JPH03286568A - 集積回路装置 - Google Patents
集積回路装置Info
- Publication number
- JPH03286568A JPH03286568A JP8798690A JP8798690A JPH03286568A JP H03286568 A JPH03286568 A JP H03286568A JP 8798690 A JP8798690 A JP 8798690A JP 8798690 A JP8798690 A JP 8798690A JP H03286568 A JPH03286568 A JP H03286568A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- signal propagation
- integrated circuit
- potential
- circuit device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 2
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は集積回路装置の電極構造とその電位に関する。
[従来の技術]
従来、半導体集積回路装置における電極配線にはとりた
てて遮蔽電極が形成される事はながった又、プリント板
への配線等による集積回路装置に於てもとりたてて遮蔽
電極が形成される事もなく、ごく一部にシールド線によ
る配線が用いられ該シールド線の遮蔽電極も接地電位に
保持されるのが通例であった。
てて遮蔽電極が形成される事はながった又、プリント板
への配線等による集積回路装置に於てもとりたてて遮蔽
電極が形成される事もなく、ごく一部にシールド線によ
る配線が用いられ該シールド線の遮蔽電極も接地電位に
保持されるのが通例であった。
[発明が解決しようとする課題]
しかし、上記従来技術によると電極配線間容量が大きく
なり、該容量への充、放電により信号の伝搬速度が遅延
し、高速度動作が出来ないと云う課題があった。
なり、該容量への充、放電により信号の伝搬速度が遅延
し、高速度動作が出来ないと云う課題があった。
本発明は、かかる従来技術の課題を解決し、高速動作が
可能な集積回路装置の電極構造とその電位を提供する事
を目的とする。
可能な集積回路装置の電極構造とその電位を提供する事
を目的とする。
[課題を解決するための手段]
上記課題を解決するために、本発明は、集積回路装置に
関し、信号伝搬電極の周辺の少なくとも一部に遮蔽電極
を形成し、該遮蔽電極の電位を信号伝搬電極等の動作電
位と同等か約半分の直流電位に保つか、あるいは緩衝回
路と連結して信号伝搬電極とほぼ同電位に保つ手段を取
る。
関し、信号伝搬電極の周辺の少なくとも一部に遮蔽電極
を形成し、該遮蔽電極の電位を信号伝搬電極等の動作電
位と同等か約半分の直流電位に保つか、あるいは緩衝回
路と連結して信号伝搬電極とほぼ同電位に保つ手段を取
る。
[実施例]
以下、実施例により本発明を詳述する。
第1図は、本発明の一実施例を示す半導体集積回路装置
の電極配線構造を示す要部の断面図である。すたわち、
半導体基板1の表面には絶縁膜2を介して信号伝搬電極
5とその両端に遮蔽電極4が形成されて戊る。いま、基
板1を接地し、遮蔽電極4及び4′に動作電圧を5vの
例をとると、その半分の2.5■の直流電位を付与する
と、信号伝播電極3と隣接して設けられる他の信号伝播
電極3′及び3“との間の電気容量は約1/2となりそ
の分信号伝播速度は速くなる。但し、基板1が接地され
ているので基板との容量は減少しない事になるが、基板
を半導体に限らず金属板として、該金属板に2.5Vを
印加しておくと、基板との間の電気容量も1/2となり
、その分信号伝播速度を高速化できる。更に、遮蔽電極
4及び4′に信号伝播電極3に伝わる信号と同期した信
号電位を緩衝回路を用いて付与すると、信号伝播電極、
うと遮蔽電極4,4′間の電気容量は、同期信号の付与
の仕方にもよるが、約1/2からほぼ零程度に迄減少す
る事もできる。
の電極配線構造を示す要部の断面図である。すたわち、
半導体基板1の表面には絶縁膜2を介して信号伝搬電極
5とその両端に遮蔽電極4が形成されて戊る。いま、基
板1を接地し、遮蔽電極4及び4′に動作電圧を5vの
例をとると、その半分の2.5■の直流電位を付与する
と、信号伝播電極3と隣接して設けられる他の信号伝播
電極3′及び3“との間の電気容量は約1/2となりそ
の分信号伝播速度は速くなる。但し、基板1が接地され
ているので基板との容量は減少しない事になるが、基板
を半導体に限らず金属板として、該金属板に2.5Vを
印加しておくと、基板との間の電気容量も1/2となり
、その分信号伝播速度を高速化できる。更に、遮蔽電極
4及び4′に信号伝播電極3に伝わる信号と同期した信
号電位を緩衝回路を用いて付与すると、信号伝播電極、
うと遮蔽電極4,4′間の電気容量は、同期信号の付与
の仕方にもよるが、約1/2からほぼ零程度に迄減少す
る事もできる。
第2図は、本発明の他の実施例を示すプリント板等の電
極配線の要部の断面図である。すなわち絶縁体等から成
る基板11及び、あるいは絶縁膜12の表面に、信号伝
播電極15をとり囲む様に遮蔽電極14を形成したシー
ルド線と同等のものであり、信号伝播電極16と遮蔽電
極14との間は極力低誘電率の絶縁材で埋めるのが望ま
しく出来ればところどころに支柱を付けたエアー・アイ
ソレーションされたものが望ましい。いま、この信号伝
播電極15に伝播する信号を0〜5■のパルス信号だと
し、遮蔽電極14に5■または2.5■の直流電圧を印
加するが、前記信号伝播電極13に伝播するパルス信号
と同期した同電位のパルス信号を緩衝回路を用いて付与
すると、遮蔽電極14を接地した場合に比して電極間の
電気容量は約1/2からほぼ零近くに迄低減することが
でき、その分、信号伝播電極13を流れる信号の伝播遅
延速度を短かくする事ができる。
極配線の要部の断面図である。すなわち絶縁体等から成
る基板11及び、あるいは絶縁膜12の表面に、信号伝
播電極15をとり囲む様に遮蔽電極14を形成したシー
ルド線と同等のものであり、信号伝播電極16と遮蔽電
極14との間は極力低誘電率の絶縁材で埋めるのが望ま
しく出来ればところどころに支柱を付けたエアー・アイ
ソレーションされたものが望ましい。いま、この信号伝
播電極15に伝播する信号を0〜5■のパルス信号だと
し、遮蔽電極14に5■または2.5■の直流電圧を印
加するが、前記信号伝播電極13に伝播するパルス信号
と同期した同電位のパルス信号を緩衝回路を用いて付与
すると、遮蔽電極14を接地した場合に比して電極間の
電気容量は約1/2からほぼ零近くに迄低減することが
でき、その分、信号伝播電極13を流れる信号の伝播遅
延速度を短かくする事ができる。
尚、前記例でも示したが 集積回路装置にシールド線
による配線を行なう場合にも本発明が適用できることは
云うまでもない。
による配線を行なう場合にも本発明が適用できることは
云うまでもない。
[発明の効果コ
本発明により、高速動作が可能な集積回路装置を提供す
ることができる効果がある。
ることができる効果がある。
第1図
第1図及び第2図は本発明の実施例を示す集積回路装置
の電極配線部の要部の断面図である。 1.11・・・・・・基 板 2.12・・・・・・絶縁膜 5.3’、5“115,11,15”・・・・・・・・
・信号伝播電極 4.4’、14・・・・・・遮蔽電極 第2図
の電極配線部の要部の断面図である。 1.11・・・・・・基 板 2.12・・・・・・絶縁膜 5.3’、5“115,11,15”・・・・・・・・
・信号伝播電極 4.4’、14・・・・・・遮蔽電極 第2図
Claims (1)
- 信号伝搬電極の周辺の少なくとも一部に遮蔽電極が形
成されて成り、該遮蔽電極の電位を信号伝搬電極等の動
作電位と同等か約半分の直流電位となるか、あるいは、
緩衝回路と連結して信号伝搬電極とほぼ同電位に保つ事
を特徴とする集積回路装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8798690A JPH03286568A (ja) | 1990-04-02 | 1990-04-02 | 集積回路装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8798690A JPH03286568A (ja) | 1990-04-02 | 1990-04-02 | 集積回路装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03286568A true JPH03286568A (ja) | 1991-12-17 |
Family
ID=13930139
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8798690A Pending JPH03286568A (ja) | 1990-04-02 | 1990-04-02 | 集積回路装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03286568A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5910684A (en) * | 1995-11-03 | 1999-06-08 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuitry |
| US6091150A (en) * | 1996-09-03 | 2000-07-18 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuitry comprising electrically insulative material over interconnect line tops, sidewalls and bottoms |
| US6456117B2 (en) | 2000-07-24 | 2002-09-24 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Shield circuit and integrated circuit in which the shield circuit is used |
| JP2014187183A (ja) * | 2013-03-22 | 2014-10-02 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
-
1990
- 1990-04-02 JP JP8798690A patent/JPH03286568A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5910684A (en) * | 1995-11-03 | 1999-06-08 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuitry |
| US6066553A (en) * | 1995-11-03 | 2000-05-23 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor processing method of forming electrically conductive interconnect lines and integrated circuitry |
| US6432813B1 (en) | 1995-11-03 | 2002-08-13 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor processing method of forming insulative material over conductive lines |
| US6091150A (en) * | 1996-09-03 | 2000-07-18 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuitry comprising electrically insulative material over interconnect line tops, sidewalls and bottoms |
| US6456117B2 (en) | 2000-07-24 | 2002-09-24 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Shield circuit and integrated circuit in which the shield circuit is used |
| JP2014187183A (ja) * | 2013-03-22 | 2014-10-02 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
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