JPH0327640B2 - - Google Patents

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JPH0327640B2
JPH0327640B2 JP60183082A JP18308285A JPH0327640B2 JP H0327640 B2 JPH0327640 B2 JP H0327640B2 JP 60183082 A JP60183082 A JP 60183082A JP 18308285 A JP18308285 A JP 18308285A JP H0327640 B2 JPH0327640 B2 JP H0327640B2
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JP
Japan
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concentration
salt solution
electrolysis
aqueous salt
stainless steel
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JP60183082A
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Makoto Mizuno
Kyotaka Taga
Hiroshi Arai
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Nippon Metal Industry Co Ltd
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Nippon Metal Industry Co Ltd
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  • Prevention Of Electric Corrosion (AREA)
  • Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野) 本発明はステンレス鋼の欠点である中性塩化物
環境などで発生する孔食、隙間腐食等の局部腐食
を防止し、比較的安価な汎用ステンレス鋼でも海
水などの使用に耐えるよう、表面処理により耐食
性を付与する方法に関する。 (従来の技術) ステンレス鋼の局部腐食防止法としては、従来
からMg、Zn、Al等を犠牲陽極すなわち消耗電極
として用い、陰極防食する方法が行なわれている
が、電極の消耗によりその寿命は短かく、電極の
交換などメンテナンスに手間がかかり、かつ、電
極取付けの困難な場所例えば管の内部等に対して
は適用し難い欠点がある。またこの方法では大気
中の塩分や海水飛沫等の付着により発生する乾湿
型の局部発錆を防止することは困難である。 一方、ステンレス鋼の局部腐食を材質的に抑制
するためには、高クロム、高ニツケル、高モリブ
デン等の高次の合金組成が必要であり、極めて高
価になる。その上、局部腐食の発生環境は、海水
はじめ地下水、工業用水、排水等極めて広範囲に
わたつており、局部腐食を成分組成から防止する
ことは経済的にも極めて困難である。本発明者ら
は、先願(特願昭59−208323)において、クロム
イオンを含有する特定の塩類水溶液で陰極電解処
理を行なう場合、汎用のステンレス鋼を使用して
も著しい耐食性の向上が得られることを見出した
が、その後更に研究したところ、該クロムイオン
含有水溶液に少量の硫酸第二チタンTi(SO4)2を
添加すると、特に優れた耐食性の向上が得られる
ことを見出し、本発明をなしたものである。 (発明の目的) 本発明は、先願発明を更に改良したもので、汎
用のステンレス鋼に、高い耐食性を付与する方法
を提供するものである。 (発明の構成) 本発明は、一般のステンレス鋼を濃度0.5〜20
%の塩類水溶液中に浸して、電流密度0〜5A/
dm2電解時間0〜10分の予備処理(陽極電解処
理)を行なつてステンレス鋼表面を清浄にし、か
つ活性化した後、下記(1)〜(6)の塩類水溶液中に浸
して陰極電解処理を行ない、鋼表面に対して水溶
液に含有する金属の反応生成化合物を鍍着させて
耐食性を付与するステンレス鋼の防食処理法であ
る。 塩類水溶液としては (1) 濃度0.001〜5.0%の硫酸第二チタンと濃度1.0
〜40%のCr6+を含む溶液。 (2) 濃度0.001〜5.0%の硫酸第二チタンと濃度0.1
〜20%のCr3+を含む溶液。 (3) 濃度0.001〜5.0%の硫酸第二チタンと濃度1.0
〜40%のCr6+と濃度0.1〜20%のCr3+とを含む
溶液。 (4) 前記(1)(2)(3)に更にクエン酸鉄アンモニウム
0.05〜2.0%、アンモニウムみようばん0.01〜
0.5%、硫安0.01〜2.0%などのアンモニウム塩
類を単独又は複数添加した溶液。 (5) (1)(2)(3)(4)に更に濃度0.1〜10%の範囲でCuイ
オンを含む塩類、Niイオンを含む塩類及びブ
ドウ糖を単独又は複数添加した溶液。 (6) 前記(1)(2)(3)(4)(5)に更に微量添加物として濃度
0.01〜0.5%の範囲でチオ尿素、でん粉、硼酸、
グリセリン及び亜ひ酸を単独又は複数添加した
溶液。 陰極電解条件としては、 電流密度0.1〜10A/dm2、電解時間1〜30分
である。 本発明は前記(1)〜(6)の塩類水溶液を使用する方
法であり、液組成及び濃度、電流密度、電解時間
等は各所定範囲内で適宜選択実施できる。 なお、予備処理として、塩類水溶液中で陽極電
解処理を行なうことが好ましいが、これを行なわ
ず陰極電解処理のみを実施しても、その表面特性
は改善され、有効な耐食性が付与される。 本発明の陰極電解処理によつて、ステンレス鋼
上に析出する反応生成化合物は、未だ明確に解明
されていないが、いわゆるメツキ処理によつて析
出される金属とは異なり、電解液中に含まれる各
金属イオンの複雑な水和物からなるものと考えら
れ、数μm以下の薄い着色皮膜で、海水中におい
ても溶解消失することはない。 本発明による防食効果の理論的説明は明らかで
ないが、実験的にその効果は十分に認められる。 陽極電解処理用の塩類水溶液としては、普通、
塩化錫、塩化亜鉛等の塩化物溶液を用いるが、特
にこれらの塩化物に限定されるものではなく、他
の塩類を自由に使用できる。 後続の陰極電解処理に使用するクロムイオンを
含む塩類水溶液と同一の塩類水溶液を、ステンレ
ス鋼の極性のみを変えて、陽極電解処理にも使用
するのが、作業性、経済性の点から最も好まし
い。 本発明で使用する液組成及び濃度、電流密度、
電解時間等を限定した理由は、これらの範囲内に
おいて、所期の耐食性が得られたからである。 実施例においては、Cr6+塩として重クロム酸ア
ンモニウム、Cr3+塩として、硫酸クロムをあげた
が、これに限定されるものではなく、他のCr塩
も使用できる。 なお、本発明において硫酸第二チタン、クエン
酸鉄アンモニウム、硫酸銅、硼酸、でん粉はステ
ンレス鋼表面の水和物被覆特性を改善し、硫安は
PHを安定させ、ブドウ糖はCr3+の安定化に効果が
ある。 また、チオ尿素、亜ひ酸は低電流電解に効果が
ある。以下、実施例により更に詳しく説明する。 (実施例) [海水浸漬による隙間腐食試験] 隙間腐食はステンレス鋼の局部腐食の中で最も
防止困難なものなので、海水による隙間腐食試験
を行ない、本発明による陰極電解処理の効果を確
認した。 海水浸漬T.P.の形状及びその取付方法は第1
図、第2図及び第3図に示す通りで、等間隙に孔
明加工4を施した2枚の塩ビ帯状板3,3の間に
ステンレス鋼T.P.1(150×25×1mm)を孔明部
分4と4の中間にはさみ、塩ビ製ボルト・ナツト
5を孔明部分4に差し込み40Kgfcmのトルクで締
めつけて、ステンレス鋼T.P.1を固定した。同
様にしてステンレス鋼T.P.を取り付けた塩ビ帯
状板3,3を製作した。T.P.を固定した2本の
塩ビ帯状板は、第2図のように並列的に塩ビ製枠
2に取付ける。 また、第3図のように塩ビ帯状板の下部板3の
端部を塩ビアングル2と塩ビボルト・ナツト5で
固定してもよい。第2図又は第3図のように固定
したT.P.1を海水に浸漬試験する。 試験はステンレルス鋼T.P.と塩ビ帯状板との
間に設定した隙間部における腐食の有無を検討し
た。試験に供したステンレス鋼の主要成分は第1
表に示す通りであり、防食処理を施した電解槽は
1槽(200mm深さ×50mm巾×100mm長さ)及び、
1/2槽(200mm深さ×25mm巾×100mm長さ)を使
用した。 本発明の防食効果は電解処理溶液の種類及び濃
度、電流密度、電解時間で決まるが、防食効果が
飽和する電解時間は使用する溶液の種類、溶液の
濃度、電流密度等によつて微妙に相違して必ずし
も一定しない。後述の実施例では、予備処理電解
時間を5分、陰極電解処理時間を10分とした。 このように各種塩類水溶液で電解処理した試験
片の海水浸漬隙間腐食試験結果を第3表及び第4
表に示す。 また、比較材として未処理材の海水浸漬隙間腐
食試験結果を第2表に示す。 第2表及び第3表及び第4表で明らかなように
ステンレス鋼表面を陰極電解処理した試験片の寿
命(発銹するまでの時間を日数であらわしたも
の)は、未処理材の3日以内と大きく異なり、そ
の耐食性が著しく向上しており、304で4.5年を超
える寿命を示し、なお試験を継続中であり、更に
寿命の伸びが期待される。なお、電解処理水溶液
はCr6+を含む塩類水溶液又はCr3+を含む塩類水溶
液それぞれ単独でも防食効果があるが、それらの
混液の方が一層効果がある。 また、電解処理で、通常、表面清浄化及び活性
化のために予備処理を行なうが、行なわない場合
でも、未処理材よりも耐食性は改善されている。
【表】
【表】
【表】 実施例中では予備処理(陽極電解処理)用の塩
類水溶液と陰極電解処理用の塩類水溶液が同一で
ある。表中、寿命が>で示されているものは、現
在試験がなお継続中のものである。
【表】 予備処理(陽極電解処理)用の塩類水溶液とカ
ソード処理(陰極電解処理)用の塩類水溶液は同
一のものを使用した。 (発明の効果) 本発明によるとステンレス鋼を陰極電解処理す
ることによりステンレス鋼の表面に電解液中に含
まれる各金属イオンの複雑な水和物からなる防食
化成膜が形成されると考えられ、この防食化成膜
により、ステンレス鋼を中性塩化物環境等で使用
する場合大巾な耐食性改善が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第3図は、隙間腐食試験T.P.の取付
け状態を示す説明図である。 1……ステンレス鋼T.P.、4……孔、2……
塩ビ枠(アングル)、5……塩ビボルト・ナツト、
3……塩ビ帯状板。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ステンレス鋼を濃度0.5〜20%の塩類水溶液
    中に浸して電流密度0〜5A/dm2、電解時間0
    〜10分の陽極電解処理を行なつて、その表面を清
    浄化し、活性化した後、濃度0.001〜5.0%の硫酸
    第二チタンと濃度1.0〜40%のCr6+を含む塩類水
    溶液中に浸漬し、電流密度0.1〜10A/dm2電解
    時間1〜30分のもとで、陰極電解処理を行なうこ
    とを特徴とするステンレス鋼の防食処理法。 2 陰極電解処理における塩類水溶液が、クエン
    酸鉄アンモニウム0.05〜2.0%、アンモニウムみ
    ようばん0.01〜0.5%、硫安0.01〜2.0%などのア
    ンモニウム塩類を単独又は複数含有する特許請求
    の範囲第1項記載の方法。 3 陰極電解処理における塩類水溶液が、濃度
    0.1〜10%の範囲で、Cuイオンを含む塩類、Niイ
    オンを含む塩類及びブドウ糖を単独又は複数含有
    する特許請求の範囲第1〜第2項のいずれか1つ
    に記載の方法。 4 陰極電解処理における塩類水溶液が、微量添
    加物として、濃度0.01〜0.5%の範囲で、チオ尿
    素、でん粉、硼酸、グリセリン及び亜ひ酸を単独
    又は複数含有する特許請求の範囲第1〜第3項の
    いずれか1つに記載の方法。 5 ステンレス鋼を濃度0.5〜20%の塩類水溶液
    中に浸して電流密度0〜5A/dm2、電解時間0
    〜10分の陽極電解処理を行なつて、その表面を清
    浄化し、活性化した後、濃度0.001〜5.0%の硫酸
    第二チタンと濃度0.1〜20%のCr3+を含む塩類水
    溶液中に浸漬し、電流密度0.1〜10A/dm2電解
    時間1〜30分のもとで、陰極電解処理を行なうこ
    とを特徴とするステンレス鋼の防食処理法。 6 陰極電解処理における塩類水溶液が、クエン
    酸鉄アンモニウム0.05〜2.0%、アンモニウムみ
    ようばん0.01〜0.5%、硫安0.01〜2.0%などのア
    ンモニウム塩類を単独又は複数含有する特許請求
    の範囲第5項記載の方法。 7 陰極電解処理における塩類水溶液が、濃度
    0.1〜10%の範囲で、Cuイオンを含む塩類、Niイ
    オンを含む塩類及びブドウ糖を単独又は複数含有
    する特許請求の範囲第5〜第6項のいずれか1つ
    に記載の方法。 8 陰極電解処理における塩類水溶液が、微量添
    加物として、濃度0.01〜0.5%の範囲で、チオ尿
    素、でん粉、硼酸、グリセリン及び亜ひ酸を単独
    又は複数含有する特許請求の範囲第5〜第7項の
    いずれか1つに記載の方法。 9 ステンレス鋼を濃度0.5〜20%の塩類水溶液
    中に浸して電流密度0〜5A/dm2、電解時間0
    〜10分の陽極電解処理を行なつて、その表面を清
    浄化し、活性化した後、濃度0.001〜5.0%の硫酸
    第二チタンと濃度1.0〜40%のCr6+と濃度0.1〜20
    %のCr3+とを含む塩類水溶液中に浸漬し、電流密
    度0.1〜10A/dm2、電解時間1〜30分のもとで
    陰極電解処理を行なうことを特徴とするステンレ
    ス鋼の防食処理法。 10 陰極電解処理における塩類水溶液が、クエ
    ン酸鉄アンモニウム0.05〜2.0%、アンモニウム
    みようばん0.01〜0.5%、硫安0.01〜2.0%などの
    アンモニウム塩類を単独又は複数含有する特許請
    求の範囲第9項記載の方法。 11 陰極電解処理における塩類水溶液が、濃度
    0.1〜10%の範囲で、Cuイオンを含む塩類、Niイ
    オンを含む塩類及びブドウ糖を単独又は複数含有
    する特許請求の範囲第9〜第10項のいずれか1
    つに記載の方法。 12 陰極電解処理における塩類水溶液が、微量
    添加物として、濃度0.01〜0.5%の範囲で、チオ
    尿素、でん粉、硼酸、グリセリン及び亜ひ酸を単
    独又は複数含有する特許請求の範囲第9〜第11
    項のいずれか1つに記載の方法。
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