JPH0337532B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ナフタセンキノン誘導体の製造法、
更に詳しくは式 で表わされるナフタセンキノン誘導体の製造法に
関する。

上記式(1)で表わされる化合物は、後記に示す通
り抗癌剤として有用な式（15）で表わされる４−
デメトキシダウノマイシンを合成するための中間
体として有用な化合物である。

従来式(1)で表わされるナフタセンキノン誘導体
の製造法としては例えばグプタ等の方法〔D.N.
Gupta and N.Khan，J.Chem.Soc.Perkin I.689
（1981）参照〕が知られている。しかしながらこ
の方法は反応行程が長くまた操作が煩雑であり、
該方法に代わる新らしい式(1)で表わされるナフタ
センキノン誘導体の製造法の開発が望まれてい
る。

本発明者らは斯かる現状に鑑み、上記欠点を有
さない式(1)で表わされるナフタセンキノン誘導体
の新規製造法を開発すべく鋭意研究を重ねてき
た。そしてその研究過程において、新規化合物で
ある下記一般式(2)で表わされるナフタセンキノン
誘導体を合成した。この化合物については既に特
許出願済みである。本発明者らに更に上記目的の
下に研究を続けたところ、一般式(2)の化合物をア
シルオキシ化した場合には一般式(2)の化合物の11
位にのみ選択的にアシルオキシ基が導入され、次
いで得られる化合物を酸の存在下に加水分解する
と、目的とする一般式(1)の化合物が高収率、高純
度で得られることを見い出した。本発明は斯かる
知見に基づき完成されたものである。

即ち本発明は、一般式 〔式中R¹及びR²は、一方が水素原子を示し、
他の一方が低級アルキレンジオキシ基を示す。〕 で表わされるナフタセンキノン誘導体をアシルオ
キシ化し、次いで得られる一般式 〔式中R³は低級アルカノイル基を示す。R¹及
びR²は前記に同じ。〕 で表わされるナフタセンキノン誘導体を酸の存在
下に加水分解して式 で表わされるナフタセンキノン誘導体を得ること
を特徴とするナフタセンキノン誘導体の製造法に
係る。

本発明の方法によれば、簡便な操作で高収率、
高純度にて式(1)の化合物を製造し得る。

本明細書において、低級アルキレンジオキシ基
としては例えばメチレンジオキシ、エチレンジオ
キシ、トリメチレンジオキシ基を挙げることがで
き、また低級アルカノイル基としては例えばアセ
チル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、
ペンタノイル、tert−ブチルカルボニル、ヘキサ
ノイル基等を挙げることができる。

一般式(2)の化合物のアシルオキシ化は、例えば
適当な溶媒中アシルオキシ化剤の存在下に行なう
ことができる。ここで使用されるアシルオキシ化
剤としては例えばPb（OCOCH₃）₄、Tl
（OCOCH₃）₃、Hg（OCOCH₃）₂等を挙げることが
できる。アシルオキシ化剤の使用量としては特に
限定されず広い範囲内から適宜選択することがで
きるが、通常一般式(2)の化合物に対して少なくと
も等モル量程度、好ましくは等モル〜３倍モル量
用いるのがよい。また溶媒としては例えばベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、
ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホル
ム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエ
チルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン
等のエーテル類、酢酸等やこれらの混合溶媒を挙
げることができる。該反応は通常室温〜100℃程
度、好ましくは室温付近にて行なわれ、一般に１
〜30時間程度で反応は終了する。

一般式(3)の化合物の加水分解は、例えば適当な
溶媒中酸の存在下に行なわれる。用いられる溶媒
としては例えば水、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール等のアルコール類、ジオキサン、
テトラヒドロフラン等のエーテル類、これらの混
合溶媒等を挙げることができる。また酸としては
例えば塩酸、硫酸、臭化水素酸等の鉱酸、トリフ
ルオロ酢酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸
等を挙げることができる。斯かる酸の使用量とし
ては一般式(3)の化合物に対して通常大過剰量とす
るのがよい。該反応は通常室温〜100℃程度、好
ましくは室温〜80℃にて行なわれ、一般に１〜10
時間程度で反応は完結する。斯くして目的とする
式(1)の化合物を製造し得る。

本発明において出発原料として用いられる一般
式(2)の化合物は新規化合物であり、例えば下記反
応行程式−１〜３に示す方法により製造される。

〔式中Ｘ及びX¹はハロゲン原子、R⁴は低級ア
ルキル基、R¹′は低級アルキレンジオキシ基を示
す。〕 一般式(4)の化合物と一般式(5)の化合物との反応
は、一般にデイールス−アルダー反応と呼ばれる
ものである。この反応には通常のデイールス−ア
ルダー反応の反応条件を広く適用でき、例えば適
当な溶媒中にて両者を反応させればよい。ここで
使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさ
ないものを広く使用でき、具体的にはベンゼン、
トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジクロル
ベンゼン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキ
サン等の飽和炭化水素類、ジクロロメタン、ジク
ロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等の脂肪
族ハロゲン化炭化水素類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸
トリアミド等の極性非プロトン溶媒類、酢酸エチ
ル等を例示できる。一般式(4)の化合物と一般式(5)
の化合物との使用割合としては特に限定されず広
い範囲内から適宜選択することができるが、通常
前者に対して後者を少なくとも等モル程度、好ま
しくは等モル〜1.5倍モル量使用するのがよい。
該反応は通常室温〜150℃程度、好ましくは40〜
100℃にて行なわれ、一般に１〜48時間程度で反
応は終了する。

一般式(6)の化合物のケタール化反応は、例えば
適当な溶媒中触媒の存在下に一般式(6)の化合物に
ケタール化剤を反応させることにより行なわれ
る。溶媒としては反応に悪影響を及ぼさない限り
公知のものを広く使用でき、例えば前記芳香族炭
化水素類、前記エーテル類、前記飽和炭化水素
類、前記極性非プロトン溶媒類等をいずれも使用
できる。触媒としては例えば塩酸、硫酸等の鉱
酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸等、好ま
しくは塩酸を挙げることができる。斯かる触媒の
使用量としては特に限定されないが、通常一般式
(6)の化合物に対して1/100〜1/3倍モル量、好まし
くは1/20〜1/5倍モル量用いるのがよい。またケ
タール化剤としては例えばエチレングリコール、
メチレングリコール、トリメチレングリコール、
メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ
−ブタノール等のアルコール類等を挙げることが
できる。斯かるケタール化剤の使用量としては特
に限定されないが、通常一般式(6)の化合物に対し
て少なくとも等モル量程度、好ましくは等モル〜
２倍モル量用いるのがよい。該反応は通常室温〜
100℃程度、好ましくは室温付近にて行なわれ、
該反応は一般に１〜20時間程度で終了する。

一般式(7)の化合物の脱ハロゲン化水素反応は、
塩基性化合物の存在下適当な溶媒中にて行なわれ
る。塩基性化合物としては従来公知のものを広く
使用でき、具体的には炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等の金属水酸化物、ナ
トリウムメチラート、ナトリウムエチラート等の
金属アルコラート、ピリジン、トリエチルアミ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等の有機塩基性化
合物等を例示できる。斯かる塩基性化合物の使用
量としては特に限定されず広い範囲内から適宜選
択できるが、通常一般式(7)の化合物に対して少な
くとも0.1〜1.5倍モル量、好ましくは0.3〜0.7倍
モル量使用するのがよい。また溶媒としては反応
に悪影響を与えないもの、例えば前記一般式(4)の
化合物と一般式(5)の化合物との反応に使用される
溶媒をいずれも用いることができる。該反応は通
常０〜50℃程度、好ましくは室温付近にて好適に
進行し、一般に１分〜５時間程度で反応は終了す
る。斯くして一般式（8a）の化合物が製造され
る。

〔式中R²′は低級アルキレンジオキシ基を示す。
Ｘ，X¹及びR⁴は前記に同じ。〕 一般式(9)の化合物と一般式(5)の化合物との反
応、一般式(10)の化合物のケタール化及び一般式
（11）の化合物の脱ハロゲン化水素は、それぞれ
前記一般式(4)の化合物と一般式(5)の化合物との反
応、一般式(6)の化合物のケタール化、一般式(7)の
化合物の脱ハロゲン化水素と同様の反応条件下に
行なうことができる。斯くして一般式（8b）の
化合物が製造される。

〔式中R¹、R²及びＸは前記に同じ。〕 一般式(8)の化合物と一般式（12）の化合物との
反応は、一般にデイールス−アルダー反応と呼ば
れるものである。この反応には通常のデイールス
−アルダー反応の反応条件を広く適用でき、例え
ば塩基性化合物の存在下又は非存在下適当な溶媒
中にて両者を反応させればよい。一般式(8)の化合
物と一般式（12）の化合物との使用割合としては
特に限定されず広い範囲内から適宜選択できる
が、通常前者に対して後者を少なくとも等モル量
程度、好ましくは等モル〜1.5倍モル量用いるの
がよい。塩基性化合物としては、前記一般式(7)の
化合物の脱ハロゲン化水素反応に使用されるもの
をいずれも使用できる。塩基性化合物の使用量と
しては特に限定されないが、通常一般式(1)の化合
物に対して1/100〜等モル量、好ましくは1/20〜
１／２倍モル量用いるのがよい。また溶媒としては、
前記一般式(4)の化合物と一般式(5)の化合物との反
応に使用される溶媒をいずれも使用できる。該反
応は通常70〜250℃程度、好ましくは100〜200℃
にて好適に進行し、一般に１〜10時間程度で反応
は終了する。

上記一般式(1)で表わされるナフタセンキノン誘
導体は下記反応行程式−４に示す方法に従い抗癌
剤として有用な式（15）で表わされる４−デメト
キシダウノマイシンに誘導される。

式(1)の化合物から式（13）の化合物及び式（14）
の化合物を経て式（15）で表わされる４−デメト
キシダウノマイシンに誘導する反応は公知であ
り、例えばテトラヘドロンレター〔F.Farina
and P.Prados，Tetrahedron Letters，477
（1979）〕、ジヤーナル オブ ケミカル ソサイ
アテイー（D.N.Gupta and N.Khan，J.Chem.
Soc.Perkin I.689（1981）〕、ジヤーナル オブ
オーガニツクケミストリー〔W.W.Lee，A.P.
Martizez，J.H.Smith and D.W.Henry，J.Org.
Chem.41，2296（1976）〕、テトラヘドロンレター
〔J.Alexander and L.A.Mitsher，Tetrahedron
Letters，3403（1978）〕、ジヤーナル オブ アメ
リカン ケミカル ソサイアテイー〔F.A.J.
Kerdesky and M.P.Cava，J.Am.Chem.Soe.，
100，3635（1978）〕及びテトラヘドロンレター
〔A.S.Kende，D.P.Curran，Y.Tsay and J.E.
Mills，Tetrahedron Letters，3537（1977）〕、米
国特許第4046878号明細書等に記載されている方
法に従えばよい。

上記各々の工程で得られる目的化合物は通常の
分離手段により反応混合物から容易に単離精製さ
れる。斯かる分離手段としては、例えば溶媒抽出
法、溶媒希釈法、再結晶法、カラムクロマトグラ
フイー、プレパラテイブ薄層クロマトグラフイー
等を挙げることができる。

以下に参考例及び実施例を挙げる。

参考例 １ 窒素気流下２，６−ジクロロベンゾキノン990
mg及び２−トリメチルシリルオキシブタジエン
800mgのベンゼン10ml溶液を50〜60℃にて４時間
加温する。溶媒を減圧留去し、シロツプ状の２，
8aβ−ジクロロ−６−トリメチルシリルオキシ−
4a，５，８，8a−テトラヒドロ−１，４−ナフ
トキノン1.63ｇを得る。IRスペクトル及びNMR
スペクトルより同定する。

IR ν^CHCl3 _nax（cm^-1）；1585，1670，1690，1720 NMRδ（CDCl₃）；0.17（9H，ｓ）、2.2〜3.8（5H，
ｍ）、4.65〜4.8（1H，ｍ）、6.89（1H，ｓ） 参考例 ２ 窒素気流下２，５−ジクロロベンゾキノン300
mg及び２−トリメチルシリルオキシブタジエン
300mgのベンゼン３ml溶液を80〜90℃にて３時間
加温する。溶媒を減圧留去し、２，4aβ−ジクロ
ロ−７−トリメチルシリルオキシ−4a，５，８，
8a−テトラヒドロ−１，４−ナフトキノン540mg
を得る。IRスペクトル及びNMRスペクトルより
同定する。

IR ν^CHCl3 _nax（cm^-1）；1585，1665，1690 NMR δ（CDCl₃）；0.21（9H，ｓ）、2.41〜3.27
（4H，ｍ）、3.67（1H，ｔ，Ｊ＝８Hz）、4.72
〜4.87（1H，ｍ）7.01（1H，ｓ） 参考例 ３ 上記参考例１で得られる２，8aβ−ジクロロ−
６−トリメチルシリルオキシ−4a，５，８，8a
−テトラヒドロ−１，４−ナフトキノン1.63ｇ及
びエチレングリコール1.05ｇのエーテル10ml溶液
に濃塩酸２〜３滴を加え、室温にて16時間撹拌す
る。硫酸ナトリウムを用いて乾燥後溶媒を留去し
て２，8aβ−ジクロロ−６，６−エチレンジオキ
シ−4a，５，８，8a−テトラヒドロ−１，４−
ナフトキノン1.4ｇを得る。IRスペクトル及び
NMRスペクトルにより同定する。

IR ν^CHCl3 _nax（cm^-1）；1590，1655，1670 NMR δ（CDCl₃）；1.84（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz）
2.55〜3.0（4H，ｍ）、3.99（4H，ｓ）、3.85〜
4.2（1H，ｍ）、6.88（1H，ｓ） 参考例 ４ 上記参考例２で得られる２，4aβ−ジクロロ−７
−トリメチルシリルオキシ−4a，５，８，8a−
テトラヒドロ−１，４−ナフトキノン540mg及び
エチレングリコール137mgのエーテル５ml溶液に
濃塩酸２滴を加え、室温にて16時間撹拌する。硫
酸ナトリウムを用いて乾燥後溶媒を留去して２，
4aβ−ジクロロ−７，７−エチレンジオキシ−
4a，５，８，8a−テトラヒドロ−１，４−ナフ
トキノン490mgを得る。IRスペクトル及びNMR
スペクトルにより同定する。

IR ν^CHCl3 _nax（cm^-1）；1590，1650，1690 NMR δ（CDCl₃）；2.44〜4.20（11H，ｍ）、
6.93（1H，ｓ） 参考例 ５ ホモフタル酸無水物41mg、２−クロロ−６，６
−エチレンジオキシ−５，６，７，８−テトラヒ
ドロ−１，４−ナフトキノン65mg及びトリエチル
アミン13mgのトルエン２ml溶液を封管中140〜150
℃にて１時間加熱する。冷後溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフイー（溶出液
エーテル：ベンゼン＝１：４）で精製する。クロ
ロホルムより再結晶して28mgの２，２−エチレン
ジオキシ−６−ヒドロキシ−１，２，３，４−テ
トラヒドロ−５，12−ナフタセンキノンを得る。

mp 229〜230.5℃ IR ν^CHCl3 _nax（cm^-1）；1605，1630，1655 NMR δ（CDCl₃）；1.92（2H，ｔ，Ｊ＝6.5Hz）、
2.80〜3.05（4H，ｍ）、4.02（4H，ｓ）、7.50〜
7.95（3H，ｍ）、8.01（1H，ｓ）、8.35〜8.55
（1H，ｍ）、14.06（1H，ｓ） 参考例 ６ ホモフタル酸無水物50mg、２−クロロ−７，７
−エチレンジオキシ−５，６，７，８−テトラヒ
ドロ−１，４−ナフトキノン70mg及びトリエチル
アミン13mgのトルエン２ml溶液を封管中140〜150
℃にて１時間加熱する。冷後溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフイー（溶出液
エーテル：ベンゼン＝１：４）で精製する。クロ
ロホルムより再結晶して18mgの３，３−エチレン
ジオキシ−６−ヒドロキシ−１，２，３，４−テ
トラヒドロ−５，12−ナフタセンキノンを得る。

mp 214〜216℃ IR ν^CHCl3 _nax（cm^-1）；1605，1630，1655 NMR δ（CDCl₃）；1.92（2H，ｔ，Ｊ＝6.5Hz）、
2.80〜3.05（4H，ｍ）、4.02（4H，ｓ）、7.50〜
7.95（3H，ｍ）、8.01（1H，ｓ）、8.35〜8.55
（1H，ｍ）、13.97（1H，ｓ） 参考例 ７ ２，8aβ−ジクロロ−６，６−エチレンジオキ
シ−4a，５，８，8a−テトラヒドロ−１，４−
ナフトキノン1.63ｇのエーテル50ml溶液にトリエ
チルアミン565mgを徐々に滴下する。滴下後３時
間撹拌し、水を加えて有機層を分離する。さらに
水層をベンゼン50mlで２回抽出し、先の有機層と
併せて、水洗する。硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒
を留去し、次いで残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイー（溶出液：クロロホルム）で精製す
る。ベンゼンから再結晶して２−クロロ−６，６
−エチレンジオキシ−５，６，７，８−テトラヒ
ドロ−１，４−ナフトキノン918mgを得る。

mp 139.5〜140℃ IR ν^CHCl3 _nax（cm^-1）；1590，1655，1670 NMRδ（CDCl₃）；1.86（2H，ｔ，Ｊ＝７Hz）、
2.5〜2.9（4H，ｍ）、4.00（4H，ｓ）、6.82
（1H，ｓ） 元素分析値（C₁₂H₁₁O₄Clとして） Ｃ Ｈ Cl 計算値(%) 56.60 4.35 13.92 実測値(%) 56.60 4.27 14.08 参考例 ８ ２，4aβ−ジクロロ−７，７−エチレンジオキ
シ−4a，５，８，8a−テトラヒドロ−１，４−
ナフトキノン490mgのエーテル15ml溶液にトリエ
チルアミン172mgを滴下する。滴下後３時間撹拌
し、水を加えて有機層を分離する。さらに水層を
ベンゼン15mlで２回抽出し、先の有機層と併せ
て、水洗、飽和食塩水洗浄する。硫酸マグネシウ
ムで乾燥後溶媒を留去し、次いで残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイー（溶出液：クロロホ
ルム）で精製する。ベンゼン−ｎ−ヘキサンから
再結晶して２−クロロ−７，７−チレンジオキシ
−５，６，７，８−テトラヒドロ−１，４−ナフ
トキノン241mgを得る。

mp 98〜98.5℃ IR ν^CHCl3 _nax（cm^-1）；1600，1650 NMR δ（CDCl₃）；1.82（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz）、
2.58〜2.80（4H，ｍ）、4.00（4H，ｓ）、6.89
（1H，ｓ） 元素分析値（C₁₂H₁₁O₄Clとして） Ｃ Ｈ Cl 計算値（％） 56.60 4.35 13.92 実測値（％） 56.61 4.27 14.05 実施例 １ ２，２−エチレンジオキシ−６−ヒドロキシ−
１，２，３，４−テトラヒドロ−５，12−ナフタ
センキノン22mgと四酢酸鉛60mgを酢酸：ジクロロ
メタン＝２：１の混合溶媒4.5mlに溶解し、室温
で16時間撹拌する。反応後溶媒を減圧留去し、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー（溶出
液クロロホルム：酢酸エチル＝30：１）で精製す
る。11mgの出発原料である２，２−エチレンジオ
キシ−６−ヒドロキシ−１，２，３，４−テトラ
ヒドロ−５，12−ナフタセンキノンと８mgの２，
２−エチレンジオキシ−６−ヒドロキシ−11−ア
セチルオキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−
５，12−ナフタセンキノンを得る。

mp 215〜217℃（メタノール） IR ν^CHCl3 _nax（cm^-1）：1760，1665，1630 NMR δ（CDCl₃）：13.49（1H，ｓ）、7.90〜
8.20（2H，ｍ）、7.40〜7.70（2H，ｍ）、3.98
（4H，ｓ）、3.02（2H，ｔ，Ｊ＝７Hz）、2.82
（2H，ｓ）、2.47（3H，ｓ）、1.95（2H，ｔ，
Ｊ＝７Hz） 実施例 ２ ３，３−エチレンジオキシ−６−ヒドロキシ−
１，２，３，４−テトラヒドロ−５，12−ナフタ
センキノン42mgと四酢酸鉛110mgを酢酸：ジクロ
ロメタン＝２：１の混合溶媒4.5mlに溶解し、室
温で16時間撹拌する。反応後溶媒を減圧留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー（溶
出液クロロホルム：酢酸エチル＝30：１）で精製
する。8.5mgの出発原料である３，３−エチレン
ジオキシ−６−ヒドロキシ−１，２，３，４−テ
トラヒドロ−５，12−ナフタヒンキノンと35mgの
３，３−エチレンジオキシ−６−ヒドロキシ−11
−アセチルオキシ−１，２，３，４−テトラヒド
ロ−５，12−ナフタヒンキノンを得る。

mp 226〜228℃（メタノール） IR ν^CHCl3 _nax（cm^-1）；1760，1665，1630 NMR δ（CDCl₃）：13.57（1H，ｓ）、8.05〜
8.35（2H，ｍ）、7.55〜7.80（2H，ｍ）、4.02
（4H，bs）、3.00（2H、ｓ）、2.81（2H、ｔ，
Ｊ＝7.5Hz）、2.48（3H，ｓ）、1.93（2H，ｔ，
Ｊ＝7.5Hz） 実施例 ３ ２，２−エチレンジオキシ−６−ヒドロキシ−
11−アセチルオキシ−１，２，３，４−テトラヒ
ドロ−５，12−ナフタセンキノン10mgのトリフル
オロ酢酸１ml溶液に水0.5mlを滴下し、50℃で３
時間加熱する。冷後、溶媒を減圧留去し、得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
（溶出液クロロホルム：酢酸エチル＝９：１）で
精製する。メタノールで再結晶して6.5mgの２−
オキソ−５，12−ジヒドロキシ−１，２，３，４
−テトラヒドロ−６，11−ナフタセンキノンを得
る。

mp 269〜298℃ IR ν^CHCl3 _nax（cm^-1）；1710，1610，1580 NMR δ（CDCl₃）；13.48（1H，ｓ）、13.37
（1H，ｓ）、8.2〜8.4（2H，ｍ）7.65〜7.85（2H，
ｍ）、3.76（2H，ｓ）、3.40（2H、ｔ、Ｊ＝7.5Hz）、
2.64（2H、ｔ、Ｊ＝7.5Hz） 実施例 ４ ３，３−エチレンジオキシ−６−ヒドロキシ−
11−アセチルオキシ−１，２，３，４−テトラヒ
ドロ−５，12−ナフタセンキノン10mgのトリフル
オロ酢酸１ml溶液に水0.5mlを滴下し、50℃にて
３時間加熱する。冷後溶媒を減圧留去し、残渣に
水を加えて、クロロホルムで抽出（10ml×３）
し、抽出液を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥す
る。シリカゲルカラムクロマトグラフイー（溶出
液クロロホルム：酢酸エチル＝９：１）で精製す
る。メタノールより再結晶して5.5mgの２−オキ
ソ−５，12−ジヒドロキシ−１，２，３，４−テ
トラヒドロ−６，11−ナフタセンキノンを得る。

mp 296〜298℃

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中R¹及びR²は、一方が水素原子を示し、
   他の一方が低級アルキレンジオキシ基を示す。〕 で表わされるナフタセンキノン誘導体をアシルオ
   キシ化し、次いで得られる一般式 〔式中R³は低級アルカノイル基を示す。R¹及
   びR²は前記に同じ。〕 で表わされるナフタセンキノン誘導体を酸の存在
   下に加水分解して式 で表わされるナフタセンキノン誘導体を得ること
   を特徴とするナフタセンキノン誘導体の製造法。