JPH0334750Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0334750Y2 JPH0334750Y2 JP1986052919U JP5291986U JPH0334750Y2 JP H0334750 Y2 JPH0334750 Y2 JP H0334750Y2 JP 1986052919 U JP1986052919 U JP 1986052919U JP 5291986 U JP5291986 U JP 5291986U JP H0334750 Y2 JPH0334750 Y2 JP H0334750Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- cleaning liquid
- arm
- support shaft
- cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 82
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 63
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 12
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 12
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 2
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
<産業上の利用分野>
本考案は、集積回路のホトエツチング用マスク
を洗浄するマスク洗浄装置に関する。
を洗浄するマスク洗浄装置に関する。
<従来の技術>
従来から、ホトエツチング用マスク(以下、マ
スクという)の洗浄は、第4図及び第5図に示す
ようなマスク洗浄装置によつて行われている。こ
のマスク洗浄装置は、板状のアーム30がボス部
31から十字形に突出しているマスクホルダー3
2と、マスクホルダー32のボス部31を真空吸
着してマスクホルダー32全体を回転させる支持
軸33とからなつている。そして、マスクホルダ
ー32の上方には、マスク10の上面を洗浄する
ための洗浄液を射出するリンスパイプ34が設け
られている。また、マスクホルダー32の下方に
は、マスク10の上面から下面への異物のまわり
こみを防ぐための洗浄液を射出するバツクリンス
パイプ35と、マスク10に付着した洗浄液を乾
燥させるための乾燥用ガスを射出するブローパイ
プ36とが設けられている。なお、このようなマ
スク洗浄装置における洗浄液としては、純水など
が使用される。
スクという)の洗浄は、第4図及び第5図に示す
ようなマスク洗浄装置によつて行われている。こ
のマスク洗浄装置は、板状のアーム30がボス部
31から十字形に突出しているマスクホルダー3
2と、マスクホルダー32のボス部31を真空吸
着してマスクホルダー32全体を回転させる支持
軸33とからなつている。そして、マスクホルダ
ー32の上方には、マスク10の上面を洗浄する
ための洗浄液を射出するリンスパイプ34が設け
られている。また、マスクホルダー32の下方に
は、マスク10の上面から下面への異物のまわり
こみを防ぐための洗浄液を射出するバツクリンス
パイプ35と、マスク10に付着した洗浄液を乾
燥させるための乾燥用ガスを射出するブローパイ
プ36とが設けられている。なお、このようなマ
スク洗浄装置における洗浄液としては、純水など
が使用される。
このマスク洗浄装置によるマスク10の洗浄
は、次のように行う。
は、次のように行う。
マスクホルダー32上にセツトしたマスク10
を、支持軸33によりマスクホルダー32ととも
に回転させる。そして、リンスパイプ34から洗
浄液を射出し、マスク10の上面に付着している
異物を除去する。また、バツクリンスパイプ35
からも洗浄液を射出して、マスク10の上面から
下面へ異物がまわりこんでくるのを防止する。洗
浄後、ブローパイプ36から乾燥用ガスを射出し
て、マスク10に付着した洗浄液を乾燥させる。
そして、マスク10の両面を反転させ、同様に洗
浄することにより、マスク10の両面が洗浄、乾
燥される。
を、支持軸33によりマスクホルダー32ととも
に回転させる。そして、リンスパイプ34から洗
浄液を射出し、マスク10の上面に付着している
異物を除去する。また、バツクリンスパイプ35
からも洗浄液を射出して、マスク10の上面から
下面へ異物がまわりこんでくるのを防止する。洗
浄後、ブローパイプ36から乾燥用ガスを射出し
て、マスク10に付着した洗浄液を乾燥させる。
そして、マスク10の両面を反転させ、同様に洗
浄することにより、マスク10の両面が洗浄、乾
燥される。
<考案が解決しようとする問題点>
ところで、このようなマスク洗浄装置では、マ
スク10を保持しているマスクホルダー32を高
速で回転させる。そのため、マスクホルダー32
のアーム30は高速回転による遠心力に耐える強
度が要求され、このアーム30として断面積の大
きなものを用いなければならない。そして、回転
に対する空気抵抗を考慮すると、必然的にアーム
の横幅Wが大きくなる。
スク10を保持しているマスクホルダー32を高
速で回転させる。そのため、マスクホルダー32
のアーム30は高速回転による遠心力に耐える強
度が要求され、このアーム30として断面積の大
きなものを用いなければならない。そして、回転
に対する空気抵抗を考慮すると、必然的にアーム
の横幅Wが大きくなる。
しかし、このような構造のマスクホルダー32
の上面にセツトされたマスク10に対して、その
下方に固定して設けられたバツクリンスパイプ3
5から洗浄液を射出した場合、次のような問題点
がある。すなわち、洗浄液はマスクホルダー32
のアーム30に邪魔されて、マスク10下面のア
ーム30に対面する部分には直接かからない。ま
た、アーム30の回転により洗浄液がはじきとば
されるので、マスク10下面のアーム30の後方
に位置する部分にも洗浄液がかからない。そのた
め、マスク10下面の全域は洗浄液がいきわたら
ない。したがつて、マスク10の上面から下面へ
の異物のまわりこみ防止を充分に行うことができ
ず、そのため、マスク10の充分な洗浄ができな
いという問題点があつた。
の上面にセツトされたマスク10に対して、その
下方に固定して設けられたバツクリンスパイプ3
5から洗浄液を射出した場合、次のような問題点
がある。すなわち、洗浄液はマスクホルダー32
のアーム30に邪魔されて、マスク10下面のア
ーム30に対面する部分には直接かからない。ま
た、アーム30の回転により洗浄液がはじきとば
されるので、マスク10下面のアーム30の後方
に位置する部分にも洗浄液がかからない。そのた
め、マスク10下面の全域は洗浄液がいきわたら
ない。したがつて、マスク10の上面から下面へ
の異物のまわりこみ防止を充分に行うことができ
ず、そのため、マスク10の充分な洗浄ができな
いという問題点があつた。
本考案は、前述の問題点に鑑みてなされたもの
であつて、マスクの充分な洗浄ができる。マスク
洗浄装置を提供することを目的としている。
であつて、マスクの充分な洗浄ができる。マスク
洗浄装置を提供することを目的としている。
<問題点を解決するための手段>
本考案は、上記の目的を達成するために、内部
に洗浄液供給路が形成されて縦軸周りに回転する
支持軸と、洗浄すべきマスクを保持して前記支持
軸とともに回転するマスクホルダーとを備えてい
る。そして、前記支持軸と連結されて回転中心と
なる前記マスクホルダーのボス部の内部に、前記
洗浄液供給路に通じる洗浄液流通孔を形成する一
方、前記ボス部から放射状に延出され、かつ、前
記マスクと対面するアームの内部に前記洗浄液流
通孔に通じる洗浄液通路を形成するとともに、こ
のアームの表面に前記マスクに向かつて開口した
多数の洗浄液射出孔を形成している。
に洗浄液供給路が形成されて縦軸周りに回転する
支持軸と、洗浄すべきマスクを保持して前記支持
軸とともに回転するマスクホルダーとを備えてい
る。そして、前記支持軸と連結されて回転中心と
なる前記マスクホルダーのボス部の内部に、前記
洗浄液供給路に通じる洗浄液流通孔を形成する一
方、前記ボス部から放射状に延出され、かつ、前
記マスクと対面するアームの内部に前記洗浄液流
通孔に通じる洗浄液通路を形成するとともに、こ
のアームの表面に前記マスクに向かつて開口した
多数の洗浄液射出孔を形成している。
<作用>
上記の構成によれば、支持軸の洗浄液供給路と
マスクホルダーのアームの内部に形成された洗浄
液通路とがそのボス部の内部に形成された洗浄液
流通孔を介して連通接続されているので、これら
の流路を流通してきた洗浄液はアームの表面に開
口した多数の洗浄液射出孔からマスクの下面に向
かつて射出されることになる。このため、マスク
の下面のアームに対面する部分やその後方に位置
する部分にも洗浄液がかかり、マスク下面の全域
に洗浄液がいきわたる。
マスクホルダーのアームの内部に形成された洗浄
液通路とがそのボス部の内部に形成された洗浄液
流通孔を介して連通接続されているので、これら
の流路を流通してきた洗浄液はアームの表面に開
口した多数の洗浄液射出孔からマスクの下面に向
かつて射出されることになる。このため、マスク
の下面のアームに対面する部分やその後方に位置
する部分にも洗浄液がかかり、マスク下面の全域
に洗浄液がいきわたる。
<実施例>
以下、本考案を第1図ないし第3図に示す実施
例に基づいて詳細に説明する。マスク洗浄装置は
マスク10を保持するマスクホルダー11と、マ
スクホルダー11を回転させる支持軸12と、乾
燥ガスを射出するブローパイプ13と、洗浄液を
射出するリンスパイプ14とから構成されてい
る。マスクホルダー11は、支持軸12と連結さ
れて回転中心となるボス部15と、このボス部1
5から放射状、例えば、十字状に延出された数本
のアーム16とから構成されており、各々のアー
ム16の内部には、洗浄液通路17が形成されて
いる。そして、ボス部15には下面側に開口した
洗浄液流通孔18が設けられ、この洗浄液流通孔
18には各々のアーム16に形成された洗浄液通
路17が連通接続されている。なお、図面ではア
ーム16を4本としているが、マスク10を保持
できる本数であればよい。各々のアーム16の斜
め上向きの側面および上面には、マスクに向かつ
て開口され、かつ、洗浄液を射出する多数の洗浄
液射出孔19が設けられ、各洗浄液射出孔19は
洗浄液通路17に連通している。
例に基づいて詳細に説明する。マスク洗浄装置は
マスク10を保持するマスクホルダー11と、マ
スクホルダー11を回転させる支持軸12と、乾
燥ガスを射出するブローパイプ13と、洗浄液を
射出するリンスパイプ14とから構成されてい
る。マスクホルダー11は、支持軸12と連結さ
れて回転中心となるボス部15と、このボス部1
5から放射状、例えば、十字状に延出された数本
のアーム16とから構成されており、各々のアー
ム16の内部には、洗浄液通路17が形成されて
いる。そして、ボス部15には下面側に開口した
洗浄液流通孔18が設けられ、この洗浄液流通孔
18には各々のアーム16に形成された洗浄液通
路17が連通接続されている。なお、図面ではア
ーム16を4本としているが、マスク10を保持
できる本数であればよい。各々のアーム16の斜
め上向きの側面および上面には、マスクに向かつ
て開口され、かつ、洗浄液を射出する多数の洗浄
液射出孔19が設けられ、各洗浄液射出孔19は
洗浄液通路17に連通している。
また、各々アーム16の先端にはマスク10を
保持する保持具20が設けられ、かつ互いに周方
向に隣合う保持具20はリング状の強化部材21
で連結されている。なお、このように強化部材2
1を設けると、各アーム16の強度が強められる
ので、アーム16の断面積、特にその横幅を小さ
くすることができる。
保持する保持具20が設けられ、かつ互いに周方
向に隣合う保持具20はリング状の強化部材21
で連結されている。なお、このように強化部材2
1を設けると、各アーム16の強度が強められる
ので、アーム16の断面積、特にその横幅を小さ
くすることができる。
支持軸12はその上端部でマスクホルダー11
のボス部15を真空吸着により固定し、縦軸回り
に回転させる。支持軸12の軸心にはボス部15
の洗浄液流通孔18に連通する洗浄液供給路22
が設けられている。なお、洗浄液供給路22の外
周部には真空排気通路23が形成されている。こ
の洗浄液供給路22に流入した洗浄液は、洗浄液
流通孔18を通り各々のアーム16に流入する。
のボス部15を真空吸着により固定し、縦軸回り
に回転させる。支持軸12の軸心にはボス部15
の洗浄液流通孔18に連通する洗浄液供給路22
が設けられている。なお、洗浄液供給路22の外
周部には真空排気通路23が形成されている。こ
の洗浄液供給路22に流入した洗浄液は、洗浄液
流通孔18を通り各々のアーム16に流入する。
また、ガス射出孔24を設けたリング状のブロ
ーパイプ13が、マスクホルダー11の下方に固
定して設けられている。なお、このブローパイプ
13はマスクホルダー11もしくは支持軸12に
支持されるものであつてもよく、その場合は支持
軸12に設けられる内部通路を通じて乾燥用ガス
を供給する。
ーパイプ13が、マスクホルダー11の下方に固
定して設けられている。なお、このブローパイプ
13はマスクホルダー11もしくは支持軸12に
支持されるものであつてもよく、その場合は支持
軸12に設けられる内部通路を通じて乾燥用ガス
を供給する。
このマスク洗浄装置によるマスク10の洗浄
は、次のように行う。
は、次のように行う。
マスク10をマスクホルダー11の保持具20
に挿入して、セツトする。支持軸12を矢印A方
向に回転させて、マスクホルダー11とともにマ
スク10を回転させる。リンスパイプ14から高
圧の洗浄液を射出して、マスク10の上面に付着
している異物を除去する。また、支持軸12の洗
浄液供給路22、マスクホルダー11の洗浄液流
通孔18及びアーム16を流通してきた低圧の洗
浄液を、マスクホルダー11の洗浄液射出孔19
から射出させる。このことにより、異物がマスク
10の上面から下面にまわりこんでくるのを防止
する。洗浄後、ブローパイプ13のガス射出孔2
4から乾燥用ガスを射出して、マスク10に付着
した洗浄液を乾燥させる。そして、マスク10の
両面を反転させて前記と同様の手順で洗浄、乾燥
させる。
に挿入して、セツトする。支持軸12を矢印A方
向に回転させて、マスクホルダー11とともにマ
スク10を回転させる。リンスパイプ14から高
圧の洗浄液を射出して、マスク10の上面に付着
している異物を除去する。また、支持軸12の洗
浄液供給路22、マスクホルダー11の洗浄液流
通孔18及びアーム16を流通してきた低圧の洗
浄液を、マスクホルダー11の洗浄液射出孔19
から射出させる。このことにより、異物がマスク
10の上面から下面にまわりこんでくるのを防止
する。洗浄後、ブローパイプ13のガス射出孔2
4から乾燥用ガスを射出して、マスク10に付着
した洗浄液を乾燥させる。そして、マスク10の
両面を反転させて前記と同様の手順で洗浄、乾燥
させる。
なお、マスクホルダー11の洗浄液射出孔19
からリンスパイプ14と同様に高圧の洗浄液を射
出すれば、マスク10を反転させることなく、マ
スク10両面の洗浄を行うこともできる。
からリンスパイプ14と同様に高圧の洗浄液を射
出すれば、マスク10を反転させることなく、マ
スク10両面の洗浄を行うこともできる。
<考案の効果>
以上のように、本考案によれば、洗浄液がマス
クホルダーのアームに設けられた多数の洗浄液射
出孔からマスクの下面に射出する。このため、マ
スクの下面のアームに対面する部分やその後方に
位置する部分にも洗浄液がかかり、マスク下面の
全域に洗浄液がいきわたる。したがつて、マスク
の充分な洗浄ができるという効果がある。
クホルダーのアームに設けられた多数の洗浄液射
出孔からマスクの下面に射出する。このため、マ
スクの下面のアームに対面する部分やその後方に
位置する部分にも洗浄液がかかり、マスク下面の
全域に洗浄液がいきわたる。したがつて、マスク
の充分な洗浄ができるという効果がある。
第1図ないし第3図は本考案の一実施例のマス
ク洗浄装置に係り、第1図はその一部断面平面
図、第2図はその一部断面側面図、第3図は第2
図の−線に沿う横断面図である。第4図及び
第5図は従来例に係り、第4図はその一部断面平
面図、第5図はその一部断面側面図である。 11……マスクホルダー、12……支持軸、1
6……アーム、17……洗浄液通路、19……洗
浄液射出孔、22……洗浄液供給路。
ク洗浄装置に係り、第1図はその一部断面平面
図、第2図はその一部断面側面図、第3図は第2
図の−線に沿う横断面図である。第4図及び
第5図は従来例に係り、第4図はその一部断面平
面図、第5図はその一部断面側面図である。 11……マスクホルダー、12……支持軸、1
6……アーム、17……洗浄液通路、19……洗
浄液射出孔、22……洗浄液供給路。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 内部に洗浄液供給路が形成されて縦軸回りに回
転する支持軸と、洗浄すべきマスクを保持して前
記支持軸とともに回転するマスクホルダーとを備
えており、 前記支持軸と連結されて回転中心となる前記マ
スクホルダーのボス部の内部に、前記洗浄液供給
路に通じる洗浄液流通孔を形成する一方、 前記ボス部から放射状に延出され、かつ、前記
マスクと対面するアームの内部に前記洗浄液流通
孔に通じる洗浄液通路を形成するとともに、この
アームの表面に前記マスクに向かつて開口した多
数の洗浄液射出孔を形成したことを特徴とするマ
スク洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986052919U JPH0334750Y2 (ja) | 1986-04-09 | 1986-04-09 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986052919U JPH0334750Y2 (ja) | 1986-04-09 | 1986-04-09 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62164347U JPS62164347U (ja) | 1987-10-19 |
| JPH0334750Y2 true JPH0334750Y2 (ja) | 1991-07-23 |
Family
ID=30878511
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986052919U Expired JPH0334750Y2 (ja) | 1986-04-09 | 1986-04-09 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0334750Y2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5005571B2 (ja) * | 2008-02-14 | 2012-08-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置 |
| JP5467583B2 (ja) * | 2011-02-17 | 2014-04-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板洗浄装置 |
| JP2016111302A (ja) * | 2014-12-10 | 2016-06-20 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
-
1986
- 1986-04-09 JP JP1986052919U patent/JPH0334750Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62164347U (ja) | 1987-10-19 |
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