JPH0337334Y2 - - Google Patents

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JPH0337334Y2
JPH0337334Y2 JP14469485U JP14469485U JPH0337334Y2 JP H0337334 Y2 JPH0337334 Y2 JP H0337334Y2 JP 14469485 U JP14469485 U JP 14469485U JP 14469485 U JP14469485 U JP 14469485U JP H0337334 Y2 JPH0337334 Y2 JP H0337334Y2
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JP
Japan
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free access
clean room
access panel
floor
processing liquid
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JP14469485U
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JPS6252633U (ja
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Landscapes

  • Floor Finish (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
  • Examining Or Testing Airtightness (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 本考案は高清浄度を要求される作業環境、例え
ばLSIや超LSIの半導体製造のために利用されて
いるダウンフロー式クリーンルームにおいてその
揚床を構成するフリーアクセスパネルの改良に関
する。
従来の技術 上記クリーンルームは天井にHEPAフイルタ
を設ける一方、床を揚床で、かつエヤー流を通過
するグレーテイング等で構成し、フアンでクリー
ンルームからクリーンルーム外の通路を通つて空
気を強制的に循環させることによりクリーンルー
ム内に垂直方向に層流状態のエヤー流を流す、い
わゆるダウンフロー構造にしてある。
前記床面は現在、縦横寸法が40〜60cm程度の格
子状をしたフリーアクセスパネルを多数個隙間な
く敷きつめることによつて構成されている。この
ように多数のフリーアクセスパネルを用いて床を
構成するのは、クリーンルーム内の半導体製造用
各設備のレイアウトの変更があつたとき、床面の
大きさ、形状等もレイアウトの変更に対応して速
やかに変更できるようにするためである。
考案が解決しようとする問題点 ところで、クリーンルーム内で製造する半導体
の集積度が高まるのに比例してクリーンルーム内
の空気の清浄化がより一層要求され、その一環と
して作業者の出入りによつて汚染物質が外部から
持込まれることのないよう、クリーンルーム内を
無人化することが行われつつある。然して、クリ
ーンルーム内を無人化した場合、次のような問題
がある。即ち、クリーンルーム内に配置される処
理装置によつて所定の処理(清浄、エツチング
等)を行つている場合に処理液が洩れることがあ
るが、クリーンルーム内にオペレータがいないと
処理液の洩れがわからず、そのため洩れた処理液
が蒸発したり床等の構成材料と反応してクリーン
ルーム内の雰囲気を悪化したり、床を腐蝕したり
するといつた問題がある。
問題点を解決するための手段 本考案は、クリーンルームの床面を構成するフ
リーアクセスパネルを改良することによつて、ク
リーンルーム内の無人化を図つた場合の処理液の
洩れを検出できるようにして、上記問題点の解決
を図ろうとするものである。
即ち、本考案のフリーアクセスパネルは洩れ検
知線を具備していることを特徴としている。
作 用 半導体製造のための各処理装置は、通常クリー
ンルームの床上に設置される。従つて処理装置か
ら洩れた処理液は必ずフリーアクセスパネル上に
落ちる。而して、該パネルには漏水検知線が設け
てあるので、処理液によつてクリーンルーム内の
雰囲気が悪化したり、床が腐蝕したりする前に処
理液の漏れを検出でき、速やかな対応が可能とな
る。
実施例 第2図に本考案のフリーアクセスパネルが適用
されるクリーンルームの全体図を示す。クリーン
ルームの天井にはHEPA(High Efficiency
Particurate Airの略)フイルタ1が設けられ、
床2は揚床でエヤー流を通すように構成さてい
る。この床2の下方空間とHEPAフイルタ1の
上方空間とはフアン3,3を有する通路4によつ
て連通されていて、フアン3,3によつて空気が
クリーンルーム内をと通路4とを循環するように
してある。クリーンルーム内はHEPAフイルタ
1によつて清浄度の高い空気が矢印で示すように
垂直下方に層流状態で流れる。図中、5はクリー
ンルーム内に設置された処理装置である。
前記床2は第3図に示すように多数のフリーア
クセスパネル21…を隙間なく敷きつめることに
よつて構成されている。各フリーアクセスパネル
は梁22…の上にセツトすることにより揚床構造
とされている。
フリーアクセスパネル21には縦横40〜60cm程
度の方形状をし、上下方向にエヤーを流通できる
よう多数の孔があいたパンチングメタル又はグレ
ーテイングで構成されている。そして、本考案に
あつてはこのパンチングメタル又はグレーテイン
グの裏面に第1図に示すように漏水検知線23,
24を蛇行状態で配線している。漏水検知線2
3,24としては抵抗線を用い、それを2本近接
して設けている。フリーアクセスパネル21の対
抗する2辺の略々中央には接続端子25…が下方
に向けて設けてあり、その接続端子25…に漏水
検知線23,24の両端が接続されている。従つ
て、フリーアクセスパネル21…を敷きつめて床
2を構成する際に、隣合うフリーアクセスパネル
21…の接続端子25同士を第4図に示すように
わたり線26によつて接続すれば、各フリーアク
セスパネルの漏水検知線23,24を夫々直列に
接続することができる。
このように各パネルの漏水検知線23…,24
…を夫々直列に接続すれば、漏水検知線23,2
4の一端から両検知線23と24の間の抵抗値を
監視することにより、処理液の洩れの発生と処理
液に浸されているフリーアクセスパネルの特定と
を行うことができる。即ち、処理液の洩れが生じ
ると、2本の検知線23,24の間が狭いために
両検知線が処理液によつてシヨートするので、2
本の検知線23,24の間の抵抗値が有限の値に
転じ、処理液の洩れの発生を知ることができる
し、各フリーアクセスパネルの漏水検知線の抵抗
値が既知であるので、処理液の洩れが起こつたと
きの2本の検知線23,24の間の抵抗値の大き
さから測定点から処理液の洩れが生じている点ま
でのフリーアクセスパネルの数が算出でき、これ
によつて処理液の洩れが生じているフリーアクセ
スパネルを特定することができる。尚、フリーア
クセスパネルの漏水検知線を直列に接続するのは
本考案の使用例の一つであり、各フリーアクセス
パネルの洩れ検知線を並列に接続しても処理液の
洩れの発生を知ることができる。また、検知線2
3,24は抵抗線でなくても単なる導線でもかま
わない。
考案の効果 本考案に係るフリーアクセスパネルは以上の如
く構成したので、無人化されたクリーンルーム内
での処理液の洩れを速やかに発見でき、早急にそ
の対策を講じることができ、従つて、処理液の洩
れに起因したクリーンルーム内の雰囲気の悪化や
パネルの腐蝕といつた弊害を効果的に防止するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例を示すフリーアクセ
スパネルの斜視図、第2図はダウンフロー式クリ
ーンルームを示す図、第3図はクリーンルームの
床面を示す斜視図、第4図は各フリーアクセスパ
ネルの漏水検知線の接続状態を示す図である。 21…フリーアクセスパネル、23,24…漏
水検知線。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 漏水検知線を具備していることを特徴とするフ
    リーアクセスパネル。
JP14469485U 1985-09-21 1985-09-21 Expired JPH0337334Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14469485U JPH0337334Y2 (ja) 1985-09-21 1985-09-21

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14469485U JPH0337334Y2 (ja) 1985-09-21 1985-09-21

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6252633U JPS6252633U (ja) 1987-04-01
JPH0337334Y2 true JPH0337334Y2 (ja) 1991-08-07

Family

ID=31055535

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JP14469485U Expired JPH0337334Y2 (ja) 1985-09-21 1985-09-21

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JPS6252633U (ja) 1987-04-01

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