JPH0338026A - 放射光露光装置 - Google Patents
放射光露光装置Info
- Publication number
- JPH0338026A JPH0338026A JP1172778A JP17277889A JPH0338026A JP H0338026 A JPH0338026 A JP H0338026A JP 1172778 A JP1172778 A JP 1172778A JP 17277889 A JP17277889 A JP 17277889A JP H0338026 A JPH0338026 A JP H0338026A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- mirror
- synchrotron radiation
- aligner
- extraction window
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、高密度集積回路の製造、材料等の分析にシン
クロトロン放射光（以下放射光と呼ぶ）を利用する際に
、Ｘ線を取り出すビームラインに揺動可能なＸＢ反射ミ
ラーとＸ線取り出し窓を有する放射光露光装置に関する
ものである。
クロトロン放射光（以下放射光と呼ぶ）を利用する際に
、Ｘ線を取り出すビームラインに揺動可能なＸＢ反射ミ
ラーとＸ線取り出し窓を有する放射光露光装置に関する
ものである。
（従来の技術）
最近、高出力のＸ線が得られるＸ線発生装置として、放
射光が注目され、大気中で集積回路の微細パターン露光
に利用されようとしている。
射光が注目され、大気中で集積回路の微細パターン露光
に利用されようとしている。
しかし、放射光は第２図に示すようにＸ線の縦方向の広
がりが１ｍｒａｄであり、たとえば、１０ｍのビームラ
インではマスク面上の露光エリアは１ｃｍ幅となるのみ
である。垂直方向にＸ線を広げて露光エリアを大きくす
るためには、■ξミラー動によるエリアの拡大、■アラ
イナ上のマスクとウェハを一定の速度で揺動する方法、
■蓄積リング内でビームを揺動する方法等が考えられて
いる。このような３つの方法のうちで現在は、露光エリ
アの拡大にはミラー揺動による方法が一般的に良く使用
されている。しかし、ミラーにより露光エリアを拡大し
てもＸ線取り出し窓がアライナのマスク近傍に位置して
いるため、Ｘ線取り出し窓を薄くすることができず、Ｘ
線の取り出し効率が悪いのが現状である。
がりが１ｍｒａｄであり、たとえば、１０ｍのビームラ
インではマスク面上の露光エリアは１ｃｍ幅となるのみ
である。垂直方向にＸ線を広げて露光エリアを大きくす
るためには、■ξミラー動によるエリアの拡大、■アラ
イナ上のマスクとウェハを一定の速度で揺動する方法、
■蓄積リング内でビームを揺動する方法等が考えられて
いる。このような３つの方法のうちで現在は、露光エリ
アの拡大にはミラー揺動による方法が一般的に良く使用
されている。しかし、ミラーにより露光エリアを拡大し
てもＸ線取り出し窓がアライナのマスク近傍に位置して
いるため、Ｘ線取り出し窓を薄くすることができず、Ｘ
線の取り出し効率が悪いのが現状である。
第３図はＸ線露光に使用されるビームラインの構成の一
例である。ｌは蓄積リング、２は放射光、３はＸ線反射
ミラー、４はミラーの位置決めと１１動するくラー駆動
機構、５はＸ線取り出し窓、６は露光用アライナ、７は
マスク、８はミラーチャンバ、９はビームライン、ｌＯ
は真空へローズ、１１はミラー駆動機構４とごラーを連
結する連結棒、１２はミラーは動するためのミラー揺動
棒である。放射光露光装置は、蓄積リング１ ％ ｌジ
−チャンバ８、Ｘ線取り出し窓５、等から成るビームラ
イン９、そして、マスク７をアライメントする露光用ア
ライナ６から構成されている。
例である。ｌは蓄積リング、２は放射光、３はＸ線反射
ミラー、４はミラーの位置決めと１１動するくラー駆動
機構、５はＸ線取り出し窓、６は露光用アライナ、７は
マスク、８はミラーチャンバ、９はビームライン、ｌＯ
は真空へローズ、１１はミラー駆動機構４とごラーを連
結する連結棒、１２はミラーは動するためのミラー揺動
棒である。放射光露光装置は、蓄積リング１ ％ ｌジ
−チャンバ８、Ｘ線取り出し窓５、等から成るビームラ
イン９、そして、マスク７をアライメントする露光用ア
ライナ６から構成されている。
蓄積リング１から出た放射光２はＸ線反射ミラー３で反
射され、Ｘ線反射ミラー３の揺動によって一定の幅で揺
動される。くラーは一般に３軸あるいは６軸駆動ができ
るようになっており、そのうちの１軸が揺動軸となって
いる。いま、６軸駆動の場合、ビームの進行方向成分を
Ｘ、その水平方向直角成分をＹ、上下方向成分をＺ１１
成分の回転をそれぞれα、β、Ｔとすると、α軸がビー
ムの揺動軸となる。一方、蓄積リング１、ミラーチャン
バ８、ビームライン９は１０−’ Ｔｏｒｒの超高真空
となっており、超高真空と大気とを隔てるＸ線取り出し
窓５が必要である。Ｘ線取り出し窓５にはＸ線透過率の
高いベリリウムが一般に用いられている。Ｘ線取り出し
窓５のベリリウムは大気でのＸ線の減衰を少なくするた
め、マスク７の近傍にあり、露光エリアの拡大からその
面積は３０ｍｍ角が要求されている。また、３０４ｓ角
の大きさで１気圧の強度を持たせるためには、１１００
ｕ以上の膜厚が必要である。しかし、膜厚１１００ｕで
は、波長８入でＸ線透過率が５％であり、ベリリウム膜
だけでＸ線強度が１／２０に減衰してしまう（ベリリウ
ム膜以外ではもっと減衰してしまう）。このように、従
来は露光エリア確保の為、大きなベリリウム膜が必要で
あり、上述のような大きなベリリウム膜に超高真空と大
気とを隔てるだけの強度をもたせようとすると膜厚が厚
くなり、Ｘ線透過率が悪くなるため、ある一定以上の露
光エリアをもち十分なＸ線強度をもつ放射光露光装置は
従来なかった。
射され、Ｘ線反射ミラー３の揺動によって一定の幅で揺
動される。くラーは一般に３軸あるいは６軸駆動ができ
るようになっており、そのうちの１軸が揺動軸となって
いる。いま、６軸駆動の場合、ビームの進行方向成分を
Ｘ、その水平方向直角成分をＹ、上下方向成分をＺ１１
成分の回転をそれぞれα、β、Ｔとすると、α軸がビー
ムの揺動軸となる。一方、蓄積リング１、ミラーチャン
バ８、ビームライン９は１０−’ Ｔｏｒｒの超高真空
となっており、超高真空と大気とを隔てるＸ線取り出し
窓５が必要である。Ｘ線取り出し窓５にはＸ線透過率の
高いベリリウムが一般に用いられている。Ｘ線取り出し
窓５のベリリウムは大気でのＸ線の減衰を少なくするた
め、マスク７の近傍にあり、露光エリアの拡大からその
面積は３０ｍｍ角が要求されている。また、３０４ｓ角
の大きさで１気圧の強度を持たせるためには、１１００
ｕ以上の膜厚が必要である。しかし、膜厚１１００ｕで
は、波長８入でＸ線透過率が５％であり、ベリリウム膜
だけでＸ線強度が１／２０に減衰してしまう（ベリリウ
ム膜以外ではもっと減衰してしまう）。このように、従
来は露光エリア確保の為、大きなベリリウム膜が必要で
あり、上述のような大きなベリリウム膜に超高真空と大
気とを隔てるだけの強度をもたせようとすると膜厚が厚
くなり、Ｘ線透過率が悪くなるため、ある一定以上の露
光エリアをもち十分なＸ線強度をもつ放射光露光装置は
従来なかった。
（発明が解決しようとする課題）
本発明は、一定以上の露光エリアをもち、ビームライン
でのＸ線の減衰の小さい放射光露光装置を実現しようと
するものである。
でのＸ線の減衰の小さい放射光露光装置を実現しようと
するものである。
（課題そ解決しようとする手段）
本発明は、Ｘ線を取り出すためのＸ線取り出し窓を帰動
可能なＸ線反射ミラーの直後に設置してＸＭ取り出し窓
の大きさを小さくすることを特徴とする。
可能なＸ線反射ミラーの直後に設置してＸＭ取り出し窓
の大きさを小さくすることを特徴とする。
（作用）
Ｘ線反射ミラーの直後にＸ線取り出し窓をもってきたた
め窓を小さくしても十分な露光エリアがとれる。また、
窓が小さいので窓の膜厚を従来より薄くしてＸ線透過率
を向上させても、ミラーチャンバとマスクを圧力的に隔
てるのに十分な膜の強度を得られる。
め窓を小さくしても十分な露光エリアがとれる。また、
窓が小さいので窓の膜厚を従来より薄くしてＸ線透過率
を向上させても、ミラーチャンバとマスクを圧力的に隔
てるのに十分な膜の強度を得られる。
（実施例）
第１図は本発明の実施例の放射光露光装置の構成の一例
であり、ｌは蓄積リング、２は放射光、３はＸ線反射ミ
ラー、４はミラーの位置決めと揺動するミラー駆動機構
、５はＸ線取り出し窓、６は露光用アライナ、７はマス
ク、８！よミラーチャンバ、９はビームライン、１０は
真空ベローズ、１１は逅う−駆動機構とミラーを連結す
る連結棒、１２はミラー揺動棒 ミラー揺動棒、１３はヘリウムパイプである。
であり、ｌは蓄積リング、２は放射光、３はＸ線反射ミ
ラー、４はミラーの位置決めと揺動するミラー駆動機構
、５はＸ線取り出し窓、６は露光用アライナ、７はマス
ク、８！よミラーチャンバ、９はビームライン、１０は
真空ベローズ、１１は逅う−駆動機構とミラーを連結す
る連結棒、１２はミラー揺動棒 ミラー揺動棒、１３はヘリウムパイプである。
放射光露光装置は蓄積リングｌとミラーチャンバ８、Ｘ
線取り出し窓５、等から成るビームライン９、そして、
露光用アライナ６から構成されている。Ｘ線取り出し窓
５は一般にＸ線透過率が高く、比較的強度の強いベリリ
ウムが使用されている。蓄積リング１から出た放射光２
はＸ線反射ミラー３で反射される。Ｘ線反射ミラー３は
ミラー駆動機構４と真空ベローズ１０、連結棒１１を介
して連結されており、ごラー駆動機構４によりＸ線が露
光用アライナ６のマスク７上に来るようにＸ線反射ミラ
ー３の位置を調整する。Ｘ線反射ミラー３から出たＸ線
は、そのＸ線反射ミラー３の位置を調整する。Ｘ線反射
ミラー３から出たＸ線は、そのＸ線反射ミラー３の極く
近傍に位置するＸ線取り出し窓５を通り、さらにヘリウ
ムパイプ１３を通って、露光用アライナ６のマスク７上
に到達する。ヘリウムパイプ１３中のヘリウムは１気圧
で、透過率は空気の約２６０倍である。また、Ｘ線反射
ミラー３は業う−帰動棒１２でミラー駆動機構４と接続
されており、ミラー駆動機構４内に持つ揺動機構により
揺動される。このＸ線反射ミラーの揺動によって露光エ
リアが拡大される。本実施例では露光用アライナ６はマ
スク７を含む露光系がヘリウム中にあり、ヘリウム中露
光が可能となっている。いま、第４図はＸ線反射ミラー
３とＸ線取り出し窓５、マスク７の位置関係を示したも
ので、Ｘ線反射ミラー３とマスク７の位置が１ｍとしＸ
線取り出し窓５がＸ線反射ミラー３の中心から３０ｃｍ
の位置にあり、露光位置で３０ｍｍ幅で揺動するとＸ線
取り出し窓５の幅は１０−程度で良いことになる。した
がって、Ｘ線取り出し窓５の大きさは露光エリア３０Ｉ
ＩＩＩ１１角でも１０ａｕａＸ３０ｍｍの大きさで良く
、Ｘ線取り出し窓５すなわちベリリウムの厚さを極力薄
くすることが、可能である。本実施例ではベリリウムの
膜厚を２０ｕＩ１１とし透過率は５０％以上である。な
お、横方向も従来窓よりも小さくできるので従来と同じ
露光エリアであれば、横方向の大きさも３０．ｍｍ以下
の大きさでよい。このようにＸ線取り出し窓５のへリリ
ウムの膜厚を薄くすることにより、ビームライン９での
Ｘ線透過率が高くなり、Ｘ線取り出し効率が向上する。
線取り出し窓５、等から成るビームライン９、そして、
露光用アライナ６から構成されている。Ｘ線取り出し窓
５は一般にＸ線透過率が高く、比較的強度の強いベリリ
ウムが使用されている。蓄積リング１から出た放射光２
はＸ線反射ミラー３で反射される。Ｘ線反射ミラー３は
ミラー駆動機構４と真空ベローズ１０、連結棒１１を介
して連結されており、ごラー駆動機構４によりＸ線が露
光用アライナ６のマスク７上に来るようにＸ線反射ミラ
ー３の位置を調整する。Ｘ線反射ミラー３から出たＸ線
は、そのＸ線反射ミラー３の位置を調整する。Ｘ線反射
ミラー３から出たＸ線は、そのＸ線反射ミラー３の極く
近傍に位置するＸ線取り出し窓５を通り、さらにヘリウ
ムパイプ１３を通って、露光用アライナ６のマスク７上
に到達する。ヘリウムパイプ１３中のヘリウムは１気圧
で、透過率は空気の約２６０倍である。また、Ｘ線反射
ミラー３は業う−帰動棒１２でミラー駆動機構４と接続
されており、ミラー駆動機構４内に持つ揺動機構により
揺動される。このＸ線反射ミラーの揺動によって露光エ
リアが拡大される。本実施例では露光用アライナ６はマ
スク７を含む露光系がヘリウム中にあり、ヘリウム中露
光が可能となっている。いま、第４図はＸ線反射ミラー
３とＸ線取り出し窓５、マスク７の位置関係を示したも
ので、Ｘ線反射ミラー３とマスク７の位置が１ｍとしＸ
線取り出し窓５がＸ線反射ミラー３の中心から３０ｃｍ
の位置にあり、露光位置で３０ｍｍ幅で揺動するとＸ線
取り出し窓５の幅は１０−程度で良いことになる。した
がって、Ｘ線取り出し窓５の大きさは露光エリア３０Ｉ
ＩＩＩ１１角でも１０ａｕａＸ３０ｍｍの大きさで良く
、Ｘ線取り出し窓５すなわちベリリウムの厚さを極力薄
くすることが、可能である。本実施例ではベリリウムの
膜厚を２０ｕＩ１１とし透過率は５０％以上である。な
お、横方向も従来窓よりも小さくできるので従来と同じ
露光エリアであれば、横方向の大きさも３０．ｍｍ以下
の大きさでよい。このようにＸ線取り出し窓５のへリリ
ウムの膜厚を薄くすることにより、ビームライン９での
Ｘ線透過率が高くなり、Ｘ線取り出し効率が向上する。
もちろん、ヘリウムパイプ１３の中は露光用アライナ６
が減圧ヘリウム中で使用可能な装置であれば、減圧ヘリ
ウムでも良く、さらにＸ線取り出し効率の向上が望める
。また、減圧ヘリウムとすることでＸ線取り出し窓５か
らリークする可能性も減少し安定なＸ線の取り出しが可
能である。Ｘ線取り出し窓５にベリリウムの金属膜を中
心に述べてきたが、ＳｉＮ膜、ＳｉＣ膜、ＢＮ膜等の無
機膜、ポリイミド、ポリエステル等の有機膜でも同様で
ある。
が減圧ヘリウム中で使用可能な装置であれば、減圧ヘリ
ウムでも良く、さらにＸ線取り出し効率の向上が望める
。また、減圧ヘリウムとすることでＸ線取り出し窓５か
らリークする可能性も減少し安定なＸ線の取り出しが可
能である。Ｘ線取り出し窓５にベリリウムの金属膜を中
心に述べてきたが、ＳｉＮ膜、ＳｉＣ膜、ＢＮ膜等の無
機膜、ポリイミド、ポリエステル等の有機膜でも同様で
ある。
次に本発明の他の実施例について述べる。
第５図は露光用アライナ６が大気中露光装置の場合の実
施例であり、１は蓄積リング、２は放射光、３はＸ線反
射ミラー、４は旦う−の位置決めと揺動するミラー駆動
機構、６はｎ光用アライナ、７はマスク、８はミラーチ
ャンバ、９はビームライン、１３はヘリウムパイプ、１
４は第−Ｘ線取り出し窓、１５は第二Ｘ線取り出し窓で
ある。
施例であり、１は蓄積リング、２は放射光、３はＸ線反
射ミラー、４は旦う−の位置決めと揺動するミラー駆動
機構、６はｎ光用アライナ、７はマスク、８はミラーチ
ャンバ、９はビームライン、１３はヘリウムパイプ、１
４は第−Ｘ線取り出し窓、１５は第二Ｘ線取り出し窓で
ある。
放射光露光装置は前の実施例と同様に蓄積リング１とミ
ラーチャンバ７、Ｘ線取り出し窓１４１５、ヘリウムパ
イプ１３等から成るビームライン９、そして、露光用ア
ライナ６から構成されている。蓄積リング１から出た放
射光２はＸ線反射ミラー３で反射し、Ｘ線反射ミラー３
の近傍に位置された第一のＸ線取り出し窓１４を通り、
ヘリウムパイプ１３、第二Ｘ線取り出し窓１５を通って
アライナ６のマスク７上に到達して露光に寄与される。
ラーチャンバ７、Ｘ線取り出し窓１４１５、ヘリウムパ
イプ１３等から成るビームライン９、そして、露光用ア
ライナ６から構成されている。蓄積リング１から出た放
射光２はＸ線反射ミラー３で反射し、Ｘ線反射ミラー３
の近傍に位置された第一のＸ線取り出し窓１４を通り、
ヘリウムパイプ１３、第二Ｘ線取り出し窓１５を通って
アライナ６のマスク７上に到達して露光に寄与される。
蓄積リングｌやビームライン１３は１０−９Ｔｏｒｒの
超高真空となっており、露光用アライナ６は大気中にあ
る。１Ｏ−９７ｏｒｒの超高真空と大気とはＸ線取り出
し窓１４１５で仕切られている。第−Ｘ線取り出し窓１
４と第二Ｘ線取り出し窓１５の間はヘリウムパイプ１３
で接続され、ヘリウムパイプ１３は１気圧のＸ線透過率
の高いヘリウムで満たされている。また、第−Ｘ線取り
出し窓１４には比較的強度の高いベリリウムが使用され
、大気圧のかからない第二Ｘ線取り出し窓１５には厚さ
１μｍ程度の有機膜が使用されている。この有機膜は例
えばポリエステルであり、ヘリウムがヘリウムパイプ１
３から逃げない、マスク側から空気が入ってこないもの
であればよい。このように大気圧のかかる第−Ｘ線取り
出し窓１４は、Ｘ線反射ミラー３の近くに位置した構成
となっているため、第１の実施例のＸ線取り出し窓５と
同様にベリリウムの厚さを薄くでき、ビームライン９で
のＸ線取り出し効率を高くすることが可能である。
超高真空となっており、露光用アライナ６は大気中にあ
る。１Ｏ−９７ｏｒｒの超高真空と大気とはＸ線取り出
し窓１４１５で仕切られている。第−Ｘ線取り出し窓１
４と第二Ｘ線取り出し窓１５の間はヘリウムパイプ１３
で接続され、ヘリウムパイプ１３は１気圧のＸ線透過率
の高いヘリウムで満たされている。また、第−Ｘ線取り
出し窓１４には比較的強度の高いベリリウムが使用され
、大気圧のかからない第二Ｘ線取り出し窓１５には厚さ
１μｍ程度の有機膜が使用されている。この有機膜は例
えばポリエステルであり、ヘリウムがヘリウムパイプ１
３から逃げない、マスク側から空気が入ってこないもの
であればよい。このように大気圧のかかる第−Ｘ線取り
出し窓１４は、Ｘ線反射ミラー３の近くに位置した構成
となっているため、第１の実施例のＸ線取り出し窓５と
同様にベリリウムの厚さを薄くでき、ビームライン９で
のＸ線取り出し効率を高くすることが可能である。
（発明の効果）
以上説明したように、本発明のＸ線反射ミラーの掻く近
傍にＸ線取り出し窓を設けることによって、露光エリア
を確保しながらＸ線取り出し窓の大きさを小さくできる
ため、膜厚を薄くすることが可能であり、Ｘ線取り出し
効率の向上が図れる。
傍にＸ線取り出し窓を設けることによって、露光エリア
を確保しながらＸ線取り出し窓の大きさを小さくできる
ため、膜厚を薄くすることが可能であり、Ｘ線取り出し
効率の向上が図れる。
第１図は本発明の実施例の構成図
第２図はシンクロトン放射光の特徴を示す図第３図は従
来技術の構成図 第４図は本発明のくう−とＸ線取り出し窓、マスクの位
置関係を示す図 第５図は本発明の他の実施例を示す図 １・・・蓄積リング ２・・・放射光 ３・・・Ｘ線反射ミラー ４・・・ミラー駆動系 ５・・・ＸｖＡ取り出し窓 ６・・・露光用アライナ ７・・・マスク ８・・・ミラーチャンバ ９・・・ビームライン １０・・・真空ベローズ １１・・・連結棒 １２・・・ミラー揺動棒 １３・・・ヘリウムパイプ ４・・・第−Ｘ線取り出し窓 ５・・・第二Ｘ線取り出し窓
来技術の構成図 第４図は本発明のくう−とＸ線取り出し窓、マスクの位
置関係を示す図 第５図は本発明の他の実施例を示す図 １・・・蓄積リング ２・・・放射光 ３・・・Ｘ線反射ミラー ４・・・ミラー駆動系 ５・・・ＸｖＡ取り出し窓 ６・・・露光用アライナ ７・・・マスク ８・・・ミラーチャンバ ９・・・ビームライン １０・・・真空ベローズ １１・・・連結棒 １２・・・ミラー揺動棒 １３・・・ヘリウムパイプ ４・・・第−Ｘ線取り出し窓 ５・・・第二Ｘ線取り出し窓
Claims (2)
- （１）Ｘ線反射ミラーを内蔵するチャンバとアライナを
備えた放射光露光装置において、光路上に放射光を反射
するＸ線反射ミラーを有し、Ｘ線反射ミラーを位置決め
揺動するミラー駆動機構があり、Ｘ線反射ミラーとアラ
イナとの間にＸ線取り出し窓を設け、そのＸ線取り出し
窓の揺動方向の寸法が露光エリアの揺動方向の寸法より
小さいことを特徴とする放射光露光装置。 - （２）Ｘ線反射ミラーを内蔵するチャンバとアライナを
備えた放射光露光装置において、光路上に放射光を反射
するＸ線反射ミラーを有し、Ｘ線反射ミラーを位置決め
揺動するミラー駆動機構があり、Ｘ線反射ミラーとアラ
イナとの間でビームラインの通過する位置にＸ線透過率
が空気より高いガスを充填させたガスパイプを設け、Ｘ
線反射ミラーに近い側の窓の揺動方向の寸法が露光エリ
アの揺動方向の寸法より小さいことを特徴とする放射光
露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1172778A JPH0338026A (ja) | 1989-07-04 | 1989-07-04 | 放射光露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1172778A JPH0338026A (ja) | 1989-07-04 | 1989-07-04 | 放射光露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0338026A true JPH0338026A (ja) | 1991-02-19 |
Family
ID=15948176
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1172778A Pending JPH0338026A (ja) | 1989-07-04 | 1989-07-04 | 放射光露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0338026A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS647620A (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-11 | Nec Corp | X-ray aligner |
-
1989
- 1989-07-04 JP JP1172778A patent/JPH0338026A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS647620A (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-11 | Nec Corp | X-ray aligner |
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