JPH0331111B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0331111B2 JPH0331111B2 JP26087784A JP26087784A JPH0331111B2 JP H0331111 B2 JPH0331111 B2 JP H0331111B2 JP 26087784 A JP26087784 A JP 26087784A JP 26087784 A JP26087784 A JP 26087784A JP H0331111 B2 JPH0331111 B2 JP H0331111B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- organic solvent
- pressure
- cleaned
- tank
- drying
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 22
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 19
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 8
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 16
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 5
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は有機溶剤蒸気乾燥方法に関するもので
ある。
ある。
(従来の技術)
従来の此種蒸気乾燥手段は、第3図に示すよう
に、乾燥槽1内に貯留した有機溶剤2中にヒータ
3を挿入して加熱し、有機溶剤が沸点以上になる
と蒸気(以下溶剤蒸気と称す)4が発生し、上部
に設けた凝縮コイル5中を流れる冷却水により凝
縮して受樋6で受液し、水分離器7に送つて水と
分離させ、有機溶剤のみを乾燥槽1内に戻す。前
記溶剤蒸気4中に汚れたもの、或いは水分のつい
た被洗浄物8を入れると、溶剤蒸気が凝縮して液
化し、被洗浄物8の表面に沿つて流下し、この流
下に伴つて付着している汚物を流下させ、或いは
表面についた水分等を洗い流し、更に、被洗浄物
8が有機溶剤の沸点温度まで温度上昇することに
より乾燥させる。
に、乾燥槽1内に貯留した有機溶剤2中にヒータ
3を挿入して加熱し、有機溶剤が沸点以上になる
と蒸気(以下溶剤蒸気と称す)4が発生し、上部
に設けた凝縮コイル5中を流れる冷却水により凝
縮して受樋6で受液し、水分離器7に送つて水と
分離させ、有機溶剤のみを乾燥槽1内に戻す。前
記溶剤蒸気4中に汚れたもの、或いは水分のつい
た被洗浄物8を入れると、溶剤蒸気が凝縮して液
化し、被洗浄物8の表面に沿つて流下し、この流
下に伴つて付着している汚物を流下させ、或いは
表面についた水分等を洗い流し、更に、被洗浄物
8が有機溶剤の沸点温度まで温度上昇することに
より乾燥させる。
又、溶剤蒸気4中に加熱コイル9を設置し、タ
ンク10の中に入れた油をヒータ11で加熱し、
ポンプ12で加熱コイル9中を循環させることに
より、溶剤蒸気4を更に温度上昇させて、被洗浄
物8の薄物(熱容量の小さいもの)のしみの少な
い乾燥効果を得るようにしている。
ンク10の中に入れた油をヒータ11で加熱し、
ポンプ12で加熱コイル9中を循環させることに
より、溶剤蒸気4を更に温度上昇させて、被洗浄
物8の薄物(熱容量の小さいもの)のしみの少な
い乾燥効果を得るようにしている。
(発明が解決しようとする問題点)
しかし、前記手段においては、加熱コイルの伝
熱面積が大きくとれないため、溶剤蒸気を上昇さ
せるのに限界がある。それ故、乾燥効果において
不十分な点があつた。
熱面積が大きくとれないため、溶剤蒸気を上昇さ
せるのに限界がある。それ故、乾燥効果において
不十分な点があつた。
(問題点を解決するための手段)
本発明における有機溶剤蒸気乾燥方法において
は、有機溶剤を常圧での沸点温度より高い温度に
上昇させ、沸点温度より高い蒸気を、有機溶剤の
蒸気中にある被洗浄物に吹き付け、洗浄乾燥を行
うものである。
は、有機溶剤を常圧での沸点温度より高い温度に
上昇させ、沸点温度より高い蒸気を、有機溶剤の
蒸気中にある被洗浄物に吹き付け、洗浄乾燥を行
うものである。
(作 用)
本発明においては従来と同様に、有機溶剤の溶
剤蒸気中に被洗浄物を入れ、溶剤蒸気により洗浄
及び乾燥を行う。このように、洗浄及び乾燥を行
つている被洗浄物に、常圧での沸点温度より高い
温度に高圧下で上昇させた溶剤蒸気を吹き付け、
より一層の汚れ薄として洗浄効果をあげる。
剤蒸気中に被洗浄物を入れ、溶剤蒸気により洗浄
及び乾燥を行う。このように、洗浄及び乾燥を行
つている被洗浄物に、常圧での沸点温度より高い
温度に高圧下で上昇させた溶剤蒸気を吹き付け、
より一層の汚れ薄として洗浄効果をあげる。
(実施例)
本発明方法の第1実施例を第1図に基いて詳細
に説明すると、乾燥槽1内において、有機溶剤2
とヒータ3で加熱し、溶剤蒸気4を発生させ、溶
剤蒸気4中に被洗浄物8を入れて、被洗浄物8に
付着している汚れを落したり、水分を取り除いた
りして乾燥する。尚、図中5は凝縮コイル、6は
受樋である。
に説明すると、乾燥槽1内において、有機溶剤2
とヒータ3で加熱し、溶剤蒸気4を発生させ、溶
剤蒸気4中に被洗浄物8を入れて、被洗浄物8に
付着している汚れを落したり、水分を取り除いた
りして乾燥する。尚、図中5は凝縮コイル、6は
受樋である。
一方、乾燥槽1と並んで圧力容器13を設置
し、この圧力容器13内に有機溶剤2を充填し、
この有機溶剤2の導管14途中に設置したフイル
タ15及びポンプ16で循環させて、常時清浄に
保つようにしている。そして、有機溶剤2中にヒ
ータ17を挿入して有機溶剤2を加熱する。この
加熱により温度上昇させ、常圧での沸点より温度
を上昇させると、圧力が2〜3気圧上昇すること
になる。この圧力は、温度調整器18でヒータ1
7をコントロールして一定温度に上昇させること
により一定に保つようになつている。尚圧力容器
13には圧力計19を設けて測定し、圧力安全弁
20で設定圧以上に圧力が上昇した際に、開放し
て内部圧力を低下させるようになつている。
し、この圧力容器13内に有機溶剤2を充填し、
この有機溶剤2の導管14途中に設置したフイル
タ15及びポンプ16で循環させて、常時清浄に
保つようにしている。そして、有機溶剤2中にヒ
ータ17を挿入して有機溶剤2を加熱する。この
加熱により温度上昇させ、常圧での沸点より温度
を上昇させると、圧力が2〜3気圧上昇すること
になる。この圧力は、温度調整器18でヒータ1
7をコントロールして一定温度に上昇させること
により一定に保つようになつている。尚圧力容器
13には圧力計19を設けて測定し、圧力安全弁
20で設定圧以上に圧力が上昇した際に、開放し
て内部圧力を低下させるようになつている。
圧力容器13は下部に排出導管21を設け、乾
燥槽1に設置したノズル又は孔を設けた複数個の
噴射具22,22の噴射用導管23,23と連通
する。この排出導管21はフイルタ24と電磁弁
25を設け、各噴射用導管23,23に夫々流量
調整弁26,26を設けている。そして、電磁弁
25を開き、流量調整弁26,26にて流量を調
節して高圧高温の有機溶剤液を噴射具22,22
から噴射して被洗浄物8に吹き付ける。乾燥槽1
内は大気圧なので0気圧であり、噴射具22,2
2から噴射した溶剤液は圧力が高いため、急に圧
力だけが0に開放されるが、温度は常圧の沸点よ
り高いので、急速に溶剤が蒸気となり、温度の高
い蒸気が被洗浄物8に吹き付けられ、汚れを落
し、且つ洗浄効果をあげる。
燥槽1に設置したノズル又は孔を設けた複数個の
噴射具22,22の噴射用導管23,23と連通
する。この排出導管21はフイルタ24と電磁弁
25を設け、各噴射用導管23,23に夫々流量
調整弁26,26を設けている。そして、電磁弁
25を開き、流量調整弁26,26にて流量を調
節して高圧高温の有機溶剤液を噴射具22,22
から噴射して被洗浄物8に吹き付ける。乾燥槽1
内は大気圧なので0気圧であり、噴射具22,2
2から噴射した溶剤液は圧力が高いため、急に圧
力だけが0に開放されるが、温度は常圧の沸点よ
り高いので、急速に溶剤が蒸気となり、温度の高
い蒸気が被洗浄物8に吹き付けられ、汚れを落
し、且つ洗浄効果をあげる。
次に、本発明の第2実施例を第2図に基いて説
明すると、洗浄乾燥槽1′をNo.1槽30,No.2槽
31、No.3槽32の3つに分割し、No.1槽30の
底に超音波振動子33を固定して有機溶剤2中に
被洗浄物8を浸漬して超音波洗浄を行い、No.2槽
31ですすぎを行い、No.3槽32において被洗浄
物8に第1実施例と同様に噴射具22,22から
高圧高温の有機溶剤2を吹きつけるようになつて
いる。高圧容器13は、導管34にて予備槽35
にて接続し、No.1槽30と予備槽35とを接続し
てNo.1槽30から洗浄乾燥槽1′で使用した有機
溶剤を導入し、ポンプ36で高圧容器13に送る
ようになつている。尚高圧容器13の操作は第1
実施例と同一なので、同一符号を付し説明を省略
する。
明すると、洗浄乾燥槽1′をNo.1槽30,No.2槽
31、No.3槽32の3つに分割し、No.1槽30の
底に超音波振動子33を固定して有機溶剤2中に
被洗浄物8を浸漬して超音波洗浄を行い、No.2槽
31ですすぎを行い、No.3槽32において被洗浄
物8に第1実施例と同様に噴射具22,22から
高圧高温の有機溶剤2を吹きつけるようになつて
いる。高圧容器13は、導管34にて予備槽35
にて接続し、No.1槽30と予備槽35とを接続し
てNo.1槽30から洗浄乾燥槽1′で使用した有機
溶剤を導入し、ポンプ36で高圧容器13に送る
ようになつている。尚高圧容器13の操作は第1
実施例と同一なので、同一符号を付し説明を省略
する。
本実施例では同じ有機溶剤を用いて超音波洗浄
から乾燥までを連続して行うことができる。
から乾燥までを連続して行うことができる。
本発明においては、被洗浄物が乾燥槽内の溶剤
蒸気よりも高い温度となるため、乾燥効果をあげ
ることができる。
蒸気よりも高い温度となるため、乾燥効果をあげ
ることができる。
特に、熱容量小さい薄物ガラス、シリコンウエ
ハー等に用いて効果がある。
ハー等に用いて効果がある。
第1図は本発明に係る有機溶剤乾燥方法の第1
実施例の断面図、第2図は第2実施例の断面図、
第3図は従来装置の断面図である。 図中2…有機溶剤、8…被洗浄物、13…圧力
容器。
実施例の断面図、第2図は第2実施例の断面図、
第3図は従来装置の断面図である。 図中2…有機溶剤、8…被洗浄物、13…圧力
容器。
Claims (1)
- 1 有機溶剤を常圧での沸点温度より高い温度に
圧力容器内で上昇させ、沸点温度より高い蒸気
を、有機溶剤の蒸気中にある被洗浄物に吹き付
け、洗浄乾燥を行うことを特徴とする有機溶剤蒸
気乾燥方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26087784A JPS61138582A (ja) | 1984-12-12 | 1984-12-12 | 有機溶剤蒸気乾燥方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26087784A JPS61138582A (ja) | 1984-12-12 | 1984-12-12 | 有機溶剤蒸気乾燥方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61138582A JPS61138582A (ja) | 1986-06-26 |
| JPH0331111B2 true JPH0331111B2 (ja) | 1991-05-02 |
Family
ID=17353992
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26087784A Granted JPS61138582A (ja) | 1984-12-12 | 1984-12-12 | 有機溶剤蒸気乾燥方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61138582A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5105556A (en) * | 1987-08-12 | 1992-04-21 | Hitachi, Ltd. | Vapor washing process and apparatus |
| JPS6443384A (en) * | 1987-08-12 | 1989-02-15 | Hitachi Ltd | Steam washing method and washer |
-
1984
- 1984-12-12 JP JP26087784A patent/JPS61138582A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61138582A (ja) | 1986-06-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7604014B2 (en) | Dishwasher | |
| US20060254623A1 (en) | Dishwasher comprising a heat tube | |
| US4290439A (en) | Device for cleaning mechanical parts | |
| US4778535A (en) | Vapor generating and recovery apparatus and process | |
| JPH0282930A (ja) | 食器洗浄機及びその食器洗浄方法並びに食器余熱乾燥方法 | |
| JPS61138582A (ja) | 有機溶剤蒸気乾燥方法 | |
| JPH0767552B2 (ja) | 洗浄装置 | |
| TW306889B (ja) | ||
| JP2672451B2 (ja) | 蒸気洗浄槽に於ける凝縮液の散布装置 | |
| JP5129911B2 (ja) | 水分除去装置 | |
| JPH0134107B2 (ja) | ||
| JP3220641B2 (ja) | 加圧煮熟釜 | |
| JP3009006B2 (ja) | 半導体基板の乾燥装置 | |
| JP2610441B2 (ja) | ワークの乾燥方法 | |
| JPH0729091B2 (ja) | 洗浄方法 | |
| JP2511873B2 (ja) | ベ−パ乾燥装置 | |
| JP3285683B2 (ja) | ディスク基板の洗浄装置 | |
| GB2083504A (en) | Vapour cleaning plant | |
| JPS60225565A (ja) | 洗浄滅菌方法およびその装置 | |
| JP3184672B2 (ja) | 金属品洗浄方法及び金属品洗浄装置 | |
| KR980011979A (ko) | 웨이퍼 세정/건조 장치 및 방법 | |
| JPS63194787A (ja) | 洗浄方法及び装置 | |
| JPH0669180A (ja) | 真空乾燥装置 | |
| JPH04127644U (ja) | 半導体ウエハの洗浄・乾燥装置 | |
| JPH0312373Y2 (ja) |