JPH03284865A - リードフレーム - Google Patents

リードフレーム

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JPH03284865A
JPH03284865A JP2085583A JP8558390A JPH03284865A JP H03284865 A JPH03284865 A JP H03284865A JP 2085583 A JP2085583 A JP 2085583A JP 8558390 A JP8558390 A JP 8558390A JP H03284865 A JPH03284865 A JP H03284865A
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Japan
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lead
bonding
leads
bonding areas
bonding area
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JP2085583A
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Ryuji Ueda
龍二 上田
Nobuhito Iizuka
飯塚 信仁
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Toppan Printing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体装置用のリードフレームに関するもの
である。
〔従来の技術〕
従来、半導体装置用のリードフレームを製造するに当た
っては、所定素材からなる薄い金属板をリードフレーム
用材とし、これをエツチング手法を用いて加工しており
、半導体素子が載置されるタブ部、このタブ部を囲むよ
うに配置されるインナーリード部、このインナーリード
部に連続するアウターリード部などを得るために、所定
の形成パターンでレジスト剤を前記用材に施し、このの
ちエツチング液によって不要部分を腐食除去してリード
フレームが得られていた。
また昨今においては、リードフレームが超多ピンの半導
体装置に対応できるようにとの要望がでてきたことから
、第5図に示すように、リードフレームにおけるインナ
ーリード部のり一ド1のピッチAを詰めてインナーリー
ド部におけるり−ド1の本数が多くなるように試みられ
ている。
このようにリード1のピッチAが小さいリードフレーム
を製造する場合には、第6図に示すように、用材aにお
けるインナーリード部形成部に対して、上下方向からリ
ード形成パターンでレジスト剤を施し、これをエツチン
グ(例えばエツチング溶液として塩化第二鉄溶液を使用
する)してインナーリード部を得るようにしている。
そして、リードの上面においては、ボンディングエリア
2を確保するために、ある程度の平坦幅すが必要である
ことから、用材裏面側からのエツチングが速く進むよう
に処理されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、上述したように用材裏面側からのエツチ
ング速度が速いために、第6図と第7図に示すように、
リード1の下面部の形状が細くなってリードの剛性が低
下し、リード1へのボンディング時にこのリード1が横
に反れ、ボンディング不良を生じるという問題があった
そこで本発明は、リードピッチを大きくすることなく、
リードにおけるボンディングエリア部分の反れを無くす
ことを課題とし、超多ピンの半導体装置に対応でき、か
つボンディング不良が発生しないリードフレームを開発
することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、上記した課題を考慮してなされたもので、イ
ンナーリード部のリード上面におけるボンディングエリ
アからリード先端側の前方上面部形状が細く設けられ、
前記ボンディングエリアに対応するリード裏面のボンデ
ィング対応部からリード基端側の後方下面部形状が細く
設けられていることを特徴とするリードフレームを提供
して、上記課題を解消するものである。
〔作 用〕
本発明においては、両面エツチングによりリードフレー
ムが製造されていて、ボンディングエリアにおけるリー
ド断面がほぼ矩形を呈してこのボンディングエリア部分
の剛性が高くなる。
このリードを配置するリードフレームを製造するにあた
っては、用材のインナーリード部形成部へのレジスト剤
のバターニングに際して、リード上面部形成パターン中
、リードの前方上面部に対応する前方上面部形成パター
ン部を狭<シ、かつリード上面部形成パターン中、リー
ドの後方下面部に対応する後方上面部形成パターン部を
狭くして、レジスト剤を設け、これをエツチングするこ
とにより得られるようになる。
〔実施例〕
つぎに、本発明を第1図から第4図に示す実施例に基づ
いて詳細に説明する。
すなわち本発明においては、リード1それぞれのリード
上面におけるボンディングエリア2からリード先端側の
前方上面部3の形状を細くし、前記ボンディングエリア
2からリード基端側の後方上面部4の形状を所定幅とし
て設ける(第1図)。そしてリード下面における前記ボ
ンディングエリア2と対応する対応部5からリード先端
側の前方下面部3の形状を所定幅として設けるとともに
(第3図)、前記対応部5からリード基端側の後方下面
部7の形状を細くして設けられている。
上記したリードの構造により、第2図に示すようにボン
ディングエリア2におけるリード断面はほぼ矩形となり
剛性が高くなる。
このリード1を得るレジスト剤のパターニングは、第4
図に示すように、リード上面部形成パターンC中、リー
ドの前方上面部3に対応する前方上面部形成パターン部
c3を狭くするとともに、後方上面部4に対応する後方
上面部形成パターン部c4を所定幅(リードの平坦幅が
エツチングにより得られる幅)とする。そしてリード下
面部形成パターンd中、リードの前方下面部6に対応す
る前方上面部形成パターン部d6を所定幅として設け、
後方下面部7に対応する後方上面部形成パターン部d7
を細(すればよい。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、リードフレーム
は、インナーリード部のリード上面におけるボンディン
グエリアからリード先端側の前方上面部形状が細く設け
られ、前記ボンディングエリアに対応するリード裏面の
ボンディングエリア対応部からリード基端側の後方下面
部形状が細く設けられているので、ボンディングエリア
部分のリード断面がほぼ矩形となって剛性が高く、ボン
ディング時にリードが反れなくなり、簡単なリード形状
によりボンディングが確実に行えるようになるなど、実
用性にすぐれた効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係るリードフレームの一実施例を上面
(ボンディング側)から示す説明図、第2図は一実施例
におけるリードの断面を示す説明図、第3図はリードの
下面を示す説明図、第4図はレジスト剤のパターンを示
す説明図、第5図は従来例を上面から示す説明図、第8
図は従来例におけるリードの断面を示す説明図、第7図
は従来例のリードの下面を示す説明図である。 1・・・リード 2・・・ボンディングエリア 3・・・前方上面部 4・・・後方上面部 5・・・対応部 6・・・前方下面部 7・・・後方下面部 C・・・リード上面部形成パターン d・・・リード下面部形成パターン

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  インナーリード部のリード上面におけるボンディング
    エリアからリード先端側の前方上面部形状が細く設けら
    れ、 前記ボンディングエリアに対応するリード裏面のボンデ
    ィングエリア対応部からリード基端側の後方下面部形状
    が細く設けられていることを特徴とするリードフレーム
JP2085583A 1990-03-30 1990-03-30 リードフレーム Expired - Fee Related JPH0828448B2 (ja)

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JPH0828448B2 JPH0828448B2 (ja) 1996-03-21

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