転させる。すると、バッド５は
自転しながら、基板１のデータゾーンを研磨する。尚、
テープ６は１Ａ１６００を用いている。

そして、実際に設定した磁気ヘッドの浮上量よりも低く
浮上量を設定した磁気ヘッドを用いて、微小突起をとる
ヘッドバニッシュがなされる（ステップ２６）。

最後に、摩擦を低減するために潤滑剤を塗布する（ステ
ップ２７）。

次に、上記製造方法で製造された磁気に録媒体の表面特
性をデータゾーン２とＣ３Ｓ／−ン３とに分けて説明を
行う。

先ず、第５図及び第６図を用いて基板１上の表面粗さを
説明する。これら２つの図を比べてみるとわかるように
、データゾーン２の表面粗さ（中心線平均粗さ：Ｒａ　
６０〜７０Ａ）の方がＣＳＳゾーン３の表面粗さ（中心
線平均粗さ：Ｒａ　ｇｏ〜９０Ｘ）よりも小さくなって
いる。

次に、第７図及び第８図を用いて基板１上の摩擦特性を
説明する。これら２つの図で、（ａ）は１ｒｐｓで基板
１を回転させたときの摩擦係数を示し、（ｂ）は（ａ）
終了後、１１００ｒｐで基板１を１時間同転させたとき
の摩擦係数の変化を示し、（ｃ）はその後（ａ）と同じ
条件で基板１を同転させたときの摩擦係数の特性を示し
ている。

これら２つの図を比べるとわかるように、ＣＳＳゾーン
３の摩擦係数の方がデータゾーン２よりも小さく、ヘッ
ドが吸着しにくいことがわかる。

次ぎに、第９図及び第１０図を用いて基板１上のヘッド
の浮上特性を説明する。本測定はヘッド（ヘッドアーム
）に音響素子を設け、ヘッドが基板１上に接していると
、音響素子は電圧を出力し、ヘッドが基板１より浮上す
ると、音響素子はノイズレベルの電圧を出力するように
なっている。

これら２つの図を比べるとわかるように、ＣＳＳゾーン
３ては、浮上特性はよくないが、データゾーン２では低
同転よりヘッドは浮上するようになっている。

よって、上記製造方法では、ＣＳＳゾーン３ではヘッド
の吸着が発生せず、データゾーン２ではヘッドの低浮上
化が可能となる。そして、データのリード／ライト特性
が有利となり、記録密度の高密度化が可能となる。

又、スパッタリングの後で、選択的にデータゾーンのみ
を、再度テクスチャー処理（研磨）を行った。こうする
ことにより、確実に所望の表面組さを得ることができ、
バラツキを押えることができる。

尚、本発明は上記実施例に限るものではない。

例えば、上記実施例では、基板１はアルミニウム合金で
説明を行ったが、ガラス基板でもよいことはいうまでも
ない。

［発明の効果］ 以上説明したように本発明によれば、基板全体の表面粗
さをヘッドが吸着しない程度に加工する第１のテクスチ
ャー処理の工程（ステップ１１）と、データが書き込ま
れる磁性膜をスパッタリングにより形成する工程（ステ
ップ］２）と、前記磁性膜を保護する保護膜をスパッタ
リングにより形成する工程（ステップ１３）と、データ
ゾーンの表面粗さをＣＳＳゾーンより小さくする第２の
テクスチャー処理の工程（ステップ１４）とを設けた。

よって、ＣＳＳゾーンではヘッドの吸着が発生せず、デ
ータゾーンではヘッド低浮上化が可能な磁気記録媒体の
製造方法を実現できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の原理図、 第２図は本発明の磁気記録媒体の製造方法の一例を説明
する概略フロー図、 第３図は第２図に示す第２のテクスチャー処理の時に用
いられる研磨装置の平面構成図、第４図は第３図におけ
る部分断面構成図、第５図は第２図に示す製造方法で製
造された磁気記録媒体のＣＳＳゾーンの表面組さを説明
する図、 第６図は第２図に示す製造方法で製造された磁気記録媒
体のデータゾーンの表面粗さを説明する図、 第７図は第２図に示す製造方法で製造された磁気記録媒
体のＣＳＳゾーンの摩擦特性を説明する図、 第８図は第２図に示す製造方法で製造された磁気記録媒
体のデータゾーンの摩擦特性を説明する図、 第９図は第２図に示す製造方法で製造された磁気記録媒
体のＣＳＳゾーンでのヘッドの浮上特性を説明する図、 第１０図は第２図に示す製造方法で製造された磁気記録
媒体のデータゾーンでのヘッドの浮上特性を説明する図
、 第１１図は従来の磁気記録媒体の製造り法の概略を示す
フロー図である。 第１図乃至第１０図において １は基板、 ２はデータゾーン、 ３はＣＳＳゾーン、 ５はパッド、 ６はテープである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 データが書き込まれるデータゾーンと、ヘッドが接触す
   るＣＳＳゾーンとを有する磁気記録媒体の製造方法にお
   いて、 基板全体の表面粗さをヘッドが吸着しない程度に加工す
   る第１のテクスチャー処理の工程（ステップ１１）と、 データが書き込まれる磁性膜をスパッタリングにより形
   成する工程（ステップ１２）と、 前記磁性膜を保護する保護膜をスパッタリングにより形
   成する工程（ステップ１３）と、 データゾーンの表面粗さをＣＳＳゾーンより小さくする
   第２のテクスチャー処理の工程（ステップ１４）とを有
   することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。