JPS62143243A - 光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光ディスクに関する。

光デイスク用の基板としては、従来、ガラス、ポリメチ
ルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、塩化ビニル、塩化ビニ
ルき酢酸ビニルとの共重合体などが用いられている。基
板にトラッキングガイドとして溝を形成する場合には、
通常、塩化ビニルを主として含むものの場合プレス法、
ポリメチルメタクリレートを主として含むものの場合射
出成形法が用いられる、これらの場合、溝を形成した原
盤の凹凸から、ニッケルなどの硬い金型を作り、これに
加熱した有機物を押し付ける、または流し込むことによ
って溝を複製する。しかし、このような複製が可能な有
機物は、常温でも変形し易く、また、表面に傷がつきや
すい。

機械的加圧に対して変形しにくい硬い材質と、溝の複製
が容易な材質とを貼り合れせて用いるのが、変形や傷を
防ぐのに有効とされている。しかし、通常これらの材質
間には熱膨張率の差があるので、一方の厚さを薄くシな
いと、温度変化によって反りが起こり忠実な複製ができ
ない。ところされている。

本発明の目的は、上述の欠点の無い、極めて安定で長寿
命の光デイスク用基板を有する光ディスクを提供するこ
とにある。

本発明の光ディスクは一例として次の如き構造となす。

化学強化ガラスよりなる基板の上部に膜厚がトラッキン
グ用凹凸の平均振幅より大なる第２の有機材料層と、鋳
型に注入して成型された第１の有機材料層とが少なくと
も積層される。まず第１の有機材料簿膜を常温で有機溶
剤で浴かしたり、あるいは低粘度の有機材料浴液をトラ
ッキング用溝または孔の隅々まで行き渡らせ、後、固化
させるので溝又は孔の形状が正確かつ忠実（こ転写され
る。

しかも、この第１の有機材料薄膜・層上に、上述の所定
の厚さで第２の有機材料薄膜５層が形成されているので
機械的強度が保たれる。また、この様に薄く形成されて
いるので基板と貼り合わせても反り、歪、クラックなど
の導入が無く高感度で記録孔が小さいという優れた記録
特性が得られる。

以下実施例を用いて詳細に説明する。

第１図１３乃至１ｆは、本発明の一実施例としての光デ
イスク用基板の製造工程概略図である。

図はいずれも基板断面図である。基板は円形で、その中
心に回転軸が通される開孔が存在する例である。

基板として厚さ１．１ｍｍ、外径３３０ｍｍ、内径７　
Ｑｍｍの、イオン交換法による化学強化ガラスを、そし
て軟かい有機材薄膜として厚さ０．０５ｍｍのセルロー
スアセテート膜を予じめ用意した。

まずトラッキングガイドである溝状の凹凸を持った金型
ｌに酢酸メチル２を流して一６ｋに儒れさせ、セルロー
スアセテートシート３を貼り付けた。

この時、酢酸メチルで溶解されたセルロースアセテート
が１２を形成し、固１こする。次にこのセルロースアセ
テートシートの反対側の面にエポキシ系接着剤４を乍り
、上記の化学強化ガラス５を貼り付けた。次に金型１を
一端から剥したところ、セルロースアセテート３は化学
強化カラス側に残り、溝を持った面が表われた。次にこ
の基板を真空蒸着装置に入れ、セルロースアセテート層
２上にＡｓ−ｔｅ−８ｅ系記録膜８を約４Ｑｎｍの膜厚
に蒸着した。次に該膜８の周辺の一部をアセトンなどで
拭きとる。次にこのディスクの蒸着膜を着けた側の内周
および外周に厚さＱ、　ｌ　ｍ　ｍのスペーサー６を貼
り付け、厚さ、内径、外径が上記のものと同じ保護用化
学強化ガラス７を貼り付けた。

この化学強化ガラスにも、対向する化学強化ガラス側の
面に有機物のシート（図示せず）を貼り付け、補強すれ
ばさらによい０スペーサー６の部分には、この有機物シ
ートや、セルロースアセテートシートが無い方が、接着
がさらに強くなる。

記録や読出しのレーザ光は、透明基板である化学強化ガ
ラス５側から入射させても、保穫用化学強化ガラス７０
１１１から入射させてもよい。

化学強化ガラスは薄くすることができ、強度も大きいの
で、基板用および保護用として最適である０ 化学強化ガラスと、セルロースアセテートその他との貼
り合わせは、上述の接着剤を用いる方法に限らず、溶媒
を塗布して貼り付け、固化させる方法、熱圧着、など桟
々の方法を用いることもできる。これについては後述す
る。また、上・ホのセルロースアセテート以外でも、烙
媒に俗けた後急速に固化するタイプの有機物は使用可能
である。

また、本発明の光ディスクは上述の様に、化学強化ガラ
スという硬い材質を基板の主要に用いるので、変形し難
くく、キズがつき難くく、経時変化が起らない。この化
学強化ガラスは、イオン交換法などζこよって、ガラス
表面に半径の大きな原子、分子、イオンなどを導入し、
圧縮応力を生じさせることによって強度が高められてい
る。

第２図２８乃至２ｅは、本発明の他の実施例としての光
デイスク用基板の製造工程概略図である。

硬い材質の基吻として厚さ１ｍｍ、外径３３０ｍｍ、内
径７９ｍｍのドーナツ状ＰＭＭＡ板と、軟かい有機材薄
膜として濃度（溶媒と溶質の重量比）または溶質の分子
量が異なる２種類のセルロースアセテート溶液（溶媒は
シクロヘキサノン）を用意する。凹凸を持った金型２Ｉ
に、まず薄い膜を得るのに適した濃度または分子量のセ
ルロースアセテート溶液を、スピンナーを用いて約１５
０ｎｍの平均膜厚に塗布して乾燥させ、＄１の塗布層２
２とした（２ａ）。次に、厚い膜を得るのに適したたと
えば粘度の高いセルロースアセテート溶液をこの上に流
しく２ｂ）、上記のＰＭＭＡ板２５を、気泡が出ないよ
うに一端から押し付けてゆき、完全に貼り付けた（２Ｃ
）。第２のセルロースアセテート層２３が固化した後金
型２工き分離した（２ｄ）。金型２１がビデオ、音声、
ディジタルなどの情報を持ったものの場合、このように
して形成したレプリカの凹凸面に金属を蒸着してそのま
ま情報を読出すことができる。金型２１がトラッキング
ガイド用の凹凸を持ったものの場合、このように形成し
たレプリカを基板とし、この上に情報記録用部材を被着
し、前述の実施例１と同様にして記録可能な光ディスク
とすることができる（２ｅ）。なお２６はスペーサ、２
７は保護用化学強化ガラスである。セルロースアセテー
ト２３の厚さは、ＰＭＭＡ板２５板厚５の１／２である
Ｑ、　５　ｍ　ｍを越すと、金型と分離後大きな反りを
生じ、記録や読出しが困難となるのでこれ以下の厚みで
あることが必要である。一方、セルロースアセテート層
２３の平均の厚さが、凹凸の平均撮幅である８Ｑｍｍ以
下であると、凹凸の底部のセルロースアセテ−１の厚さ
が不均一となるので、これ以上の厚みが必要である。ま
たセルロースアセテート層２３が特に薄くなるとＰ　Ｍ
ＭＡ板２５の貼り付けに紫外線硬化接着剤（例えば商品
名フォトボンド）を用いるとなおよい０本実施例ではセ
ルロースアセテートを溶媒に溶かしたものを用いたが、
七ツマ−や低分子量のものを塗布し、重合させるものも
工程を簡略化されるのでなおよい。

セルロースアセテート層２３の、より好ましい平均厚さ
は３００ｎｍ以上２００μｍ以下の範囲である。これは
層２３を形成する有機ｉ１［全てに共通する。

ＰＭＭＡ以外に、前述の化学強化ガラスは勿論、他に変
形しにくい他の樹脂、たとえばＣＲ−３９（ポレジグリ
コールジアリルカーボネート）、ＡＢ８樹脂、ＡＳ樹脂
（アクリロニトリル・スチレン樹脂）などを用いてもよ
い。

以上詳述したように、本発明は化学強化ガラスの基板上
に有機薄膜層を設けることによって優れた光デイスク用
基板が得られ、これを光ディスクとしたもので工業的利
益大なるものである。なお実施例に述べた方法の他、プ
レス（コンブレッジ１ン、エンボッシングなどとも呼ば
れる）法などによって凹凸を持った有機物、１を形成す
ることも不可能ではない。また、本発明は、（探）針を
用いて読出しを行なう方式のディスクにも適用可能であ
ることは画業者であれば容易に類推できるであろう。基
板に化学強化ガラスを用いることは、熱磁気記録ディス
クの場合や磁気ディスクの場合も有効である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に用いる基板の一実施例の製造工程概略
図、第２図は本発明に用いる基板の他の実施例の製造工
程概略図である０ １・・・金型、２・・・第１のセルロースアセテート層
、３・・・第２のセルロースアセテート層、４・・・接
着剤層、５・・・化学強化ガラス、６・・・スペーナ、
７・・・保護用化学強化ガラス、８・・・情報用記録部
材（Ａｓ−Ｔｅ−８ｅ系記録膜）０ 代理人　弁理士　小　川　勝　男 第７図 （ｌＬ）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 化学強化ガラスを基板としたことを特徴とする光ディス
   ク。