JPH03294180A - 低融点ガラスのパターニング方法 - Google Patents
低融点ガラスのパターニング方法Info
- Publication number
- JPH03294180A JPH03294180A JP9262690A JP9262690A JPH03294180A JP H03294180 A JPH03294180 A JP H03294180A JP 9262690 A JP9262690 A JP 9262690A JP 9262690 A JP9262690 A JP 9262690A JP H03294180 A JPH03294180 A JP H03294180A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- melting point
- low melting
- point glass
- glass layer
- resist film
- Prior art date
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- Granted
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- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は基板上に所定形状の低融点ガラス層を設ける低
融点ガラスのパターニング方法に関するものである。
融点ガラスのパターニング方法に関するものである。
ガラス基板上に低融点ガラスをバターニングする方法と
して、従来はペースト状の低融点ガラスをスクリーン印
刷等で基板上に印刷する方法がとられていた。
して、従来はペースト状の低融点ガラスをスクリーン印
刷等で基板上に印刷する方法がとられていた。
しかし上記従来の方法では低融点ガラスを微細なパター
ンでかつ厚く印刷することが不可能である。
ンでかつ厚く印刷することが不可能である。
〔課題を解決するための手段ゴ
本発明は上記従来の課題を解決するための手段として、
基板上に全面的に低融点ガラス層を形成し、該低融点ガ
ラス層表面を所定パターンを有するレジスト膜で被覆保
護した上でサンドブラスト装置で該低融点ガラスを彫刻
することにより、該低融点ガラスに所定パターンを形成
させる低融点ガラスのバターニング方法提供するもので
ある。
基板上に全面的に低融点ガラス層を形成し、該低融点ガ
ラス層表面を所定パターンを有するレジスト膜で被覆保
護した上でサンドブラスト装置で該低融点ガラスを彫刻
することにより、該低融点ガラスに所定パターンを形成
させる低融点ガラスのバターニング方法提供するもので
ある。
本発明を以下に詳細に説明する。
本発明に用いられる基材としてはガラス、金属。
セラミックス等があり、第１図に示すように基材（１）
上には全面的に低融点ガラス層（２）が形成される。該
基材（１）上に全面的に低融点ガラス層（２）を形成す
るにはペースト状の低融点ガラスをスクリーン印刷、ナ
イフコーター、ロールコータ−等により基材（１）表面
に塗布し乾燥固化させるのである。
上には全面的に低融点ガラス層（２）が形成される。該
基材（１）上に全面的に低融点ガラス層（２）を形成す
るにはペースト状の低融点ガラスをスクリーン印刷、ナ
イフコーター、ロールコータ−等により基材（１）表面
に塗布し乾燥固化させるのである。
上記低融点ガラス層（２）表面は所定パターンを有する
レジスト膜（４）で被覆保護される。このようなレジス
ト膜（４）としては１例えば特願平１−２２６１８４号
、特願平１−２２６１８５号、特願平１−２２６１８６
号等によって開示される方法で製造されたものが用いら
れる。
レジスト膜（４）で被覆保護される。このようなレジス
ト膜（４）としては１例えば特願平１−２２６１８４号
、特願平１−２２６１８５号、特願平１−２２６１８６
号等によって開示される方法で製造されたものが用いら
れる。
上記レジスト膜（４）で保護された低融点ガラス層（２
）に対してアルミナ、カーボランダム、ガラスピーズ等
の望ましくは２００番よりも細かい研磨材を用いてサン
ドブラスト装置で彫刻を行なう。
）に対してアルミナ、カーボランダム、ガラスピーズ等
の望ましくは２００番よりも細かい研磨材を用いてサン
ドブラスト装置で彫刻を行なう。
このようにして第２図に示すようにレジスト膜（４）で
保護された低融点ガラス層（２）部分以外の部分を完全
に削除して低融点ガラス層（２）に所定のパターンを彫
刻する。上記低融点ガラス層（２）の彫刻において基材
（１）を傷付けないようにする場合には、基材（］）の
硬度と同等、もしくは基材（１）より低い硬度であり、
かつ低融点ガラス層（２）より高い硬度の研磨材（例え
ばガラスピーズ）を用いることが望ましい。
保護された低融点ガラス層（２）部分以外の部分を完全
に削除して低融点ガラス層（２）に所定のパターンを彫
刻する。上記低融点ガラス層（２）の彫刻において基材
（１）を傷付けないようにする場合には、基材（］）の
硬度と同等、もしくは基材（１）より低い硬度であり、
かつ低融点ガラス層（２）より高い硬度の研磨材（例え
ばガラスピーズ）を用いることが望ましい。
このようにして基材（１）表面にレジスト膜（４）によ
って被覆された所定のパターンを有する低融点ガラス層
（２）が形成されるが、更にこれを焼成すれば、低融点
ガラス層（２）は溶融する。
って被覆された所定のパターンを有する低融点ガラス層
（２）が形成されるが、更にこれを焼成すれば、低融点
ガラス層（２）は溶融する。
このようにして第３図に示すように基材（１）表面に低
融点ガラス層（２）によるパターンが形成される。
融点ガラス層（２）によるパターンが形成される。
したがって本発明においては微細なパターンが彫刻出来
るサンドブラスト装置により低融点ガラス層を彫刻する
ので、基材表面に例えば微細なパターンで厚い低融点ガ
ラス層を形成させることが出来る。
るサンドブラスト装置により低融点ガラス層を彫刻する
ので、基材表面に例えば微細なパターンで厚い低融点ガ
ラス層を形成させることが出来る。
第１図〜第３図は本発明の詳細な説明する一実施例を示
すものであり、第１図はサンドブラスト前の説明図、第
２図はサンドブラスト後の説明図。 第３図は焼成後の説明図である。 図中、（１）・・・基材、（２）・・・低融点ガラス層
、（４）・・・レジスト膜
すものであり、第１図はサンドブラスト前の説明図、第
２図はサンドブラスト後の説明図。 第３図は焼成後の説明図である。 図中、（１）・・・基材、（２）・・・低融点ガラス層
、（４）・・・レジスト膜
Claims (1)
- 基板上に全面的に低融点ガラス層を形成し、該低融点ガ
ラス層表面を所定パターンを有するレジスト膜で被覆保
護した上でサンドブラスト装置で該低融点ガラスを彫刻
することにより、該低融点ガラスに所定パターンを形成
させることを特徴とする低融点ガラスのパターニング方
法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2092626A JPH0722893B2 (ja) | 1990-04-06 | 1990-04-06 | 低融点ガラスのパターニング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2092626A JPH0722893B2 (ja) | 1990-04-06 | 1990-04-06 | 低融点ガラスのパターニング方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03294180A true JPH03294180A (ja) | 1991-12-25 |
| JPH0722893B2 JPH0722893B2 (ja) | 1995-03-15 |
Family
ID=14059655
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2092626A Expired - Fee Related JPH0722893B2 (ja) | 1990-04-06 | 1990-04-06 | 低融点ガラスのパターニング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0722893B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5910396A (en) * | 1994-09-06 | 1999-06-08 | U.S. Philips Corporation | Method of patterned eroding of a coating provided on a substrate |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54113619A (en) * | 1978-02-24 | 1979-09-05 | Matsushita Electric Works Ltd | Preparation of frosted glass |
| JPS58109270A (ja) * | 1981-12-17 | 1983-06-29 | Hiroshi Osada | サンドプラスト彫刻方法 |
| JPS61142072A (ja) * | 1984-12-11 | 1986-06-28 | Ishizuka Glass Ltd | ガラス製品の装飾加工法 |
-
1990
- 1990-04-06 JP JP2092626A patent/JPH0722893B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54113619A (en) * | 1978-02-24 | 1979-09-05 | Matsushita Electric Works Ltd | Preparation of frosted glass |
| JPS58109270A (ja) * | 1981-12-17 | 1983-06-29 | Hiroshi Osada | サンドプラスト彫刻方法 |
| JPS61142072A (ja) * | 1984-12-11 | 1986-06-28 | Ishizuka Glass Ltd | ガラス製品の装飾加工法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5910396A (en) * | 1994-09-06 | 1999-06-08 | U.S. Philips Corporation | Method of patterned eroding of a coating provided on a substrate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0722893B2 (ja) | 1995-03-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |