JPH06203371A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH06203371A JPH06203371A JP36106092A JP36106092A JPH06203371A JP H06203371 A JPH06203371 A JP H06203371A JP 36106092 A JP36106092 A JP 36106092A JP 36106092 A JP36106092 A JP 36106092A JP H06203371 A JPH06203371 A JP H06203371A
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Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 28
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims abstract description 22
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 7
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 claims abstract 6
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 claims abstract 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 238000005188 flotation Methods 0.000 abstract 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 10
- SNAAJJQQZSMGQD-UHFFFAOYSA-N aluminum magnesium Chemical compound [Mg].[Al] SNAAJJQQZSMGQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 4
- 238000007516 diamond turning Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynenickel Chemical compound [P].[Ni] OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 鏡面仕上げ時の表面粗さを保持するとともに
均一な表面粗さを有し、さらにモジュレーションのない
安定した再生出力エンベロープ波形を得ることができ、
しかも磁気ヘッドと密着することなく磁気ヘッドの浮上
量を低下させることができる磁気記録媒体を提供するこ
と。 【構成】 アルミニウム合金基板上に無電解Ｎｉ−Ｐメ
ッキを施した磁気記録媒体において、鏡面加工を行った
無電解Ｎｉ−Ｐメッキ表面７に鏡面加工時と同等の表面
粗さを有する微細な同心円模様３をクリーニングテープ
８とローラー９を用いて形成するという構成を採ってい
る。
均一な表面粗さを有し、さらにモジュレーションのない
安定した再生出力エンベロープ波形を得ることができ、
しかも磁気ヘッドと密着することなく磁気ヘッドの浮上
量を低下させることができる磁気記録媒体を提供するこ
と。 【構成】 アルミニウム合金基板上に無電解Ｎｉ−Ｐメ
ッキを施した磁気記録媒体において、鏡面加工を行った
無電解Ｎｉ−Ｐメッキ表面７に鏡面加工時と同等の表面
粗さを有する微細な同心円模様３をクリーニングテープ
８とローラー９を用いて形成するという構成を採ってい
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体に係り、
とくに磁気ヘッドの浮上量を低下させて記録密度を増加
させるのに好適な磁気記録媒体に関する。
とくに磁気ヘッドの浮上量を低下させて記録密度を増加
させるのに好適な磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録媒体は、円周内の再生出力を均
一にし、再生出力エンベロープ波形にモジュレーション
が生じるのを防ぐために円周内で均一な磁気的特性の分
布を持つことが重要である。そのためには、磁性体結晶
粒の配向を揃え、磁気異方性を高める必要がある。
一にし、再生出力エンベロープ波形にモジュレーション
が生じるのを防ぐために円周内で均一な磁気的特性の分
布を持つことが重要である。そのためには、磁性体結晶
粒の配向を揃え、磁気異方性を高める必要がある。
【０００３】従来における磁気記録媒体の作成手順を以
下に説明する。
下に説明する。
【０００４】アルミ合金製の基板表面に無電解ニッケ
ル−リン（Ｎｉ−Ｐ）メッキを施す。
ル−リン（Ｎｉ−Ｐ）メッキを施す。
【０００５】無電解Ｎｉ−Ｐメッキを施された基板表
面を、ダイヤモンドバイトを用いたダイヤモンドターニ
ング加工等により表面粗さが１００オングストロームＲ
ｔｍ程度になるまで鏡面加工を行う。
面を、ダイヤモンドバイトを用いたダイヤモンドターニ
ング加工等により表面粗さが１００オングストロームＲ
ｔｍ程度になるまで鏡面加工を行う。
【０００６】鏡面加工を行った基板表面に砥粒テープ
を用いて同心円状に表面粗さ４００〜６００オングスト
ロームＲｔｍ程度の溝を形成する。これは、後工程で行
われる磁性膜の形成時に磁性体結晶粒の配向を揃えるた
めと、磁気ヘッドが磁気記録媒体表面に密着するのを防
止するためである。
を用いて同心円状に表面粗さ４００〜６００オングスト
ロームＲｔｍ程度の溝を形成する。これは、後工程で行
われる磁性膜の形成時に磁性体結晶粒の配向を揃えるた
めと、磁気ヘッドが磁気記録媒体表面に密着するのを防
止するためである。
【０００７】インラインタイプのスパッタリング装置
を用いて基板上に下地膜を形成する。
を用いて基板上に下地膜を形成する。
【０００８】インラインタイプのスパッタリング装置
を用いて下地膜の上に磁性膜を形成する。
を用いて下地膜の上に磁性膜を形成する。
【０００９】インラインタイプのスパッタリング装置
を用いて磁性膜の上に保護膜を形成する。
を用いて磁性膜の上に保護膜を形成する。
【００１０】なお、上記における処理方法、すなわち
鏡面加工を行った基板表面に同心円状に溝を形成する方
法として、ダイヤモンドバイトを用い数値制御されたダ
イヤモンドターニング加工によるものが公開特許公報
（Ａ）平２−１３２６２９にて公表されている。
鏡面加工を行った基板表面に同心円状に溝を形成する方
法として、ダイヤモンドバイトを用い数値制御されたダ
イヤモンドターニング加工によるものが公開特許公報
（Ａ）平２−１３２６２９にて公表されている。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例においては、鏡面仕上げを行った後、砥粒テープで
同心円状に粗さ４００〜６００オングストロームＲｔｍ
程度の溝を形成しているために、磁気ヘッドの浮上量を
０．０５μｍ以下に下げると浮上姿勢が乱れてしまい、
磁気ヘッドの浮上量を低下させて記録密度を増加させる
ことが困難であるという不都合があった。
来例においては、鏡面仕上げを行った後、砥粒テープで
同心円状に粗さ４００〜６００オングストロームＲｔｍ
程度の溝を形成しているために、磁気ヘッドの浮上量を
０．０５μｍ以下に下げると浮上姿勢が乱れてしまい、
磁気ヘッドの浮上量を低下させて記録密度を増加させる
ことが困難であるという不都合があった。
【００１２】さらに、同心円状の溝形成に研磨砥粒を用
いているために、無電解Ｎｉ−Ｐメッキの表面粗さを均
一に制御することが難しく、磁気ヘッドの浮上量を低下
させて記録密度を増加させることを妨げているという問
題点があった。
いているために、無電解Ｎｉ−Ｐメッキの表面粗さを均
一に制御することが難しく、磁気ヘッドの浮上量を低下
させて記録密度を増加させることを妨げているという問
題点があった。
【００１３】また、ダイヤモンドバイトを用い数値制御
されたダイヤモンドターニング加工による場合は処理操
作が複雑であり、しかも処理時間が長いという欠点があ
った。
されたダイヤモンドターニング加工による場合は処理操
作が複雑であり、しかも処理時間が長いという欠点があ
った。
【００１４】
【発明の目的】本発明の目的は、かかる従来例の有する
不都合を改善し、とくに短い処理時間で製造が可能であ
り、鏡面仕上げ時の表面粗さを保持するとともに均一な
表面粗さを有し、さらにモジュレーションのない安定し
た再生出力エンベロープ波形を得ることができ、しかも
磁気ヘッドと密着することなく磁気ヘッドの浮上量を低
下させることができる磁気記録媒体を提供することにあ
る。
不都合を改善し、とくに短い処理時間で製造が可能であ
り、鏡面仕上げ時の表面粗さを保持するとともに均一な
表面粗さを有し、さらにモジュレーションのない安定し
た再生出力エンベロープ波形を得ることができ、しかも
磁気ヘッドと密着することなく磁気ヘッドの浮上量を低
下させることができる磁気記録媒体を提供することにあ
る。
【００１５】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明では、ア
ルミニウム合金基板上に無電解Ｎｉ−Ｐメッキを施した
磁気記録媒体において、鏡面加工を行った無電解Ｎｉ−
Ｐメッキ表面に鏡面加工時と同等の表面粗さを有する微
細な同心円模様をクリーニングテープとローラーを用い
て形成するという構成を採っている。これによって前述
した目的を達成しようとするものである。
ルミニウム合金基板上に無電解Ｎｉ−Ｐメッキを施した
磁気記録媒体において、鏡面加工を行った無電解Ｎｉ−
Ｐメッキ表面に鏡面加工時と同等の表面粗さを有する微
細な同心円模様をクリーニングテープとローラーを用い
て形成するという構成を採っている。これによって前述
した目的を達成しようとするものである。
【００１６】
【作用】鏡面加工を行った基板を回転させ、その表面に
クリーニングテープをローラーにて押し付けることによ
り規則的・周期的な超微細溝を同心円方向に形成する。
クリーニングテープをローラーにて押し付けることによ
り規則的・周期的な超微細溝を同心円方向に形成する。
【００１７】
【発明の実施例】以下、本発明の一実施例を図１ないし
図５に基づいて説明する。
図５に基づいて説明する。
【００１８】図１の実施例は、磁気ディスク基板の材料
であるアルミニウム−マグネシウム（Ａｌ−Ｍｇ）合金
基板１と、Ａｌ−Ｍｇ合金基板１の表面に施された無電
解Ｎｉ−Ｐメッキ層２と、磁性膜の形成時に磁性体結晶
粒の配向を揃えるためおよび磁気ヘッドが磁気記録媒体
表面に密着するのを防止するために無電解Ｎｉ−Ｐメッ
キ層２の表面に形成された規則的・周期的な超微細溝３
と、磁性膜の密着性を向上させるために超微細溝３の上
に形成された下地膜４と、データを記憶するために下地
膜４の上に形成された磁性膜５と、磁性膜５を保護する
ために磁性膜５の上に形成された保護膜６とから構成さ
れる。
であるアルミニウム−マグネシウム（Ａｌ−Ｍｇ）合金
基板１と、Ａｌ−Ｍｇ合金基板１の表面に施された無電
解Ｎｉ−Ｐメッキ層２と、磁性膜の形成時に磁性体結晶
粒の配向を揃えるためおよび磁気ヘッドが磁気記録媒体
表面に密着するのを防止するために無電解Ｎｉ−Ｐメッ
キ層２の表面に形成された規則的・周期的な超微細溝３
と、磁性膜の密着性を向上させるために超微細溝３の上
に形成された下地膜４と、データを記憶するために下地
膜４の上に形成された磁性膜５と、磁性膜５を保護する
ために磁性膜５の上に形成された保護膜６とから構成さ
れる。
【００１９】ここで、超微細溝３は、図２に示されるよ
うに同心円状に形成されている。
うに同心円状に形成されている。
【００２０】次に、本発明に掛かる磁気記録媒体の作成
方法について説明する。
方法について説明する。
【００２１】Ａｌ−Ｍｇ合金基板１の上に無電解Ｎｉ
−Ｐメッキを施し、無電解Ｎｉ−Ｐメッキ層２を形成す
る。
−Ｐメッキを施し、無電解Ｎｉ−Ｐメッキ層２を形成す
る。
【００２２】無電解Ｎｉ−Ｐメッキを施された基板表
面を、ダイヤモンドバイトを用いたダイヤモンドターニ
ング加工等により表面粗さが１００オングストロームＲ
ｔｍ程度になるまで鏡面加工を行う。
面を、ダイヤモンドバイトを用いたダイヤモンドターニ
ング加工等により表面粗さが１００オングストロームＲ
ｔｍ程度になるまで鏡面加工を行う。
【００２３】図３に示されるように、鏡面加工を行っ
た基板７を回転させ、この回転している基板７の表面に
クリーニングテープ８をローラー９を用いて押し付ける
ことにより規則的・周期的な超微細溝３を同心円方向に
形成する。
た基板７を回転させ、この回転している基板７の表面に
クリーニングテープ８をローラー９を用いて押し付ける
ことにより規則的・周期的な超微細溝３を同心円方向に
形成する。
【００２４】ここで、クリーニングテープ８の粗さとロ
ーラー９の押し付け力と基板７の回転速度には相関関係
がある。
ーラー９の押し付け力と基板７の回転速度には相関関係
がある。
【００２５】インラインタイプのスパッタリング装置
により、超微細溝３の上に下地膜４を形成する。
により、超微細溝３の上に下地膜４を形成する。
【００２６】インラインタイプのスパッタリング装置
により、下地膜４の上に磁性膜５を形成する。
により、下地膜４の上に磁性膜５を形成する。
【００２７】インラインタイプのスパッタリング装置
により、磁性膜５の上に保護膜６を形成する。
により、磁性膜５の上に保護膜６を形成する。
【００２８】次に、本発明による磁気記録媒体の磁気ヘ
ッド浮上量に関する特性について図４を用いて説明す
る。
ッド浮上量に関する特性について図４を用いて説明す
る。
【００２９】ここでは、鏡面加工した表面粗さ１００オ
ングストロームＲｔｍの基板上に下地膜、磁性膜および
保護膜を形成した供試体を磁気記録媒体Ａ、鏡面加工に
より表面粗さ１００オングストロームＲｔｍとした後、
同心円方向に超微細溝を形成し、さらに下地膜、磁性膜
および保護膜を形成した供試体を磁気記録媒体Ｂ、鏡面
加工後に同心円方向に表面粗さ４００オングストローム
Ｒｔｍのテクスチャーを形成し、さらに下地膜、磁性膜
および保護膜を形成した供試体を磁気記録媒体Ｃとし、
磁気ヘッド浮上量に対する磁気ヘッドと各磁気記録媒体
Ａ，Ｂ，Ｃの接触回数を調査した。
ングストロームＲｔｍの基板上に下地膜、磁性膜および
保護膜を形成した供試体を磁気記録媒体Ａ、鏡面加工に
より表面粗さ１００オングストロームＲｔｍとした後、
同心円方向に超微細溝を形成し、さらに下地膜、磁性膜
および保護膜を形成した供試体を磁気記録媒体Ｂ、鏡面
加工後に同心円方向に表面粗さ４００オングストローム
Ｒｔｍのテクスチャーを形成し、さらに下地膜、磁性膜
および保護膜を形成した供試体を磁気記録媒体Ｃとし、
磁気ヘッド浮上量に対する磁気ヘッドと各磁気記録媒体
Ａ，Ｂ，Ｃの接触回数を調査した。
【００３０】図４に示されるように、接触回数が増加し
はじめるときの磁気ヘッド浮上量に関しては、テクスチ
ャーを形成した従来の磁気記録媒体Ｃの約０．０４５μ
ｍに比べ、鏡面加工した基板を用いた磁気記録媒体Ａお
よび超微細溝を形成した本発明による磁気記録媒体Ｂに
おいては約０．０３μｍとかなり低くなっている。
はじめるときの磁気ヘッド浮上量に関しては、テクスチ
ャーを形成した従来の磁気記録媒体Ｃの約０．０４５μ
ｍに比べ、鏡面加工した基板を用いた磁気記録媒体Ａお
よび超微細溝を形成した本発明による磁気記録媒体Ｂに
おいては約０．０３μｍとかなり低くなっている。
【００３１】また、図４に示されるように、鏡面加工し
た基板を用いた磁気記録媒体Ａと超微細溝を形成した本
発明による磁気記録媒体Ｂにおいては、接触回数が増加
しはじめる磁気ヘッド浮上量にほとんど差がない。
た基板を用いた磁気記録媒体Ａと超微細溝を形成した本
発明による磁気記録媒体Ｂにおいては、接触回数が増加
しはじめる磁気ヘッド浮上量にほとんど差がない。
【００３２】このことから、超微細溝を形成した本発明
による磁気記録媒体Ｂは、鏡面加工した基板を用いた磁
気記録媒体Ａと同程度まで磁気ヘッド浮上量を下げるこ
とが可能である。
による磁気記録媒体Ｂは、鏡面加工した基板を用いた磁
気記録媒体Ａと同程度まで磁気ヘッド浮上量を下げるこ
とが可能である。
【００３３】さらに、本発明による磁気記録媒体の再生
出力エンベロープ波形の特性について図５を用いて説明
する。
出力エンベロープ波形の特性について図５を用いて説明
する。
【００３４】ここでは図４の場合と同様に、鏡面加工し
た表面粗さ１００オングストロームＲｔｍの基板上に下
地膜、磁性膜および保護膜を形成した供試体を磁気記録
媒体Ａ、鏡面加工し表面粗さ１００オングストロームＲ
ｔｍとした後、同心円方向に超微細溝を形成し、さらに
下地膜、磁性膜および保護膜を形成した供試体を磁気記
録媒体Ｂ、鏡面加工後に同心円方向に表面粗さ４００オ
ングストロームＲｔｍのテクスチャーを形成し、さらに
下地膜、磁性膜および保護膜を形成した供試体を磁気記
録媒体Ｃについて、再生出力エンベロープ波形を調査し
た。
た表面粗さ１００オングストロームＲｔｍの基板上に下
地膜、磁性膜および保護膜を形成した供試体を磁気記録
媒体Ａ、鏡面加工し表面粗さ１００オングストロームＲ
ｔｍとした後、同心円方向に超微細溝を形成し、さらに
下地膜、磁性膜および保護膜を形成した供試体を磁気記
録媒体Ｂ、鏡面加工後に同心円方向に表面粗さ４００オ
ングストロームＲｔｍのテクスチャーを形成し、さらに
下地膜、磁性膜および保護膜を形成した供試体を磁気記
録媒体Ｃについて、再生出力エンベロープ波形を調査し
た。
【００３５】鏡面加工した基板を用いた磁気記録媒体Ａ
では、図５（ａ）に示されるように、再生出力エンベロ
ープ波形にモジュレーションが現れているが、超微細溝
を形成した本発明による磁気記録媒体Ｂおよびテクスチ
ャーを形成した従来の磁気記録媒体Ｃでは図５（ｂ）に
示されるように、再生出力エンベロープ波形にモジュレ
ーションは現れていない。
では、図５（ａ）に示されるように、再生出力エンベロ
ープ波形にモジュレーションが現れているが、超微細溝
を形成した本発明による磁気記録媒体Ｂおよびテクスチ
ャーを形成した従来の磁気記録媒体Ｃでは図５（ｂ）に
示されるように、再生出力エンベロープ波形にモジュレ
ーションは現れていない。
【００３６】すなわち、超微細溝を形成することによ
り、モジュレーションを打ち消すことが可能である。
り、モジュレーションを打ち消すことが可能である。
【００３７】以上説明したように、表面粗さ１００オン
グストロームＲｔｍ程度に鏡面加工した無電解Ｎｉ−Ｐ
メッキ表面に、表面粗さを増加させることなく規則的・
周期的な同心円方向の超微細溝を形成することにより、
磁気記録媒体は、超微細溝の形状的な影響あるいは超微
細溝形成に伴う基板表面への同心円方向の応力の影響に
より磁性材料たとえばＣｏ（コバルト）の結晶粒が同心
円方向に配向する。この結果、磁気記録媒体の円周内で
の磁気的特性が均一となり、モジュレーションのない再
生出力エンベロープ波形を示す。さらに、磁気記録媒体
の表面粗さが１００オングストロームＲｔｍ程度と鏡面
加工した磁気記録媒体と同等に非常に平滑であるため、
磁気ヘッド浮上量を０．０３５μｍ程度にまで下げるこ
とが可能である。
グストロームＲｔｍ程度に鏡面加工した無電解Ｎｉ−Ｐ
メッキ表面に、表面粗さを増加させることなく規則的・
周期的な同心円方向の超微細溝を形成することにより、
磁気記録媒体は、超微細溝の形状的な影響あるいは超微
細溝形成に伴う基板表面への同心円方向の応力の影響に
より磁性材料たとえばＣｏ（コバルト）の結晶粒が同心
円方向に配向する。この結果、磁気記録媒体の円周内で
の磁気的特性が均一となり、モジュレーションのない再
生出力エンベロープ波形を示す。さらに、磁気記録媒体
の表面粗さが１００オングストロームＲｔｍ程度と鏡面
加工した磁気記録媒体と同等に非常に平滑であるため、
磁気ヘッド浮上量を０．０３５μｍ程度にまで下げるこ
とが可能である。
【００３８】
【発明の効果】本発明は以上のように構成され機能する
ので、これによると、短い処理時間で製造が可能であ
り、鏡面仕上げ時の表面粗さを保持するとともに均一な
表面粗さおよび円周内での磁気的特性が担保され、これ
がためモジュレーションのない安定した再生出力エンベ
ロープ波形を得ることができ、しかも磁気ヘッドと密着
することなく磁気ヘッドの浮上量を低下させて記録密度
を増加させることができる従来にない優れた磁気記録媒
体を提供することができる。
ので、これによると、短い処理時間で製造が可能であ
り、鏡面仕上げ時の表面粗さを保持するとともに均一な
表面粗さおよび円周内での磁気的特性が担保され、これ
がためモジュレーションのない安定した再生出力エンベ
ロープ波形を得ることができ、しかも磁気ヘッドと密着
することなく磁気ヘッドの浮上量を低下させて記録密度
を増加させることができる従来にない優れた磁気記録媒
体を提供することができる。
【図１】本発明の一実施例を示す断面図である。
【図２】図１における超微細溝を説明するための説明図
である。
である。
【図３】図１における超微細溝の形成方法を説明するた
めの説明図である。
めの説明図である。
【図４】本発明による磁気記録媒体および従来の磁気記
録媒体に関する磁気ヘッド浮上量の特性を説明するため
の説明図である。
録媒体に関する磁気ヘッド浮上量の特性を説明するため
の説明図である。
【図５】本発明による磁気記録媒体および従来の磁気記
録媒体に関する再生出力エンベロープ波形の特性を説明
するための説明図である。
録媒体に関する再生出力エンベロープ波形の特性を説明
するための説明図である。
１ Ａｌ−Ｍｇ合金基板 ２ 無電解Ｎｉ−Ｐメッキ層 ３ 超微細溝 ４ 下地膜 ５ 磁性膜 ６ 保護膜 ７ 無電解Ｎｉ−Ｐメッキを施したＡｌ−Ｍｇ合金基板 ８ クリーニングテープ ９ ローラー
Claims (3)
- 【請求項１】 アルミニウム合金基板上に無電解Ｎｉ−
Ｐメッキを施した磁気記録媒体において、鏡面加工を行
った前記無電解Ｎｉ−Ｐメッキ表面に鏡面加工時と同等
の表面粗さを有する微細な同心円模様を形成することを
特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】 前記同心円模様の表面粗さが１００オン
グストロームＲｔｍ程度であることを特徴とする請求項
１記載の磁気記録媒体。 - 【請求項３】 アルミニウム合金基板上に無電解Ｎｉ−
Ｐメッキを施した後、前記無電解Ｎｉ−Ｐメッキ表面に
鏡面加工を行い、さらにクリーニングテープをローラー
で前記無電解Ｎｉ−Ｐメッキ表面に押しつけることによ
り微細な同心円模様を形成することを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36106092A JPH06203371A (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36106092A JPH06203371A (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06203371A true JPH06203371A (ja) | 1994-07-22 |
Family
ID=18472030
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36106092A Pending JPH06203371A (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06203371A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2006135085A1 (ja) * | 2005-06-15 | 2009-01-08 | ボッシュ株式会社 | 高圧シール構造、高圧シール面の加工方法及び燃料噴射弁 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5982626A (ja) * | 1982-11-01 | 1984-05-12 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 磁気デイスク基板 |
| JPS6129418A (ja) * | 1984-07-20 | 1986-02-10 | Nec Corp | 磁気デイスク基板の加工方法 |
| JPS61202324A (ja) * | 1985-03-06 | 1986-09-08 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1992
- 1992-12-28 JP JP36106092A patent/JPH06203371A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5982626A (ja) * | 1982-11-01 | 1984-05-12 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 磁気デイスク基板 |
| JPS6129418A (ja) * | 1984-07-20 | 1986-02-10 | Nec Corp | 磁気デイスク基板の加工方法 |
| JPS61202324A (ja) * | 1985-03-06 | 1986-09-08 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気記録媒体 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2006135085A1 (ja) * | 2005-06-15 | 2009-01-08 | ボッシュ株式会社 | 高圧シール構造、高圧シール面の加工方法及び燃料噴射弁 |
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