JPH0336520Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0336520Y2 JPH0336520Y2 JP1986144149U JP14414986U JPH0336520Y2 JP H0336520 Y2 JPH0336520 Y2 JP H0336520Y2 JP 1986144149 U JP1986144149 U JP 1986144149U JP 14414986 U JP14414986 U JP 14414986U JP H0336520 Y2 JPH0336520 Y2 JP H0336520Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- gas
- metal plate
- porous metal
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本考案は、プラズマCVD装置、プラズマエツ
チング装置その他に適用されるガス噴出式の高周
波電極に関する。
チング装置その他に適用されるガス噴出式の高周
波電極に関する。
（従来の技術）
従来、この種電極として、高周波電源に接続さ
れる電極本体の先端部の膨大する頭部内を、該本
体内を介してのびるガス通路に連なるガス室に形
成させると共に、その前面の開口にガス噴出プレ
ートを施す式のものが知られている。
れる電極本体の先端部の膨大する頭部内を、該本
体内を介してのびるガス通路に連なるガス室に形
成させると共に、その前面の開口にガス噴出プレ
ートを施す式のものが知られている。
（考案が解決しようとする問題点）
然し乍ら、この場合該プレートは、例えば第１
図示の通りであり、即ち板材ａに直径1.0〜0.7mm
程度の孔ｂの多数個をドリル加工により作る式を
一般としたもので、かかるものでは、該孔ｂの大
きさが不揃いとなり、大きな孔に放電が集中し勝
ちであり、かかる不都合を無くすべく、孔径を
0.3〜0.5mm程度とすることは考えられるが、これ
は手数を要して高価となるを免れず、更にかかる
形式のものではガス系に汚染が存する場合、孔の
パターンが基板側に投影され勝ちである等の不都
合を伴う。
図示の通りであり、即ち板材ａに直径1.0〜0.7mm
程度の孔ｂの多数個をドリル加工により作る式を
一般としたもので、かかるものでは、該孔ｂの大
きさが不揃いとなり、大きな孔に放電が集中し勝
ちであり、かかる不都合を無くすべく、孔径を
0.3〜0.5mm程度とすることは考えられるが、これ
は手数を要して高価となるを免れず、更にかかる
形式のものではガス系に汚染が存する場合、孔の
パターンが基板側に投影され勝ちである等の不都
合を伴う。
（問題点を解決するための手段）
本考案はかかる不都合のない電極を得ることを
その目的としたもので、高周波電源に接続される
電極本体の先端部の膨大する頭部内を、該本体内
を介してのびるガス通路に連なるガス室に形成さ
せると共に、その前面の開口にガス噴出プレート
を施すものにおいて、該プレートを、焼結金属板
や発泡金属板から成る多孔質金属板で構成したこ
とを特徴とする。
その目的としたもので、高周波電源に接続される
電極本体の先端部の膨大する頭部内を、該本体内
を介してのびるガス通路に連なるガス室に形成さ
せると共に、その前面の開口にガス噴出プレート
を施すものにおいて、該プレートを、焼結金属板
や発泡金属板から成る多孔質金属板で構成したこ
とを特徴とする。
（作用）
この場合、該プレートを構成する多孔質金属板
は、孔径が100Å〜100μ程度であるため、放電の
集中がないと共に多孔率が例えば94〜96％となつ
てコンダクタンスが大きく、これに生じ易い圧力
損失が小さく、更にその孔は該多孔質金属板の製
造時に発生する空孔の連続で構成され、孔の方向
がランダムであるので、ガス系の汚染によるも基
板上に孔のパターンの投影を生じない。
は、孔径が100Å〜100μ程度であるため、放電の
集中がないと共に多孔率が例えば94〜96％となつ
てコンダクタンスが大きく、これに生じ易い圧力
損失が小さく、更にその孔は該多孔質金属板の製
造時に発生する空孔の連続で構成され、孔の方向
がランダムであるので、ガス系の汚染によるも基
板上に孔のパターンの投影を生じない。
（実施例）
本考案実施の１例を別紙図面に付説明する。第
２図及び第３図はその１例を示すもので、１は筒
状の電極本体、２はこれに連なる外部の高周波電
源を示し、該本体１はその先端部に膨大する頭部
３を備えてその内部を該本体１内を介してのびる
中心のガス通路４に連なるガス室５に形成させる
と共にその全面の開口にはガス噴出プレート６が
施されるようにした。図面で７はその外周の接地
されるアースシールド、８は該ガス室５内を互い
に連通する前後の２室５ａ，５ｂに区画する中間
プレートを示す。かくて該ガス通路４にその外部
のガス源から供給される反応性ガスは、後方の室
５ａと、次いで該プレート８の孔を介して分散さ
れて前方の室５ｂとに導かれた後、該プレート６
を介してその前方に導かれるようにした。
２図及び第３図はその１例を示すもので、１は筒
状の電極本体、２はこれに連なる外部の高周波電
源を示し、該本体１はその先端部に膨大する頭部
３を備えてその内部を該本体１内を介してのびる
中心のガス通路４に連なるガス室５に形成させる
と共にその全面の開口にはガス噴出プレート６が
施されるようにした。図面で７はその外周の接地
されるアースシールド、８は該ガス室５内を互い
に連通する前後の２室５ａ，５ｂに区画する中間
プレートを示す。かくて該ガス通路４にその外部
のガス源から供給される反応性ガスは、後方の室
５ａと、次いで該プレート８の孔を介して分散さ
れて前方の室５ｂとに導かれた後、該プレート６
を介してその前方に導かれるようにした。
以上は従来のものと特に異ならないが、本考案
によれば、該プレート６を焼結金属板、或いは発
泡金属板（例えば住友電工のセルメツト）から成
る無数の細孔を有するNi，Cr，Al等の多孔質金
属板で構成されるもので、この場合、その孔径は
例えば100Å乃至100μ程度とし、更にその多孔率
は94〜96％程度とするが一般である。
によれば、該プレート６を焼結金属板、或いは発
泡金属板（例えば住友電工のセルメツト）から成
る無数の細孔を有するNi，Cr，Al等の多孔質金
属板で構成されるもので、この場合、その孔径は
例えば100Å乃至100μ程度とし、更にその多孔率
は94〜96％程度とするが一般である。
このような多孔質金属板でガス噴出プレート６
を構成すると、ガス通路４から導入される反応性
ガスは、多孔質金属板のランダムな方向に向けて
開口する細孔から基板へと噴出し、孔のパターン
が基板側に投影される不都合はなくなり、ドリル
加工のような大きな孔がないため、放電が集中す
ることもなく、比較的コンダクタンスも大きいの
で圧力損失が小さくなる。
を構成すると、ガス通路４から導入される反応性
ガスは、多孔質金属板のランダムな方向に向けて
開口する細孔から基板へと噴出し、孔のパターン
が基板側に投影される不都合はなくなり、ドリル
加工のような大きな孔がないため、放電が集中す
ることもなく、比較的コンダクタンスも大きいの
で圧力損失が小さくなる。
（考案の効果）
このように本考案によるときは、ガス室の全面
のガス噴出プレートを多孔質金属板で構成するも
ので、多孔質金属板のガス噴出プレートは従来の
ドリル加工により孔を形成した金属板よりも孔が
小さくしかも孔の方向がランダムであるため、放
電の集中がなく、圧力損失も小さくなり、ガスの
噴出方向がランダムになるので孔のパターンの投
影がなく、多孔質金属板を適当寸法に切断してガ
ス噴出プレートを作れるので加工が容易であり、
廉価に得られる等の効果がある。
のガス噴出プレートを多孔質金属板で構成するも
ので、多孔質金属板のガス噴出プレートは従来の
ドリル加工により孔を形成した金属板よりも孔が
小さくしかも孔の方向がランダムであるため、放
電の集中がなく、圧力損失も小さくなり、ガスの
噴出方向がランダムになるので孔のパターンの投
影がなく、多孔質金属板を適当寸法に切断してガ
ス噴出プレートを作れるので加工が容易であり、
廉価に得られる等の効果がある。
第１図は従来例のガス噴出プレート部分の正面
図、第２図は本案電極の１例の截断側面図、第３
図はその正面図である。 １…電極本体、２…高周波電源、３…膨大する
頭部、４…ガス通路、５…ガス室、６…ガス噴出
プレート。
図、第２図は本案電極の１例の截断側面図、第３
図はその正面図である。 １…電極本体、２…高周波電源、３…膨大する
頭部、４…ガス通路、５…ガス室、６…ガス噴出
プレート。
Claims (1)
- 高周波電源に接続される電極本体の先端部の膨
大する頭部内を、該本体内を介してのびるガス通
路に連なるガス室に形成させると共に、その前面
の開口にガス噴出プレートを施すものにおいて、
該プレートを、焼結金属板や発泡金属板から成る
多孔質金属板で構成したことを特徴とするガス噴
出式高周波電極。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986144149U JPH0336520Y2 (ja) | 1986-09-22 | 1986-09-22 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986144149U JPH0336520Y2 (ja) | 1986-09-22 | 1986-09-22 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6350878U JPS6350878U (ja) | 1988-04-06 |
| JPH0336520Y2 true JPH0336520Y2 (ja) | 1991-08-02 |
Family
ID=31054492
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986144149U Expired JPH0336520Y2 (ja) | 1986-09-22 | 1986-09-22 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0336520Y2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5741367A (en) * | 1980-08-25 | 1982-03-08 | Fujitsu Ltd | Chemical vapor deposition device |
| JPS58163432A (ja) * | 1982-03-24 | 1983-09-28 | Fujitsu Ltd | プラズマ化学気相成長装置 |
-
1986
- 1986-09-22 JP JP1986144149U patent/JPH0336520Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6350878U (ja) | 1988-04-06 |
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