JPH032987B2 - - Google Patents

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JPH032987B2
JPH032987B2 JP18609487A JP18609487A JPH032987B2 JP H032987 B2 JPH032987 B2 JP H032987B2 JP 18609487 A JP18609487 A JP 18609487A JP 18609487 A JP18609487 A JP 18609487A JP H032987 B2 JPH032987 B2 JP H032987B2
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tank
concentration
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titration
fabric
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JP18609487A
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Shoji Takahashi
Takao Mishima
Keiichi Yoneda
Tadashi Sano
Tomokazu Ishikawa
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Kanebo Ltd
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Kanebo Ltd
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【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、布帛の精練、漂白等の処理装置に関
する。
[従来の技術] 繊維特に天然繊維は種々の不純物を含有し、こ
の不純物は染色、化学処理加工等を行なう際の障
害となる。したがつて、この不純物を精練工程に
よつて除去する必要がある。また、繊維に含まれ
る微量の色素不純物は精練工程のみでは完全には
除去ができないため、漂白によつてこれを除去
し、布帛製品の白度向上又は鮮明な染色を可能に
する必要がある。
精練は、布帛に苛性ソーダ等の精練剤の水溶液
を含浸させることによつて行ない、漂白は、布帛
に次亜塩素酸ソーダ、過酸化水素等の漂白剤の水
溶液を含浸させることによつて行なう。これら処
理液の濃度が変化すると、布帛に処理むらが生
じ、製品の品質が不均一となる。さらに、この濃
度は布帛の種類に応じて適当な値に設定する必要
があることから、処理液の濃度は、布帛の種類ご
とに一定の値に保持しなければならない。しかし
ながら、処理液が布帛とともに処理槽から持出さ
れるため、その濃度は、処理の進行につれてしだ
いに低下する。
そこで、従来は、人手によつて次のような作業
を行つていた。すなわち、ある種類の布帛の処理
開始前には、処理液の原液又は水を処理槽に添加
混合することにより処理液の濃度をこの布帛の種
類に応じた適当な値に調整するとともに、処理中
は、断続的に処理液の濃度を測定し、濃度が低下
していることを発見したときにはそのつど処理液
の原液を添加混合して濃度が一定になるように調
整していた。しかしながら、この濃度調整に長時
間を要すると布帛の処理効率が悪くなることか
ら、熟練者が短時間でこの作業を実施する必要が
あるという問題があつた。また、濃度の調整が断
続的に行われるだけであつたため、処理液の濃度
変化が大きいという問題もあつた。
このため、特開昭60−110966号公報において、
布帛から絞りとられた処理液すなわち苛性ソーダ
水溶液に中和剤を添加する中和滴定によつてこの
処理液の濃度を自動的に測定しながら、同時にこ
の濃度をもとにして処理液の濃度が所定の濃度に
なるように苛性ソーダ原液を処理液に添加混合す
る処理液濃度の自動調整装置が提案された。
[発明が解決しようとする問題点] さて、処理液の濃度は、前記のように布帛の種
類に応じて変更しなければならず、ときには急激
な変化を要することもある。しかしながら、前記
の処理液濃度の自動調整装置を用いた従来の布帛
の精練、漂白等の処理装置では、処理液の濃度を
一定に保持することはできるけれども、この濃度
を所望の値に変更する手段を有していなかつたた
め、これを自動的に変更することができず、した
がつて種数種の布帛を連続的に処理することがで
きないという問題があつた。
そこで、本願出願人は、未だ公開されていない
特願昭61−86506号において、次のような布帛の
精練、漂白等の処理液の自動調整装置を提案し
た。すなわち、処理に先立つて予め布帛の種類に
関する処理の実行順序を決定し、この順序にした
がつて処理液濃度の設定値を記憶しておき、この
順序と同一の順序にしたがつて異なる種類の布帛
を継ぎ合せたものを処理槽内へ連続的に搬送す
る。一方、一定量の処理液を採取して処理液濃度
の実際値を滴定法により求めながら、この実際値
が前記設定値に等しくなるように処理液の原液ま
たは希釈液を処理槽に供給する。このようにして
処理液の濃度を布帛の種類に応じた所望の値に保
持する調整動作を実行しながら、前記継ぎ目を検
出したときには、次の設定値の入力を受け、次の
継ぎ目を検出するまではこの新たな設定値を用い
て調節動作を実行する。以上のような装置であつ
た。
ところが、この装置では、処理液の設定濃度が
急変すると処理液濃度の実際値を設定濃度に到達
させるまでの時間が長くなるという問題があつ
た。そこで、設定濃度が漸次大きくなるように又
は漸次小さくなるように布帛の処理順序を決定す
る必要があり、任意の順序で布帛の処理を行うこ
とができないという問題もあつた。
本発明は、以上の事情に鑑みてなされたもので
あつて、精練、漂白等の処理をすべき布帛につい
てその種類ごとに処理液の濃度を一定に保持する
ことができるとともに、処理すべき布帛の種類が
かわつても、またこの変更の際に処理液の濃度を
急激に変化させる必要がある場合であつても、処
理液濃度の変更を短時間で実行することができ、
したがつて前記の処理を円滑に連続して実行する
ことができる布帛の精練、漂白等の処理装置を提
供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段] 以上の目的を達成するために、本発明は、第1
図に示す構成としたものである。
1は、一定の処理順序にしたがつて異なる種類
の布帛を継ぎ合わせたものについて、精練、漂白
等の処理を処理液によつて連続的に実行する処理
槽である。2は、この処理槽1内の処理液濃度を
滴定法によつて求めるために設けられる滴定槽で
あつて、3は、処理槽1内の処理液を滴定槽2内
に単位時間あたり一定体積v1づつ採取するサン
プリング手段である。4は、滴定槽2内の当量点
指示量Eを出力する当量点センサであつて、滴定
槽制御手段5は、この当量点指示量Eの入力を受
けて、滴定槽2内が当量点に達するように、この
滴定槽内への滴下標準液量y2をPID制御する。
そして、6は、サンプリング手段3の採取体積v
1と滴定槽制御手段5の滴下標準液量y2とか
ら、処理槽1内の処理液濃度に対応する濃度n1
を算出する演算手段である。
7は、処理槽1内に搬入される布帛の継ぎ目を
検出するたびに継ぎ目信号Tを出力する継ぎ目検
出手段である。8は、処理すべき布帛の種類ごと
に定められた処理液濃度Sを処理液1の前記処理
順序にしたがつて記憶しており、継ぎ目信号Tが
入力されるごとにこの記憶内容を順次出力する記
憶手段である。9は、前記演算手段6から出力さ
れる濃度n1が記憶手段8から出力される処理液
濃度Sに等しくなるように、処理液の原液又は希
釈液からなる投入液の処理槽1内への供給量y1
をPID制御する処理槽制御手段である。10は、
継ぎ目信号Tが入力されるごとに、記憶手段8か
ら新たに出力される処理液濃度Sが所定値R以上
である場合に、滴定槽制御手段5の滴下標準液量
y2を決定する標準液濃度n2と標準液の単位時
間あたりの滴下体積v2とのうち少なくとも一方
の決定要素を大きくさせる変更手段である。
本発明に係る布帛の精練、漂白等の処理装置
は、以上の構成である。
[作用] 布帛の処理順序が決定されると、この処理順序
にしたがつて異なる種類の布帛を継ぎ合せたもの
が処理槽1内に搬入され、この処理槽内の処理液
によつて精練、漂白等の処理が実行される。
この処理の際、サンプリング手段3によつて処
理槽1内の処理液が単位時間あたり一定体積v1
づつ滴定槽2内に採取される。滴定槽制御手段5
は、当量点センサ4から出力される滴定槽2内の
当量点指示量Eを参照しながら、この滴定槽2内
が当量点に達するように、採取液に対して標準液
を滴下する。この際、滴定槽2内への滴下標準液
量y2についてはPID制御が行われ、この滴下標
準液量y2は、標準液濃度n2と標準液の単位時
間あたりの滴下体積v2とによつて決定される。
そして、演算手段6によつて、この滴下標準液量
y2とサンプリング手段3の採取体積v1とか
ら、処理槽1内の処理液濃度に対応する濃度n1
が算出される。
一方、処理槽1内での処理に先だつて継ぎ目検
出手段7がこの処理槽1内に搬入される布帛の継
ぎ目を検出すると、継ぎ目信号Tが出力される。
記憶手段8は、この継ぎ目信号Tの入力を受ける
と、処理が実行される布帛について設定された処
理液濃度Sを出力する。処理槽制御手段9は、前
記演算手段6から出力される濃度n1がこの記憶
手段8から出力される処理液濃度Sに等しくなる
ように、処理槽1に対して処理液の原液又は希釈
液からなる投入液を供給する。この際、投入液供
給量y1についてはPID制御が行われる。したが
つて、処理槽1内の処理液濃度が設定濃度Sに等
しくなるように調整され、布帛は、この濃度の処
理液によつて処理される。そして、この調整が完
了した後は、処理槽1内への処理原液の供給によ
つて、処理槽1内の処理液は、処理中の布帛に対
して設定された一定の濃度を保持する。
このようにしてある種類の布帛の処理が完了す
ると、この布帛に継ぎ合わされた他の種類の布帛
の処理が、この新たな布帛に応じた濃度の処理液
によつて次のようにして連続的に行われる。すな
わち、継ぎ目検出手段7から継ぎ目信号Tが出力
されると、記憶手段8は、この入力を受けて次に
処理が実行される布帛について設定された処理液
濃度Sを出力する。この際、記憶手段8から出力
される処理液濃度Sが所定値R以上である場合に
は、変更手段10は、滴定槽制御手段5の滴下標
準液量y2の前記決定要素n2,v2のうち少な
くとも一方の決定要素を大きくさせる。これによ
つて、滴定槽2内は急速に当量点に達し、演算手
段6は、前記処理槽1内の処理液濃度に対応する
濃度n1を早い時点で出力する。したがつて、処
理槽1内の処理液濃度は、演算手段6から濃度n
1の出力を受けた処理槽制御手段9によつて、新
たな設定濃度Sに等しくなるように短時間のうち
に調整される。そして、この調整が完了した後
は、処理槽1内の処理液は、前記と同様に処理中
の布帛に対して設定された一定の濃度を保持す
る。つまり、継ぎ合せた布帛の順序と記憶手段8
内の記憶順序とを一致させておくだけで、布帛の
精練、漂白等の処理は、連続的かつ自動的に実行
される。
[実施例] 第2図は、本発明の実施例に係る布帛の精練、
漂白等の処理装置の構成図である。ここでは、布
帛の精練の場合を示す。
処理槽1内には、処理液として苛性ソーダ水溶
液NaOHが収容されている。この処理槽には補
助タンク11が接続されており、処理槽1内の苛
性ソーダ水溶液がポンプ12によつて処理槽1と
補助タンク11間を循環するように管路がつなが
れている。なお、この処理液の濃度は、布帛の種
類に応じて1〜100g/とする必要がある。
処理槽1の上方には、電動機により回転駆動さ
れる複数のローラ15が、互いに継ぎ合わされた
種類の異なる長尺状の布帛aを処理槽1内に順次
搬入することができるように配され、これらのロ
ーラの1つには、その回転数を測定する回転計1
6が取付けられている。そして、この回転計の出
力Qは、マイクロコンピユータ20に入力され
る。
最も手前のローラ5の近傍には、前記継ぎ目検
出手段7として、反射型の近接スイツチ25が配
設される。このスイツチは、布帛の継ぎ目bに貼
着されたアルミ箔26の接近を検出することによ
つて、布帛の継ぎ目bを検出するたびに、マイク
ロコンピユータ20に対して継ぎ目信号Tを出力
する。
2は処理槽1内の処理液濃度を滴定法によつて
求めるために設けられた撹拌可能な滴定槽であつ
て、容積は例えば200c.c.であり、補助タンク11
からの管路の途中には、前記サンプリング手段3
として、マイクロコンピユータ20からのパルス
信号P1によつて駆動される定量パルスポンプ3
1が設けられる。処理槽1内の処理液は、このポ
ンプによつて単位時間あたり一定体積v1例えば
8c.c./minづつ採取される。
41は採取された苛性ソーダ水溶液を希釈する
ための水を収容する水槽であつて、この水は、定
量パルスポンプ42の作動によつて滴定槽2内に
供給される。43は採取された苛性ソーダの滴定
のための滴下標準液すなわち硫酸H2SO4を収容
する中和液槽であつて、この槽内には、低濃度例
えば1/20規定度の硫酸が収容されている。この中
和液槽43内の硫酸は、バルブ44が開放された
ときにかぎり、定量パルスポンプ45の作動によ
つて滴定槽2内に供給される。他の中和液槽46
内には高濃度例えば1/2規定度の硫酸が収容され、
この硫酸は、バルブ47が開放されたときにかぎ
り、前記定量パルスポンプ45の作動によつて滴
定槽2内に供給される。これらの定量パルスポン
プ42,45及びバルブ44,47は、それぞれ
マイクロコンピユータ20からの信号P2,P
3,SL,SHにしたがつて作動し、水槽41及び
中和液槽43,46とともに、前記滴定槽制御手
段5の一部を構成する。また、バルブ44,47
は、前記変更手段10の一部をも構成する。
さらに、滴定槽2内には、前記当量点センサ4
としてPHセンサ50が配設されている。このセン
サは、酸又はアルカリの水溶液が完全に中和され
るとその水溶液の導電率が極度に低下することを
利用して中和点を検出するセンサであつて、マイ
クロコンピユータ20に対して滴定槽2内の当量
点指示量Eを出力する。
なお、処理槽1、補助タンク11及び滴定槽2
には、それぞれ排出弁55,56,57が設けら
れている。
61は処理槽1内の苛性ソーダ水溶液の希釈液
を収容する槽であつて、この希釈液は、定量パル
スポンプ62の作動によつて、処理槽1内に供給
される。63は処理槽1内の苛性ソーダ水溶液の
濃度を上昇させるための苛性ソーダ原液すなわち
高濃度の苛性ソーダ水溶液を収容する処理液槽で
あつて、この槽内の原液は、定量パルスポンプ6
4の作動によつて処理槽1内に供給される。これ
らの定量パルスポンプ62,64も、それぞれマ
イクロコンピユータ20からのパルス信号P4,
P5にしたがつて作動し、希釈液槽61及び処理
液槽63とともに、前記処理槽制御手段9の一部
を構成する。なお、65は界面活性剤等の助剤を
収容する助剤槽であつて、この槽内の助剤は、定
量パルスポンプ66の作動によつて処理槽1内に
供給される。この定量パルスポンプ66は、マイ
クロコンピユータ20からのパルス信号P6にし
たがつて作動する。
70は、前記記憶手段8として用いられるメモ
リであつて、処理すべき布帛の種類ごとに定めら
れた処理液濃度S(N)(N=1〜K)を、布帛の
処理順序にしたがつて記憶する。キーボード72
とCRTデイスプレイ74とは、それぞれマンマ
シンインターフエイスとして設けられる。
さて、マイクロコンピユータ20は、以下に説
明するプログラムにしたがつて動作することによ
り、滴定槽制御手段5、処理槽制御手段9及び変
更手段10の前記各手段の一部並びに前記演算手
段6として作用する。
第3図は、マイクロコンピユータ20の動作を
示すフローチヤートである。
ステツプ1では、布帛の処理順序にしたがつ
て、設定濃度S(N)(N=1〜K)がキーボード
72を通して入力され、これらの値がメモリ70
に書き込まれる。布帛がこれと同一の順序で継ぎ
合わされてローラ15にかけられた後、このロー
ラの回転が駆動される。
マイクロコンピユータ20は、ステツプ2で変
数Nを0に初期化した後、ステツプ3で継ぎ目信
号Tが入力されたか否かを調べる。この信号が入
力されていないときには、ステツプ4で変数Nの
値を調べ、これが0である場合には、最初に処理
すべき布帛がまだ処理槽1内に搬入されていない
ことがわかるから、ステツプ3にもどつて、継ぎ
目信号Tの入力を待つ。ステツプ4においてNが
0でない場合には、ステツプ8に進む。
継ぎ目信号Tが入力されると、ステツプ3から
ステツプ5に進む。ステツプ5ではNをインクリ
メントし、ステツプ6においてすべての布帛の処
理が完了したか否かを調べる。処理すべき布帛が
残つている場合には、ステツプ7に進んで、メモ
リ70からN番目の布帛の設定温度S(N)を読
出す。
ステツプ8及びステツプ9では、それぞれ次に
説明するサブルーチンすなわち滴定サブルーチン
及び処理液調整サブルーチンをコールして、処理
槽1内の処理液濃度に対応する濃度n1を求めな
がら、この処理液濃度がN番目の布帛の設定温度
S(N)に等しくなるように処理液濃度を調整し
た後、ステツプ3にもどる。
第4図は、滴定サブルーチンの処理を示すフロ
ーチヤートである。
ステツプ11では、N番目の布帛の設定濃度S
(N)が所定値R以上であるか否かが調べられる。
この所定値は、前記処理液濃度1〜100g/に
対して、例えば1〜30g/の範囲のある値に設
定される。この所定値より小さい場合には、ステ
ツプ12においてバルブ44を選択する信号SLを
入力して、滴定槽2内に低濃度の硫酸を供給でき
るようにする。逆に設定値R以上である場合に
は、ステツプ13においてバルブ47を選択する信
号SHを入力して、滴定槽2内に高濃度の硫酸を
供給できるようにする。
ステツプ14では、定量パルスポンプ31に対し
てパルス信号P1を出力し、処理槽1内の処理液
を滴定槽2に単位時間あたり一定体積v1づつ採
取する。ステツプ15では、PHセンサ50から当量
点指示量Eを入力し、ステツプ16において偏差ε1
(=E−PH7)を算出する。ここに、PH7は、当
量点すなわち中和点における指示量である。そし
て、ステツプ17では、この偏差ε1が0になるよう
にパルス信号P2,P3を出力して、滴定を行
う。この際、滴定槽2内への滴下標準液量y2
(=n2・v2)について、PID制御が行われる。
このPID制御において、比例感度KP、積分時間
TI及び微分時間TDは、前記の偏差ε1に対して、
それぞれ例えば980、40及び20である。そして、
最後に、ステツプ18において、n1=y2/y1
の演算によつて処理槽1内の処理液濃度に対応す
る濃度n1を算出した後、リターンする。
第5図は、処理液濃度調整サブルーチンの処理
を示すフローチヤートである。
ステツプ21では、滴定サブルーチンで求めた濃
度n1からN番目の布帛の設定温度S(N)を差
引くことにより、偏差ε2を算出する。この偏差が
0である場合すなわち濃度n1が設定濃度S(N)
に等しい場合には、何等の処理をも実行せずにス
テツプ22からリターンする。偏差ε2が正の値であ
る場合には、濃度n1が高過ぎるから、ステツプ
23からステツプ24に進み、定量パルスポンプ62
に対してパルス信号P4を出力して処理槽1に希
釈液を供給した後、リターンする。逆に、偏差ε2
が負の値である場合には、濃度n1が低過ぎるか
ら、ステツプ23からステツプ25に進み、定量パル
スポンプ64に対してパルス信号P5を出力して
処理槽1に苛性ソーダの原液を供給した後、リタ
ーンする。ただし、ステツプ24及び25では、これ
らの投入液の処理槽1内への供給量y1につい
て、PID制御が行われる。このPID制御におい
て、比例感度KP、積分時間TI及び微分時間TDは、
前記の偏差ε2に対して、それぞれ例えば20、250
及び50である。
以上に説明した実施例において、設定濃度を1
g/から100g/に急激に変化させた場合に
は、1/2規定度の硫酸による適定が行われ、PID
制御の遅れ時間及び整定時間は、前記の特性の滴
定槽2に関するPID制御においては、例えば2秒
及び8.3秒であり、一部にこの制御ループを有す
る処理槽1に関する前記の特性のPID制御におい
ては、60秒及び240秒である。これに対して、1/2
0規定度の硫酸による滴定の場合には、制御の遅
れ時間及び整定時間が、滴定槽2については6秒
及び20秒であつて、処理槽については70秒及び
300秒であることと比較して、本実施例によれば
制御の追従性を十分に向上させることが可能であ
ることがわかる。
なお、設定濃度の変化が例えば1〜10g/に
限定される場合には、中和液槽43内の硫酸濃度
を1/2規定度より低くしておき、この濃度の中和
液の場合の適定層2に関するPID制御の遅れ時間
及び整定時間をほぼ前記2秒及び8.3秒にすれば、
処理槽1に関するPID制御について、前記と同じ
高追従性の過渡特性が得られる。また、以上の処
理中において、布帛の種類ごとの設定濃度S(N)
や処理槽1内の処理液濃度に相当する濃度n1
は、マイクロコンピユータ20によつて、適時
CRTデイスプレイ74に表示することができる。
さて、処理槽1内の助剤は布帛aの移動に伴つ
てこの布帛によつてこの槽の外に持ち出される。
したがつて、マイクロコンピユータ20は、フロ
ーチヤートには示さないが以上の処理の他に、処
理槽1内の助剤の減少量を補償するために、回転
計16の出力Q及び布帛の目付すなわち単位面積
当たりの重量からこの減少量を計算した後、定量
パルスポンプ66に対してパルス信号P6を出力
することにより、所要量の助剤を処理槽1に供給
する。
第6図は、本発明の他の実施例に係る布帛の精
練、漂白等の処理装置の構成図である。ここで
は、布帛の漂白の場合を示す。なお、同図に示す
もの以外は第2図に示したものと同一であるの
で、図示及び説明を省略する。ただし、処理槽1
内には漂白のための処理液、例えば過酸化水素水
H2O2が収容され、処理液槽63にはこの処理液
の原液すなわち高濃度の過酸化水素水が収容され
る。
処理槽1内の処理液すなわち過酸化水素水は、
精練の場合と同様に、マイクロコンピユータ20
からのパルス信号P1によつて駆動される定量パ
ルスポンプ31によつて、単位時間あたり一定体
積v1づつ滴定槽2に採取される。
81は採取された過酸化水素水を酸性溶液にす
るための硫酸を収容する硫酸槽であつて、例えば
1/2規定度の硫酸が、定量パルスポンプ82の作
動によつて滴定槽2内に供給される。83は採取
された過酸化水素水の酸化還元滴定のための滴下
標準液として、例えば1/5規定度の過マンガン酸
カリウムKMnO4水溶液を収容する酸化液槽であ
る。この標準液は、定量パルスポンプ84,85
の2系統のポンプの作動によつて、滴定槽2内の
並列供給が可能である。これらの定量パルスポン
プ82,84,85は、それぞれマイクロコンピ
ユータ20からの信号P7,P8,P9にしたが
つて作動し、硫酸槽81及び酸化液槽83ととも
に、前記滴定槽制御手段5の一部を構成する。ま
た、定量パルスポンプ84,85は、前記変更手
段10の一部をも構成する。
さらに、滴定槽2内には、前記当量点センサ4
として酸化還元電位を測定するORPセンサ90
が配設されており、このセンサは、マイクロコン
ピユータ20に対して滴定槽2内の当量点指示量
Eを出力する。
第7図は、本実施例の場合の滴定サブルーチン
の処理を示すフローチヤートである。マイクロコ
ンピユータ20の他の処理は、前記精練の場合と
同様である。
ステツプ31では、定量パルスポンプ31に対し
てパルス信号P1を出力し、処理槽1内の処理液
を滴定槽2に単位時間あたり一定体積v1づつ採
取する。ステツプ32ではORPセンサ90から
当量点指示量Eを入力し、ステツプ33において偏
差ε1(=E−V)を算出する。ここに、Vは、当
量点における酸化還元電位である。
ステツプ34では、N番目の布帛の設定濃度S
(N)が所定値R以上であるか否かが調べられる。
この所定値より小さい場合には、ステツプ35にお
いて、偏差ε1が0になるようにパルス信号P7,
P8を出力して、滴定を行う。逆に設定値R以上
である場合には、ステツプ36において、偏差ε1が
0になるようにパルス信号P7,P8,P9を出
力して、滴定を行う。この場合には、両定量パル
スポンプ84,85が作動するから、滴下標準液
が急速に滴定槽2内に供給される。これらのステ
ツプ35、36においては、滴定槽2内への滴下標準
液量y2(=n2・v2)について、PID制御が
行われる。そして、最後にステツプ37においてn
1=y2/y1の演算によつて処理槽1内の処理
液濃度に対応する濃度n1を算出した後、リター
ンする。
第8図は継ぎ目検出手段7の変更例を示したも
のであり、厚み検出用の1対のローラ95によつ
て布帛を両面から挟み、継ぎ目の厚さが厚くなつ
ている部分でのローラ間距離の増大を検出するこ
とによつて継ぎ目bを検出するものである。
[発明の効果] 以上に説明したように、本発明では、サンプリ
ング手段によつて処理槽内の処理液を滴定槽内に
採取し、滴定槽制御手段によつて滴定槽内が当量
点に達するように当量点センサの出力を参照しな
がらこの滴定槽への滴下標準液量を制御し、演算
手段によつて採取体積と滴下標準液量とから処理
槽内の処理液濃度に対応する濃度を算出すると同
時に、処理槽制御手段によつてこの濃度が記憶手
段から出力される布帛の種類ごとに定められた設
定濃度に等しくなるように処理液の原液又は希釈
液からなる投入液の処理槽内への供給量を制御し
ているので、精練、漂白等の処理をすべき布帛に
ついてその種類ごとに処理液の濃度を一定に保持
することができるとともに、継ぎ目検出手段が連
続的に継ぎ合わされた布帛の継ぎ目を検出するご
とに記憶手段が次に記憶すべき布帛に対する設定
温度を順次出力するため、処理すべき布帛の種類
がかわつても、これに応じて処理液濃度を自動的
に変更しながら連続的に布帛の処理を実行するこ
とができる。また、滴定槽制御手段及び処理槽制
御手段においてPID制御を実行するばかりでな
く、処理濃度が所定値以上である場合には、変更
手段の作用によつて、滴定槽制御手段の滴下標準
液量を決定する標準液濃度と標準液の単位時間あ
たりの滴下体積とのうち少なくとも一方の決定要
素を大きくさせるため、処理すべき布帛の変更の
際に処理液濃度を急激に変更する必要がある場合
であつても、設定濃度の急変に対して迅速に追従
することができ、任意の順序で布帛の処理を行う
ことができる効果がある。
したがつて、本発明によれば、布帛の精練、漂
白等の処理を円滑に連続して実行することができ
る装置を提供することができ、処理濃度の異なる
多数の布帛について、むらのない処理を迅速かつ
自動的に実行することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明に係る布帛の精練、漂白等の
処理装置の構成図、第2図は、本発明の実施例に
係る布帛の精練、漂白等の処理装置の構成図、第
3図は、前図のマイクロコンピユータの動作を示
すフローチヤート、第4図は、前図の滴定サブル
ーチンの処理を示すフローチヤート、第5図は、
第3図の処理液濃度調整サブルーチンの処理を示
すフローチヤート、第6図は、本発明の他の実施
例に係る布帛の精練、漂白等の処理装置の一部を
省略した構成図、第7図は、前図の実施例の場合
の滴定サブルーチンの処理を示すフローチヤー
ト、第8図は、継ぎ目検出手段の変更例を示す概
略図である。 符号の説明、1……処理槽、2……滴定槽、3
……サンプリング手段、4……当量点センサ、5
……滴定槽制御手段、6……演算手段、7……継
ぎ目検出手段、8……記憶手段、9……処理槽制
御手段、10……変更手段、E……当量点指示
量、n1……処理液濃度に対応する濃度、n2…
…標準液濃度、S……設定濃度、T……継ぎ目信
号、v1……採取体積、v2……標準液滴下体
積、y1……投入液供給量、y2……滴下標準液
量。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 (a) 一定の処理順序にしたがつて異なる種類
    の布帛を継ぎ合わせたものについて、精練、漂
    白等の処理を処理液によつて連続的に実行する
    処理槽1と、 (b) 前記処理槽1内の処理液を滴定槽2内に単位
    時間あたり一定体積v1づつ採取するサンプリ
    ング手段3と、 (c) 前記滴定槽2内の当量点指示量Eを出力する
    当量点センサ4と、 (d) 前記当量点指示量Eの入力を受けて、前記滴
    定槽2内が当量点に達するように、この滴定槽
    内への滴下標準液量y2をPID制御する滴定槽
    制御手段5と、 (e) 前記サンプリング手段3の採取体積v1と前
    記滴定槽制御手段5の滴下標準液量y2とか
    ら、前記処理槽1内の処理液濃度に対応する濃
    度n1を算出する演算手段6と、 (f) 前記処理槽1内に搬入される布帛の継ぎ目を
    検出するたびに継ぎ目信号Tを出力する継ぎ目
    検出手段7と、 (g) 処理すべき布帛の種類ごとに定められた処理
    液濃度Sを前記処理順序にしたがつて記憶して
    おり、前記継ぎ目信号Tが入力されるごとにこ
    の記憶内容を順次出力する記憶手段8と、 (h) 前記演算手段6から出力される濃度n1が前
    記記憶手段8から出力される処理液濃度Sに等
    しくなるように、前記処理液の原液又は希釈液
    からなる投入液の前記処理槽1内への供給量y
    1をPID制御する処理槽制御手段9と、 (i) 前記継ぎ目信号Tが入力されるごとに、前記
    記憶手段8から新たに出力される処理液濃度S
    が所定値以上である場合に、前記滴定槽制御手
    段5の滴下標準液量y2を決定する標準液濃度
    n2と標準液の単位時間あたりの滴下体積v2
    とのうち少なくとも一方の決定要素を大きくさ
    せる変更手段10と からなることを特徴とする布帛の精練、漂白等の
    処理装置。
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