JPH0333028A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH0333028A JPH0333028A JP15889690A JP15889690A JPH0333028A JP H0333028 A JPH0333028 A JP H0333028A JP 15889690 A JP15889690 A JP 15889690A JP 15889690 A JP15889690 A JP 15889690A JP H0333028 A JPH0333028 A JP H0333028A
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- 239000005394 sealing glass Substances 0.000 title 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 92
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 claims abstract description 43
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 17
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 claims description 69
- AYHOQSGNVUZKJA-UHFFFAOYSA-N [B+3].[B+3].[B+3].[B+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [B+3].[B+3].[B+3].[B+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] AYHOQSGNVUZKJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 claims description 9
- 238000001513 hot isostatic pressing Methods 0.000 claims description 7
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 claims description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 6
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 claims 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 21
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 abstract description 21
- 238000002844 melting Methods 0.000 abstract description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 abstract description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 abstract description 5
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 13
- 208000035874 Excoriation Diseases 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- 229910003962 NiZn Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N lead oxide Chemical compound [O-2].[Pb+2] HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- NEHNHSYTMVZVPP-UHFFFAOYSA-N [B].O[Si](O)(O)O Chemical compound [B].O[Si](O)(O)O NEHNHSYTMVZVPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 241000156978 Erebia Species 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001133911 Sonoita Species 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- QELJHCBNGDEXLD-UHFFFAOYSA-N nickel zinc Chemical group [Ni].[Zn] QELJHCBNGDEXLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/24—Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
- C03C3/07—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing lead
- C03C3/072—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing lead containing boron
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/255—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features comprising means for protection against wear
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/29—Structure or manufacture of unitary devices formed of plural heads for more than one track
-
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/29—Structure or manufacture of unitary devices formed of plural heads for more than one track
- G11B5/295—Manufacture
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- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
Ａ、産業上の利用分野
この発明はマルチトラック式等の磁気テープ・ヘッドに
おいて用いられる閉止用ガラスに関するものであり、よ
り詳細にいえば、閉止用ガラスとして用いるための改善
された摩耗特性を有する新規なガラスの調整に関するも
のである。
おいて用いられる閉止用ガラスに関するものであり、よ
り詳細にいえば、閉止用ガラスとして用いるための改善
された摩耗特性を有する新規なガラスの調整に関するも
のである。
Ｂ、従来の技術
酸化鉛をベースとしたガラスは、ニッケル・亜鉛（Ｎｉ
Ｚｎ）フェライトとの適合性があることから、マルチト
ラック式のテープ・ヘッドにおける閉止用ガラスのため
に通常使用されている。マルチトラック式のテープ・ヘ
ッドのために通常使用されている典型例としての酸化鉛
に基づくガラスは１８Ｍ４００式のガラスである。次の
第１表には、Ｉ ＢＭ４００式のガラスの組成が詳細に
示されている。
Ｚｎ）フェライトとの適合性があることから、マルチト
ラック式のテープ・ヘッドにおける閉止用ガラスのため
に通常使用されている。マルチトラック式のテープ・ヘ
ッドのために通常使用されている典型例としての酸化鉛
に基づくガラスは１８Ｍ４００式のガラスである。次の
第１表には、Ｉ ＢＭ４００式のガラスの組成が詳細に
示されている。
第１表
通塁盛透
酸化鉛（ＰｂＯ）
酸化ケイ素（Ｓ＋ＯＪ
酸化ホウ素（ｎｔｏ３）
酸化アルミ（Ａｕｔｏｓ）
残余物
重量％
６８．０±０．５％
２０．８±０．５％
７．０＋１．５％
４．２±１．５％
最大０．５％
１８Ｍ４００式のガラスにおいて、その焼きなまし点は
４３５℃（ガラスの粘度＝１０′３ポイズ）、その軟化
点は５３０℃（ガラスの粘度＝１０”ポイズ）、その作
業点は６９５℃（ガラスの粘度＝１０４ボイズ）、そし
て、その熱膨張係数は７０＊ｉ ｏ−’±３．０ ＊
１０−’／’Ｃである。このＩ ８Ｍ４００式のガラス
はＮｘＺｎフェライトとの適合性という点では優れた特
性を有しているけれども、このガラスの摩耗比率は、磁
気テープ・ヘッドにおけるフェライトのそれに比べて高
いものである。
４３５℃（ガラスの粘度＝１０′３ポイズ）、その軟化
点は５３０℃（ガラスの粘度＝１０”ポイズ）、その作
業点は６９５℃（ガラスの粘度＝１０４ボイズ）、そし
て、その熱膨張係数は７０＊ｉ ｏ−’±３．０ ＊
１０−’／’Ｃである。このＩ ８Ｍ４００式のガラス
はＮｘＺｎフェライトとの適合性という点では優れた特
性を有しているけれども、このガラスの摩耗比率は、磁
気テープ・ヘッドにおけるフェライトのそれに比べて高
いものである。
ホウ素・ケイ酸をベースとするガラスは、酸化鉛ガラス
に比べて硬度が高く、また、より良好な摩耗の属性を備
えている。コーニング（登録商標）ガラス・コード７７
４０なるホウ素・ケイ酸ガラスにおいては、その焼きな
まし点は５６５℃、その軟化点は８２１℃、その作業点
は１２５２℃、そして、その熱膨張係数は３２．５ ＊
ｌ Ｏ−’／”Ｃである。コーニング（登録商標）ガ
ラス・コード７５７０なる鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスに
おいては、その焼きなまし点は３６３℃、その軟化点は
４７１０℃、その作業点は５６０℃、そして、その熱膨
張係数は８４ ＊ １０−’／”Ｃである。しかしなが
ら、コーニング（登録商標）ガラス・コード７７４０な
るホウ素・ケイ酸ガラス、コーニング（登録商標）ガラ
ス・コード７５７０なる鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスのい
ずれにおいても、ＮｉＺｎフェライトとの接着のために
は受は入れることができない。
に比べて硬度が高く、また、より良好な摩耗の属性を備
えている。コーニング（登録商標）ガラス・コード７７
４０なるホウ素・ケイ酸ガラスにおいては、その焼きな
まし点は５６５℃、その軟化点は８２１℃、その作業点
は１２５２℃、そして、その熱膨張係数は３２．５ ＊
ｌ Ｏ−’／”Ｃである。コーニング（登録商標）ガ
ラス・コード７５７０なる鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスに
おいては、その焼きなまし点は３６３℃、その軟化点は
４７１０℃、その作業点は５６０℃、そして、その熱膨
張係数は８４ ＊ １０−’／”Ｃである。しかしなが
ら、コーニング（登録商標）ガラス・コード７７４０な
るホウ素・ケイ酸ガラス、コーニング（登録商標）ガラ
ス・コード７５７０なる鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスのい
ずれにおいても、ＮｉＺｎフェライトとの接着のために
は受は入れることができない。
ムカサ外（Ｍｕｋａｓａ ｅｔ ａｌ、）に対する米国
特許第４．６３８．３８７号によれば、磁気テープ・ヘ
ッドと関連して用いられるスライド式のコンタクト部材
における細かい割れ目に充填するための注入材として、
ホウ素・ケイ酸ガラスを用いることが開示されている。
特許第４．６３８．３８７号によれば、磁気テープ・ヘ
ッドと関連して用いられるスライド式のコンタクト部材
における細かい割れ目に充填するための注入材として、
ホウ素・ケイ酸ガラスを用いることが開示されている。
ヤナギサジ外（Ｙａｎａｇｉｓａｗａ ｅｔａｌ、）に
対する米国特許第４，０６９，３６０号によれば、ポリ
シリコン層を用いることが開示されているが、これはホ
ウ素・ケイ酸ガラスであればよく、潤滑剤とともに被覆
されていて、これが被覆されている記録用ディスクおよ
び磁気記録へラド°の表面の保護および摩擦による摩耗
を減少するようにされている。ヨコヤマ外（Ｙｏｋｏｙ
ａｍａ ｅＬ ａｌ、）に対する米国特許第４．１７０
．０３２号によれば、ホウ素・ケイ酸ガラスがギャップ
・エリアにスバ・ノタリングで沈積された磁気ヘッドが
開示されている。カストロノール外（Ｃａｓｔｒｏｄａ
ｌｅ ｅｔ ａｌ、）に対する米国特許第４．１１０，
８０４号によれば、磁気ヘッド・アセンブリの読み取り
／書き込みおよびトンネル消去における変換器の接着部
分のために、鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスを用いることが
開示されている。上記のいずれの特許においても、マル
チトラック式のテープ・ヘッドにおける閉止ガラスとし
て、ホウ素・ケイ酸をベースとするガラスを用いること
の開示または検討はなされていない。
対する米国特許第４，０６９，３６０号によれば、ポリ
シリコン層を用いることが開示されているが、これはホ
ウ素・ケイ酸ガラスであればよく、潤滑剤とともに被覆
されていて、これが被覆されている記録用ディスクおよ
び磁気記録へラド°の表面の保護および摩擦による摩耗
を減少するようにされている。ヨコヤマ外（Ｙｏｋｏｙ
ａｍａ ｅＬ ａｌ、）に対する米国特許第４．１７０
．０３２号によれば、ホウ素・ケイ酸ガラスがギャップ
・エリアにスバ・ノタリングで沈積された磁気ヘッドが
開示されている。カストロノール外（Ｃａｓｔｒｏｄａ
ｌｅ ｅｔ ａｌ、）に対する米国特許第４．１１０，
８０４号によれば、磁気ヘッド・アセンブリの読み取り
／書き込みおよびトンネル消去における変換器の接着部
分のために、鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスを用いることが
開示されている。上記のいずれの特許においても、マル
チトラック式のテープ・ヘッドにおける閉止ガラスとし
て、ホウ素・ケイ酸をベースとするガラスを用いること
の開示または検討はなされていない。
Ｃ０発明が解決りようとする課題
従来のマルチトラック式のテープ・ヘッドにおいては、
閉止用ガラスの摩耗が過大になっている。
閉止用ガラスの摩耗が過大になっている。
この閉止用ガラスがフェライトよりも速く摩耗すると、
そのテープ・ヘッドの信頼度が低くなる。
そのテープ・ヘッドの信頼度が低くなる。
ホウ素・ケイ酸をベースとするガラスの優れた摩耗特性
は、ＮｉＺｎフェライトとの不適合性のために、マルチ
トラック式のテープ・ヘッドには適用されていない。
は、ＮｉＺｎフェライトとの不適合性のために、マルチ
トラック式のテープ・ヘッドには適用されていない。
従って、この発明の目的は、ホウ素・ケイ酸をベースと
する構成のガラスを用いて、改善された摩耗特性を有す
るマルチトラック式のテープ・ヘッドを提供することに
ある。
する構成のガラスを用いて、改善された摩耗特性を有す
るマルチトラック式のテープ・ヘッドを提供することに
ある。
この発明の別の目的は、ホウ素・ケイ酸ガラスを鉛・ホ
ウ素・ケイ酸ガラスと組み合わせて、ＮｉＺｎフェライ
トと適合される構成のガラスを提供することにある。
ウ素・ケイ酸ガラスと組み合わせて、ＮｉＺｎフェライ
トと適合される構成のガラスを提供することにある。
この発明の更に別の目的は、その摩耗特性の調整が焼き
なましサイクルの調節によって可能にされる閉止用ガラ
スを提供することにある。
なましサイクルの調節によって可能にされる閉止用ガラ
スを提供することにある。
０９課題を解決するための手段
この発明によれば、コーニング（登録商標）ガラス・コ
ード７５７０なる鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスが、コーニ
ング（登録商標）ガラス・コード７７４０なるホウ素・
ケイ酸ガラスと組み合わされて、閉止用ガラスとして改
善された属性を有する新規て、鉛・ホウ素・ケイ酸ガラ
スとホウ素・ケイ酸ガラスとの最適な重量％比率が６０
／４０と決定された。鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスとホウ
素・ケイ酸ガラスとの６０／４０の比率により、溶融温
度、フェライトの適合性、ストレスおよび摩耗について
の最良の結果が得られた。
ード７５７０なる鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスが、コーニ
ング（登録商標）ガラス・コード７７４０なるホウ素・
ケイ酸ガラスと組み合わされて、閉止用ガラスとして改
善された属性を有する新規て、鉛・ホウ素・ケイ酸ガラ
スとホウ素・ケイ酸ガラスとの最適な重量％比率が６０
／４０と決定された。鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスとホウ
素・ケイ酸ガラスとの６０／４０の比率により、溶融温
度、フェライトの適合性、ストレスおよび摩耗について
の最良の結果が得られた。
重量で６０％の鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスと、重量で４
０％のホウ素・ケイ酸ガラスとの粉末状の混合体が、ス
ロットが付された書き込み閉止用の平板（スロットが切
り込まれたフェライトの平板）の表面上に配置された。
０％のホウ素・ケイ酸ガラスとの粉末状の混合体が、ス
ロットが付された書き込み閉止用の平板（スロットが切
り込まれたフェライトの平板）の表面上に配置された。
次いで、この平板が炉内に装入されて、“ガラス化処理
”と呼ばれる手順においてガラスの溶融がなされた。こ
れに次いで、ガラス内でのバブルが“ヒッピング（ｈｉ
ｐｐｉｎｇ）”なる手順を用いて除去された。最後に、
ガラスの焼きなましがなされた。実験がなされて、最適
の焼きなまし温度は５１０℃であると決定された。焼き
なましサイクルの関数としてのガラス内の残留ストレス
は、生成されるガラスの耗・曲げのサンプルが平板から
用意されて、媒体の摩耗性テスト手順を用いることによ
るテストが行われた。
”と呼ばれる手順においてガラスの溶融がなされた。こ
れに次いで、ガラス内でのバブルが“ヒッピング（ｈｉ
ｐｐｉｎｇ）”なる手順を用いて除去された。最後に、
ガラスの焼きなましがなされた。実験がなされて、最適
の焼きなまし温度は５１０℃であると決定された。焼き
なましサイクルの関数としてのガラス内の残留ストレス
は、生成されるガラスの耗・曲げのサンプルが平板から
用意されて、媒体の摩耗性テスト手順を用いることによ
るテストが行われた。
Ｅ、実施例
第１図を参照すると、マルチトラック式テープ・ヘッド
の閉止区画ＩＯが示されている。１列の磁性フェライト
・ブロック１２が基板１４によって支持されている。こ
のフェライト・プロ、ｙり１２と基板１４とは閉止ガラ
ス１６によって一緒にされている。フェライト・ブロッ
ク１２の幅はデータ・トラックの幅を決定するものであ
り、また、フェライト・ブロック１２間の閉止ガラス１
６の幅はデータ・トラック間の分離距離を設定するもの
である。
の閉止区画ＩＯが示されている。１列の磁性フェライト
・ブロック１２が基板１４によって支持されている。こ
のフェライト・プロ、ｙり１２と基板１４とは閉止ガラ
ス１６によって一緒にされている。フェライト・ブロッ
ク１２の幅はデータ・トラックの幅を決定するものであ
り、また、フェライト・ブロック１２間の閉止ガラス１
６の幅はデータ・トラック間の分離距離を設定するもの
である。
第２図に示されているマルチトラック式テープ・ヘッド
１１におけるフェラ′イト・ウエーノ）！８は、閉止区
画１０と同じ長さと幅とを有するものであって、変換ギ
ャップ２０によって閉止区画１０から間隔をおかれてい
る。この変換ギヤ・ソゲ２０は、書き込み操作がなされ
ているときの、テープまたはディスクのような磁気媒体
との共同動作をするものである。マルチトラック式ヘッ
ド１１の組み立ては、この発明にとっては特に重要なこ
とではなく、周知の技術に従って実施することができる
。
１１におけるフェラ′イト・ウエーノ）！８は、閉止区
画１０と同じ長さと幅とを有するものであって、変換ギ
ャップ２０によって閉止区画１０から間隔をおかれてい
る。この変換ギヤ・ソゲ２０は、書き込み操作がなされ
ているときの、テープまたはディスクのような磁気媒体
との共同動作をするものである。マルチトラック式ヘッ
ド１１の組み立ては、この発明にとっては特に重要なこ
とではなく、周知の技術に従って実施することができる
。
この周知の技術としては、例えば、チュウ外（Ｃｈａｔ
ｅｔ ａｌ、）に対する米国特許第４，３６６，５１
８号、アーグメンド外（Ａｒｇｕｓ＋ｅｎｄｏ ｅｔ
ａｌ、）に対する米国特許第４，３９８，９６７号、お
よび、フランクリン外（Ｆｒａｎｋｌｉｎ ａｔ ａｌ
、）によるＩＢＭＴＤＢ（テクニカル・ディスクロージ
ャ・ブレティン）第１８巻、第６号、第１９８１−１９
８４頁の論文を挙げることができる。この発明が主とし
て関連することは、マルチトラック式テープ・ヘッド１
１において用いられる閉止ガラス１６の耐久性について
である。
ｅｔ ａｌ、）に対する米国特許第４，３６６，５１
８号、アーグメンド外（Ａｒｇｕｓ＋ｅｎｄｏ ｅｔ
ａｌ、）に対する米国特許第４，３９８，９６７号、お
よび、フランクリン外（Ｆｒａｎｋｌｉｎ ａｔ ａｌ
、）によるＩＢＭＴＤＢ（テクニカル・ディスクロージ
ャ・ブレティン）第１８巻、第６号、第１９８１−１９
８４頁の論文を挙げることができる。この発明が主とし
て関連することは、マルチトラック式テープ・ヘッド１
１において用いられる閉止ガラス１６の耐久性について
である。
ニューヨーク所在のコーニング・グラス社からの鉛・ホ
ウ素・ケイ酸ガラスを用いることが可能であるが、これ
はコーニング（登録商標）ガラス・コード７５７０とし
て販売されている。鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスは細かい
粉末状にされていて、浸漬処理、抽出処理、シルク・ス
クリーニング処理その他の適当な技術を適用することが
できる。
ウ素・ケイ酸ガラスを用いることが可能であるが、これ
はコーニング（登録商標）ガラス・コード７５７０とし
て販売されている。鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスは細かい
粉末状にされていて、浸漬処理、抽出処理、シルク・ス
クリーニング処理その他の適当な技術を適用することが
できる。
酢酸アミルのようなガラスに対する適当な媒質、および
、重量比で１．２％のニトロセルローズを添加すること
により、スラリー状のガラスを用意することができる。
、重量比で１．２％のニトロセルローズを添加すること
により、スラリー状のガラスを用意することができる。
鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスの作業点は５６０℃であり、
ここに、この作業点は１０’ポイズに等しいガラスの粘
度によって規定されるものである。鉛・ホウ素・ケイ酸
ガラスに対する熱膨張係数は８４本１０−’ ｉｎ／ｉ
ｎ／Ｔ：に等しい。
ここに、この作業点は１０’ポイズに等しいガラスの粘
度によって規定されるものである。鉛・ホウ素・ケイ酸
ガラスに対する熱膨張係数は８４本１０−’ ｉｎ／ｉ
ｎ／Ｔ：に等しい。
ニューヨーク所在のコーニング・グラス社からのホウ素
・ケイ酸ガラスを用いることが可能であるが、これはコ
ーニング（登録商標）ガラス・コード７７４０（これは
膨張性の低いホウ素−ケイ酸ガラスである）として販売
されている。鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスと同様に、この
ホウ素・ケイ酸ガラスは粉末状態で用いることが可能で
あって、上述された技術を適用することができる。ホウ
素・た、その熱膨張係数は３３ ＊ １０−’ ｉｎ／
ｉｎ／Ｔ：に等しい。鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスおよび
ホウ素・ケイ酸ガラスのいずれも高い耐食性を有してい
る。
・ケイ酸ガラスを用いることが可能であるが、これはコ
ーニング（登録商標）ガラス・コード７７４０（これは
膨張性の低いホウ素−ケイ酸ガラスである）として販売
されている。鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスと同様に、この
ホウ素・ケイ酸ガラスは粉末状態で用いることが可能で
あって、上述された技術を適用することができる。ホウ
素・た、その熱膨張係数は３３ ＊ １０−’ ｉｎ／
ｉｎ／Ｔ：に等しい。鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスおよび
ホウ素・ケイ酸ガラスのいずれも高い耐食性を有してい
る。
この発明の発明者が実験的に決定したことは、鉛・ホウ
素・ケイ酸ガラスとホウ素・ケイ酸ガラスとの組み合わ
せにより、マルチトラック式磁気テープ・ヘッドにおい
て好適に用いられる新規なガラスを生成させることであ
る。鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスとホウ素・ケイ酸ガラス
とを７０７３０の重量比をもって混合させたものはＮｉ
Ｚｎフェライトに適合しており、その溶融温度は８７０
℃に等しいものであった。この７０／３０のガラスは大
体良好な特性を有するものではあるが、その損耗が大き
過ぎるものであった。鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスとホウ
素・ケイ酸ガラスとを５０７５０の重量比をもって混合
させたものは、その溶融温度が９８０℃に等しく、これ
はＮｉＺｎフェライトとの適合には高過ぎるものであっ
た。これに加えて、この５０１５０のガラスにはクラッ
クを生閉止ピース（即ち、第１図における閉止ガラス１
６）のスロット内に組み込まれたときに、強いストレス
がかかった状態になることにあ、る。鉛・ホウ素・ケイ
酸ガラスとホウ素・ケイ酸ガラスとを６０／４０の重量
比をもって混合させたものは、マルチトラック式テープ
・へ・ノドにおける閉止ガラス１６として用いるのに最
適の特性を有するものであった。この６０／４０のガラ
スの溶融温度は９２０℃であって、その熱膨張係数はＮ
ｉＺｎフェライトとともに用いるのには適当なものであ
った。
素・ケイ酸ガラスとホウ素・ケイ酸ガラスとの組み合わ
せにより、マルチトラック式磁気テープ・ヘッドにおい
て好適に用いられる新規なガラスを生成させることであ
る。鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスとホウ素・ケイ酸ガラス
とを７０７３０の重量比をもって混合させたものはＮｉ
Ｚｎフェライトに適合しており、その溶融温度は８７０
℃に等しいものであった。この７０／３０のガラスは大
体良好な特性を有するものではあるが、その損耗が大き
過ぎるものであった。鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスとホウ
素・ケイ酸ガラスとを５０７５０の重量比をもって混合
させたものは、その溶融温度が９８０℃に等しく、これ
はＮｉＺｎフェライトとの適合には高過ぎるものであっ
た。これに加えて、この５０１５０のガラスにはクラッ
クを生閉止ピース（即ち、第１図における閉止ガラス１
６）のスロット内に組み込まれたときに、強いストレス
がかかった状態になることにあ、る。鉛・ホウ素・ケイ
酸ガラスとホウ素・ケイ酸ガラスとを６０／４０の重量
比をもって混合させたものは、マルチトラック式テープ
・へ・ノドにおける閉止ガラス１６として用いるのに最
適の特性を有するものであった。この６０／４０のガラ
スの溶融温度は９２０℃であって、その熱膨張係数はＮ
ｉＺｎフェライトとともに用いるのには適当なものであ
った。
その受は入れ可能な配合の限界は、鉛・ホウ素・ケイ酸
ガラスとホウ素・ケイ酸ガラスとを５５７４５の重量比
をもって混合させたものから、鉛・ホウ素・ケイ酸ガラ
スとホウ素・ケイ酸ガラスとを６５／３５の重量比をも
って混合させたものまでである。鉛・ホウ素・ケイ酸ガ
ラス配合比率が６５％を超えると、そのストレスが大き
くなり過ぎるとともに、その損耗も大きくなり過ぎる。
ガラスとホウ素・ケイ酸ガラスとを５５７４５の重量比
をもって混合させたものから、鉛・ホウ素・ケイ酸ガラ
スとホウ素・ケイ酸ガラスとを６５／３５の重量比をも
って混合させたものまでである。鉛・ホウ素・ケイ酸ガ
ラス配合比率が６５％を超えると、そのストレスが大き
くなり過ぎるとともに、その損耗も大きくなり過ぎる。
ホウ素・ケイ酸ガラス配合比率が４５％を超えると、そ
のストレスが再び大きくなり過ぎるとともに、その処理
のために必要とされるガラス化温度により、受は入れる
ことのできないフェライト粒子の臨界的な侵食が生じる
。
のストレスが再び大きくなり過ぎるとともに、その処理
のために必要とされるガラス化温度により、受は入れる
ことのできないフェライト粒子の臨界的な侵食が生じる
。
第３図ないし第５図には、６０／４０の組み合わせのガ
ラスについて、ガラス化処理、ヒッピング（ｈｉｐｐｉ
ｎｇ）処理、焼きなまし処理のために用いられる時間、
温度および圧力の条件が例示されている。第３図には、
ガラス化処理のステップのための温度の概観図が示され
ている。鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスとホウ素・ケイ酸ガ
ラスとは、粉末状態で、６０／４０の重量比をもって混
合するように組み合わされた。これが完全に混合された
後で、約３グラムないし４グラムのこの粉末の組み合わ
されたものが、その頂部表面に多くのスロットが切り込
まれているＮｉＺｎフェライト平板の表面上に配置され
た。このガラス粉末が乗せられた平板が、赤外線加熱炉
内に装入された。ガラスは平板上で溶融されて、これに
よりスロット内に充填されたが、これは次のような加熱
−冷却過程でなされた。即ち、平板を加熱することによ
り、４５分間の中に９２０℃まで上昇させ、その温度を
２時間にわたって９２０℃に保持し、次いで２時間の中
にその温度を７１０℃まで低下させ、これに次いで４時
間の中にその温度を３４５℃まで低下させ、そして最後
に炉を室温にまで戻した。
ラスについて、ガラス化処理、ヒッピング（ｈｉｐｐｉ
ｎｇ）処理、焼きなまし処理のために用いられる時間、
温度および圧力の条件が例示されている。第３図には、
ガラス化処理のステップのための温度の概観図が示され
ている。鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスとホウ素・ケイ酸ガ
ラスとは、粉末状態で、６０／４０の重量比をもって混
合するように組み合わされた。これが完全に混合された
後で、約３グラムないし４グラムのこの粉末の組み合わ
されたものが、その頂部表面に多くのスロットが切り込
まれているＮｉＺｎフェライト平板の表面上に配置され
た。このガラス粉末が乗せられた平板が、赤外線加熱炉
内に装入された。ガラスは平板上で溶融されて、これに
よりスロット内に充填されたが、これは次のような加熱
−冷却過程でなされた。即ち、平板を加熱することによ
り、４５分間の中に９２０℃まで上昇させ、その温度を
２時間にわたって９２０℃に保持し、次いで２時間の中
にその温度を７１０℃まで低下させ、これに次いで４時
間の中にその温度を３４５℃まで低下させ、そして最後
に炉を室温にまで戻した。
第４図には、温度および圧力の双方が制御された条件下
において、“ヒッピング処理が施されたことについて例
示されている。ヒッピングとは、ガラス内に存在するガ
ラス・バブル（泡）を除去するためになされる手順であ
る。ガラス化のために用いられた赤外線炉から取り出さ
れると、ガラス化されたフェライトの平板は平衡炉（ｉ
ｓｏｓｔａｔｉｃｆｕｒｎａｃｅ）内に装入された。３
０分間の中に炉の温度は室温から７４０℃まで上昇され
た。この３０分間でのガス圧力は初期的には１０００ｐ
ｓｉであった。この圧力は温度の関数として増大するも
のであり、７４０℃においては約２０００ｐｓｉであっ
た。この温度および圧力は３０分間にわたって維持され
、この時点から１０分間の中にその温岬貞（Ｃ，ｌへヤ
ホア解Ｔψスシシｌ、１１ 苓のぼｈｔ→１７５０ｐ
ｓｉまで低下した。そして、この温度および圧力は１時
間にわたって一定に保持され、しかる後に平衡炉の冷却
がなされた。
において、“ヒッピング処理が施されたことについて例
示されている。ヒッピングとは、ガラス内に存在するガ
ラス・バブル（泡）を除去するためになされる手順であ
る。ガラス化のために用いられた赤外線炉から取り出さ
れると、ガラス化されたフェライトの平板は平衡炉（ｉ
ｓｏｓｔａｔｉｃｆｕｒｎａｃｅ）内に装入された。３
０分間の中に炉の温度は室温から７４０℃まで上昇され
た。この３０分間でのガス圧力は初期的には１０００ｐ
ｓｉであった。この圧力は温度の関数として増大するも
のであり、７４０℃においては約２０００ｐｓｉであっ
た。この温度および圧力は３０分間にわたって維持され
、この時点から１０分間の中にその温岬貞（Ｃ，ｌへヤ
ホア解Ｔψスシシｌ、１１ 苓のぼｈｔ→１７５０ｐ
ｓｉまで低下した。そして、この温度および圧力は１時
間にわたって一定に保持され、しかる後に平衡炉の冷却
がなされた。
第５図には、赤外線炉内で実行される焼きなまし加熱サ
イクルが例示されている。焼きなましとは、ガラスの強
化のためおよびその脆さの減少のために用いられる、加
熱・徐冷処理のことである。
イクルが例示されている。焼きなましとは、ガラスの強
化のためおよびその脆さの減少のために用いられる、加
熱・徐冷処理のことである。
ガラス化され、ヒッピング処理が施されたフェライトの
平板は、赤外線炉内に装入されて、次のような温度の変
化を受ける。即ち、３０分間にわたって炉の温度が室温
から５１０℃まで上昇され、これに次いで炉の温度は１
時間にわたって一定に保持され、次いで８分間にわたっ
て１４℃±２℃に等しい冷却比率をもって４０５℃まで
炉の冷却がなされ、更に３分間だけ４０５℃で一定に保
持されてから、最終的な冷却がなされる。
平板は、赤外線炉内に装入されて、次のような温度の変
化を受ける。即ち、３０分間にわたって炉の温度が室温
から５１０℃まで上昇され、これに次いで炉の温度は１
時間にわたって一定に保持され、次いで８分間にわたっ
て１４℃±２℃に等しい冷却比率をもって４０５℃まで
炉の冷却がなされ、更に３分間だけ４０５℃で一定に保
持されてから、最終的な冷却がなされる。
第６図には、種々の焼きなまし温度が使用されたときの
、６０／４０の組み合わせのガラスに対する、実験的な
曲げ（ｂｏｗ）のストレスの結果が例示されている。こ
の実験で用いられたサンプルは全てクラックを生じなか
った。曲げのストレスについてのテストは次のようにし
てなされる。即ち、ガラス化され、ヒッピング処理がな
され、そして焼きなまし処理がなされた基板を用いて、
これに研磨処理を施すことにより、過剰なガラスをスロ
、２トの頂部から取り除くことによってなされる。これ
ニ加えて、大きいスロットの切り込みが基板の、裏側ま
でなされる。ガラスのスロットを横切って基板の端部か
ら端部へとその外形のトレースをとると、ストレスの計
測がなされる。その曲げの大きさは、フェライト／ガラ
ス積層構造の合成的なストレスに比例している。曲げの
計測は、１１重量および２２ ｍ ｍの長さのフェライ
ト・サンプルについてなされた。第６図に示されている
データは、１１重量のサンプルに対して正規化されたも
のである。この第６図から決定されることは、鉛・ホウ
素・ケイ酸ガラスおよびホウ素・ケイ酸ガラスが６０／
４０であるガラスが、５１０℃において残留ストレスが
最小のガラスであるということである。この５１０℃の
最適な焼きなまし温度は、第５図に示されている焼きな
ましサイクルにおいて実施された。
、６０／４０の組み合わせのガラスに対する、実験的な
曲げ（ｂｏｗ）のストレスの結果が例示されている。こ
の実験で用いられたサンプルは全てクラックを生じなか
った。曲げのストレスについてのテストは次のようにし
てなされる。即ち、ガラス化され、ヒッピング処理がな
され、そして焼きなまし処理がなされた基板を用いて、
これに研磨処理を施すことにより、過剰なガラスをスロ
、２トの頂部から取り除くことによってなされる。これ
ニ加えて、大きいスロットの切り込みが基板の、裏側ま
でなされる。ガラスのスロットを横切って基板の端部か
ら端部へとその外形のトレースをとると、ストレスの計
測がなされる。その曲げの大きさは、フェライト／ガラ
ス積層構造の合成的なストレスに比例している。曲げの
計測は、１１重量および２２ ｍ ｍの長さのフェライ
ト・サンプルについてなされた。第６図に示されている
データは、１１重量のサンプルに対して正規化されたも
のである。この第６図から決定されることは、鉛・ホウ
素・ケイ酸ガラスおよびホウ素・ケイ酸ガラスが６０／
４０であるガラスが、５１０℃において残留ストレスが
最小のガラスであるということである。この５１０℃の
最適な焼きなまし温度は、第５図に示されている焼きな
ましサイクルにおいて実施された。
第７図には、種々の焼きなまし温度が使用されたときの
、６５／３５および５５／４５の組み合わせのガラスに
対する、実験的な曲げ（ｂｏｗ）のストレスの結果が例
示されている。その曲げのストレスに対するテストは上
述されたようにして実行された。曲げについての計測は
１１重量の長さのフェライト・サンプルについ°Ｃなさ
れた。この第７図においては、これらの組み合わせのも
のがより高いストレスの状態にあるときに、いくらかの
クラックが生じることが示されている。鉛・ホウ素・ケ
イ酸ガラスおよびホウ素・ケイ酸ガラスのこれらの組み
合わせは、受は入れることができる閉止ガラスに対する
限界を示すものと考えるべきである。
、６５／３５および５５／４５の組み合わせのガラスに
対する、実験的な曲げ（ｂｏｗ）のストレスの結果が例
示されている。その曲げのストレスに対するテストは上
述されたようにして実行された。曲げについての計測は
１１重量の長さのフェライト・サンプルについ°Ｃなさ
れた。この第７図においては、これらの組み合わせのも
のがより高いストレスの状態にあるときに、いくらかの
クラックが生じることが示されている。鉛・ホウ素・ケ
イ酸ガラスおよびホウ素・ケイ酸ガラスのこれらの組み
合わせは、受は入れることができる閉止ガラスに対する
限界を示すものと考えるべきである。
摩耗、曲げ用のサンプルは、第３図ないし第５図に示さ
れている手順によって得られた、ガラス化され、ヒッピ
ング処理がなされ、そして焼きなまし処理がなされたフ
ェライトの平板から用意された。この摩耗、曲げ用のサ
ンプルは、その表面がフェライトとガラスとの交番的な
部分を有するように切断され、ミーリング処理された平
板の区画である。テスト下にあるサンプルは、次いで、
該テスト・サンプルのコーナ部上でテープを通すことに
より、ＰＤＭンノイタ（Ｓｏｎｏｉｔａ）記録媒体を用
いて摩耗処理を受けた。該テープがコーナ部を摩耗させ
るところでは、このテストの手順に従ってフラットにさ
れる。この摩耗したフラットに沿ってとられた外形的な
トレースは、フェライトおよびガラスの双方の相対的な
高さを示している。この情報から、フェライトおよびガ
ラスの双方の相対的な摩耗の比率を決定することができ
る。
れている手順によって得られた、ガラス化され、ヒッピ
ング処理がなされ、そして焼きなまし処理がなされたフ
ェライトの平板から用意された。この摩耗、曲げ用のサ
ンプルは、その表面がフェライトとガラスとの交番的な
部分を有するように切断され、ミーリング処理された平
板の区画である。テスト下にあるサンプルは、次いで、
該テスト・サンプルのコーナ部上でテープを通すことに
より、ＰＤＭンノイタ（Ｓｏｎｏｉｔａ）記録媒体を用
いて摩耗処理を受けた。該テープがコーナ部を摩耗させ
るところでは、このテストの手順に従ってフラットにさ
れる。この摩耗したフラットに沿ってとられた外形的な
トレースは、フェライトおよびガラスの双方の相対的な
高さを示している。この情報から、フェライトおよびガ
ラスの双方の相対的な摩耗の比率を決定することができ
る。
第８図ないし第１０図には、Ｉ ＢＭ４００式のガラス
を有するものの摩耗・曲げに対する、上述の摩耗性テス
トを用いて得られた摩耗・曲げの外形的な結果が示され
ている。即ち、鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスとホウ素・ケ
イ酸ガラスとの６０７４０の組み合わせによる高いスト
レスのものく４８０℃で焼きなましされたガラス）の摩
耗・曲げ、および、鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスとホウ素
・ケイ酸ガラスとの６０／４０の組み合わせによる低い
ストレスのもの（５１０℃で焼きなましされたガラス）
の摩耗・曲げ、のそれぞれについての結果が示されてい
る。第８図に示されている１８Ｍ４００式のガラスの摩
耗・曲げの結果は参照のために用いられているものであ
り、その寸法は、縦座標に沿って５μ゛′、横座標に沿
って１０００μ°゛にされている。第９図および第１０
図の双方における寸法は２μ°゛対１０００μ°°であ
る。１８Ｍ４００式のガラスに比べると、鉛・ホウ素・
ケイ酸ガラスとホウ素・ケイ酸ガラスとの６０７４０の
組み合わせによるガラスの摩耗は遥かに少なかった。
を有するものの摩耗・曲げに対する、上述の摩耗性テス
トを用いて得られた摩耗・曲げの外形的な結果が示され
ている。即ち、鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスとホウ素・ケ
イ酸ガラスとの６０７４０の組み合わせによる高いスト
レスのものく４８０℃で焼きなましされたガラス）の摩
耗・曲げ、および、鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスとホウ素
・ケイ酸ガラスとの６０／４０の組み合わせによる低い
ストレスのもの（５１０℃で焼きなましされたガラス）
の摩耗・曲げ、のそれぞれについての結果が示されてい
る。第８図に示されている１８Ｍ４００式のガラスの摩
耗・曲げの結果は参照のために用いられているものであ
り、その寸法は、縦座標に沿って５μ゛′、横座標に沿
って１０００μ°゛にされている。第９図および第１０
図の双方における寸法は２μ°゛対１０００μ°°であ
る。１８Ｍ４００式のガラスに比べると、鉛・ホウ素・
ケイ酸ガラスとホウ素・ケイ酸ガラスとの６０７４０の
組み合わせによるガラスの摩耗は遥かに少なかった。
第９図および第１０図を対比して認められることは、６
０／４０のガラスの摩耗特性は当該ガラスにおける残留
ストレスに関連していることである。第９図においては
、６０／４０のガラスのストレスが高くなればなるほど
、その摩耗比率が少なくなることが示されている。これ
に対して、第１０図においては、低いストレスにおいて
、６０／４０のガラスの摩耗はＮｉＺｎフェライトのそ
れとほぼ同じであることが示されている。このＮｉＺｒ
＋フェライトは、マルチトラック式のテープ・ヘッドに
おける閉止ガラスに対する所望の特性を有するものであ
る。
０／４０のガラスの摩耗特性は当該ガラスにおける残留
ストレスに関連していることである。第９図においては
、６０／４０のガラスのストレスが高くなればなるほど
、その摩耗比率が少なくなることが示されている。これ
に対して、第１０図においては、低いストレスにおいて
、６０／４０のガラスの摩耗はＮｉＺｎフェライトのそ
れとほぼ同じであることが示されている。このＮｉＺｒ
＋フェライトは、マルチトラック式のテープ・ヘッドに
おける閉止ガラスに対する所望の特性を有するものであ
る。
この発明の説明は、特定の時間−温度−圧力に基づく、
ガラス化処理、ヒッピング処理および焼きなまし処理の
条件が用いられた好適な実施例についてなされたけれど
も、当業者によって認められるように、これらの条件に
おける変動は特許請求の範囲に記載されている範囲内で
実施をすることができるものである。
ガラス化処理、ヒッピング処理および焼きなまし処理の
条件が用いられた好適な実施例についてなされたけれど
も、当業者によって認められるように、これらの条件に
おける変動は特許請求の範囲に記載されている範囲内で
実施をすることができるものである。
Ｆ１発明の効果
この発明により、摩耗特性の改良された磁気テープ・ヘ
ッドが提供される。
ッドが提供される。
第１図は、マルチトラックのヘッドにおける閉止区画の
等大間である。 第２図は、マルチトラック式テープ・ヘッドの等大間で
ある。 第３図ないし第５図は、それぞれに、ガラス処理、ヒッ
ピング処理および焼きなまし処理のステップのために用
いられる、炉の温度の時間に対する概観図である。 第６図および第７図は、ガラス・サンプルに対して用い
られる、焼きなまし温度に対する曲げストレスのテスト
結果を表すグラフ図である。 第８図ないし第１Ｏ図は、それぞれに、１８Ｍ４００式
のガラス、高いストレスの鉛・ホウ素・ケイ酸ガラス／
ホウ素・ケイ酸ガラス、および、低いストレスの鉛・ホ
ウ素・ケイ酸ガラス／ホウ素・ケイ酸ガラスによる、摩
耗・曲げに対する媒体の摩耗性のテスト結果についての
プロット図である。 １０・・閉止区画、ｌｌ・・マルチトラック式のテープ
・ヘッド、１２・・磁性フェライト・ブロック、１４・
・基板、１６・・閉止ガラス、１８・・フェライト・ウ
ェーハ、２０・・変換ギャップ。 閉正ガラス フエライトグロ・ンク 第８図 第４図 第５図 ａ／ＪＪＬ温友（Ｏ〔） 第６図 ストレスｔＸ＋対焼ｆＪまし５級 焼ｆＪ五し！ｌ友（０〔） 第７図
等大間である。 第２図は、マルチトラック式テープ・ヘッドの等大間で
ある。 第３図ないし第５図は、それぞれに、ガラス処理、ヒッ
ピング処理および焼きなまし処理のステップのために用
いられる、炉の温度の時間に対する概観図である。 第６図および第７図は、ガラス・サンプルに対して用い
られる、焼きなまし温度に対する曲げストレスのテスト
結果を表すグラフ図である。 第８図ないし第１Ｏ図は、それぞれに、１８Ｍ４００式
のガラス、高いストレスの鉛・ホウ素・ケイ酸ガラス／
ホウ素・ケイ酸ガラス、および、低いストレスの鉛・ホ
ウ素・ケイ酸ガラス／ホウ素・ケイ酸ガラスによる、摩
耗・曲げに対する媒体の摩耗性のテスト結果についての
プロット図である。 １０・・閉止区画、ｌｌ・・マルチトラック式のテープ
・ヘッド、１２・・磁性フェライト・ブロック、１４・
・基板、１６・・閉止ガラス、１８・・フェライト・ウ
ェーハ、２０・・変換ギャップ。 閉正ガラス フエライトグロ・ンク 第８図 第４図 第５図 ａ／ＪＪＬ温友（Ｏ〔） 第６図 ストレスｔＸ＋対焼ｆＪまし５級 焼ｆＪ五し！ｌ友（０〔） 第７図
Claims (7)
- （１）６５ないし５５重量％の鉛・ホウ素・ケイ酸ガラ
ス、および、 ３５ないし４５重量％のホウ素・ケイ酸 ガラス、 の組み合わせからなる、磁気テープ・ヘッ ド用の低摩耗性の閉止用ガラス。 - （２）前記鉛・ホウ素・ケイ酸ガラスは約６０重量％だ
け存在し、前記ホウ素・ケイ酸ガラスは約４０重量％だ
け存在する、請求項１に記載の低摩耗性の閉止用ガラス
。 - （３）６５ないし５５重量％の鉛・ホウ素・ケイ酸ガラ
スを、３５ないし４５重量％のホウ素・ケイ酸ガラスと
混合してガラス混合体を生成させるプロセスと、 前記ガラス混合体をスロットが付された フェライト平板に適合させるプロセスと、 前記スロットが付された平板を前記ガラ ス混合体とともに加熱して、前記ガラス混合体を溶融さ
せるのに十分な温度になるようにしてガラス化して、ガ
ラス化されたフェライトの平板を生成させるプロセスと
、 前記ガラス化されたフェライトの平板を 十分な温度および圧力条件の下におくことにより、前記
ガラス化されたフェライトの平板内に存在するバブルを
除去するようにヒッピング処理を施して、ガラス化され
、ヒッピング処理がなされたフェライトの平板を生成さ
せるプロセスと、 前記ガラス化され、ヒッピング処理がな されたフェライトの平板を、前記平板内に存在するガラ
スを強化させるある選択された温度において焼きなまし
をするプロセスと、 によって生成された閉止用ガラスを有し てなるマルチトラック式のテープ・ヘッド。 - （４）前記混合のステップにおいて用いられる前記鉛・
ホウ素・ケイ酸ガラスは約６０重量％だけ存在し、前記
混合のステップにおいて用いられる、前記ホウ素・ケイ
酸ガラスは約４０重量％だけ存在する、請求項３に記載
のマルチトラック式のテープ・ヘッド。 - （５）前記焼きなましのステップにおける前記選択され
た温度は、前記平板上に存在する前記ガラスのための所
望のストレス・レベルに従って選択される、請求項３に
記載のマルチトラック式のテープ・ヘッド。 - （６）前記焼きなましのステップにおける前記選択され
た温度は５００℃と５２０℃との間にある、請求項３に
記載のマルチトラック式のテープ・ヘッド。 - （７）６５ないし５５重量％の前記の鉛・ホウ素・ケイ
酸ガラスを、３５ないし４５重量％の前記のホウ素・ケ
イ酸ガラスと混合してガラス混合体を生成させるステッ
プと、 前記ガラス混合体をスロットが付された フェライト平板に適合させるステップと、 前記スロットが付された平板を前記ガラ ス混合体とともに加熱して、前記ガラス混合体を溶融さ
せるのに十分な温度になるようにしてガラス化して、ガ
ラス化されたフェライトの平板を生成させるステップと
、 前記ガラス化されたフェライトの平板を 十分な温度および圧力条件の下におくことにより、前記
ガラス化されたフェライトの平板内に存在するバブルを
除去するようにヒッピング処理を施して、ガラス化され
、ヒッピング処理がなされたフェライトの平板を生成さ
せるステップと、 前記ガラス化され、ヒッピング処理がな されたフェライトの平板を、前記平板内に存在するガラ
スを強化させるある選択された温度において焼きなまし
をするステップとからなる、マルチトラック式のテープ
・ヘッドのための閉止用ガラスの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US36773389A | 1989-06-19 | 1989-06-19 | |
| US367733 | 1989-06-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0333028A true JPH0333028A (ja) | 1991-02-13 |
| JPH06103523B2 JPH06103523B2 (ja) | 1994-12-14 |
Family
ID=23448386
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2158896A Expired - Lifetime JPH06103523B2 (ja) | 1989-06-19 | 1990-06-19 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0404741B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06103523B2 (ja) |
| DE (1) | DE69007180T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9423717B2 (en) | 2012-10-15 | 2016-08-23 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Charge roller for electrographic printer |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108225403B (zh) * | 2017-12-28 | 2024-01-30 | 重庆日联科技有限公司 | 带托盘的异形件通用检测机 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60186437A (ja) * | 1984-03-02 | 1985-09-21 | Fuji Elelctrochem Co Ltd | フエライト接着用ガラス組成物 |
| JPS63170240A (ja) * | 1987-01-09 | 1988-07-14 | Toshiba Glass Co Ltd | 低融点ガラス組成物 |
| JPH01138151A (ja) * | 1987-11-24 | 1989-05-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2316742A (en) * | 1941-06-05 | 1943-04-13 | E I Du Pont De Neumours & Comp | Ceramic coating composition |
| US3493405A (en) * | 1967-08-07 | 1970-02-03 | Gen Electric | Semiconductor encapsulation glass |
| DE1596995A1 (de) * | 1967-12-28 | 1971-04-01 | Siemens Ag | Glaslot |
| US4435511A (en) * | 1982-09-13 | 1984-03-06 | Owens-Illinois, Inc. | Glasses suitable for sealing ferrites |
-
1990
- 1990-05-21 DE DE1990607180 patent/DE69007180T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-05-21 EP EP19900850196 patent/EP0404741B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-06-19 JP JP2158896A patent/JPH06103523B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60186437A (ja) * | 1984-03-02 | 1985-09-21 | Fuji Elelctrochem Co Ltd | フエライト接着用ガラス組成物 |
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| JPH01138151A (ja) * | 1987-11-24 | 1989-05-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US9423717B2 (en) | 2012-10-15 | 2016-08-23 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Charge roller for electrographic printer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06103523B2 (ja) | 1994-12-14 |
| EP0404741A1 (en) | 1990-12-27 |
| EP0404741B1 (en) | 1994-03-09 |
| DE69007180T2 (de) | 1994-09-22 |
| DE69007180D1 (de) | 1994-04-14 |
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