JPH0339473A - 帯板真空差圧シール装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、帯鋼等帯状材料（以下、単に′°帯板゛°
という。）を連続的に通板させながらその中央部の真空
処理室において様々な表面処理を施す帯板真空処理設備
、特に、真空処理室まで大気圧から真空度を段階的に上
げ、また真空処理室から大気圧まで真空度を段階的に下
げて行くために真空処理室の前後に複数個設置される真
空差圧シール装置に関するものである。

〔従来の技術〕

従来、この種の真空差圧シール装置として、帯板をロー
ルによりピンチしてその前後に差圧を生じさせるロール
式真空シール装置が多く使用されている。

このロール式真空差圧シール装置には、■ゴムライニン
グロール製のピンチロールだけを使用するか、或いはゴ
ムライニングロール製のピンチロールに、このピンチロ
ールに夫々当接して回転される金属製のシールロールと
、このシールロールを微小間隙を置いて覆う仕切壁状の
シール壁を併用したもの（特開昭６２−４８６５号公報
参照、実開昭６２−５４９１１号公報参照）と、■金属
製のピンチロールだけを使用したものとが知られている
。

このようなロール式真空差圧シール装置では、帯板の両
端側における上下ピンチロール間ギヤップの空間面積Ｓ
は、次式で表される。

５＝（Ａ−Ｗ）ｘｔ 但し、Ａ：ロールフェース Ｗ：＃板の幅 Ｌ：帯板の厚み 〔発明が解決しようとする課題〕 しかしながら、ゴムライニングロール製ピンチロールを
使用した前記■のロール式真空差圧シール装置では、ピ
ンチロールのロール表面を被覆したゴムの弾性により、
帯板の幅が小さい場合でも、上下ピンチロール間ギャッ
プの空間面積Ｓを略ゼロに近づけて差圧シール効果を保
つことができるが、ゴムの耐熱性に限界があり、帯板温
度が２５０°Ｃ以上となる場合には使用できないという
不都合があった。

また、金属製ピンチロールを使用した前記■のロール式
真空差圧シール装置では、帯板が高温である場合でも使
用できるが、上下ピンチロール間ギャップの空間面積Ｓ
が大きく（特に狭い幅で厚みの大きい帯板を通板する場
合）、差圧シール効果が損なわれる。帯板の幅が狭い場
合にはシール全漏洩面積の内、上下ピンチロール間ギャ
ップの空間面積Ｓがその半分以上を占める。真空処理室
に所定の真空度を保つためには真空差圧シール装置の段
数を前記■の真空差圧シール装置より増加させると共に
、真空ポンプの容量を大きくする必要があるという不都
合があった。

〔発明の目的〕

この発明は前記課題を解決するためになしたもので、帯
板が高温である場合でも使用できると共に、上下ピンチ
ロール間ギャップの空間面積を減少させ得るようにする
ことを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

この発明の帯板真空差圧シール装置は、第１図〜第３図
に示すように、帯板Ｐを挟み込んで通板可能な上下一対
のピンチロール４Ａ、４Ｂを設けたロール式真空シール
装置において、前記上ピンチロール４Ａの円筒シェル１
０を薄肉に形成し、この円筒シェル１０の中央部をロー
ル軸１２により支持し、円筒シェル１０の中央部の付近
から端部までロール軸１２との間に隙間Ｓを形成すると
共に、上ピンチロール４Ａの上方にロール軸方向に沿っ
て、上ピンチロール４Ａに当接して回転される複数個の
ペンディングローラ１４を互いに独立して上ビンチロー
ル４Ａ上に押し付け可能に配設したことを特徴としてお
り、かかる構成によって前記目的を達成するものである
。

〔作　用〕

押付シリンダ１４によってペンディングローラ１３を上
ピンチロール４Ａ上に押し付けると、ロール軸１２との
隙間Ｓの範囲内で円筒シェル１０が下方に曲がるから、
上下のピンチロール４Ａ、４Ｂ間を通板している帯板Ｐ
の厚み、幅により、また上下ピンチロール４Ａ、４Ｂ間
におけるそのロール軸方向配置位置により押付シリンダ
１４のペンディングローラ押付力が所定の値となるよう
に押付シリンダ１４を個別に制御すれば、上ピンチロー
ル４Ａの円筒シェル１０は下ピンチロール４Ｂと協働し
て通板中の帯板Ｐに対応した曲げ形状に変形される。

〔実　施　例〕

以下、この発明の一実施例を第１図〜第３図に沿って説
明する。

図中１は真空処理室、２は真空処理室ｌの前後に配置さ
れた複数個の真空差圧シールで、ハウジング３内の帯板
通板方向（図中の矢印方向）に連設されている。

４Ａは金属製の上ピンチロール、４Ｂは金属製の下ピン
チロールで、ハウジング３内の各室の出入口部に帯板通
板ラインＬを挟んで対向するように設置されている。

下ピンチロール４Ｂの円筒シェル５は厚内に形成され、
この円筒シェル５の両端には支持円板６が固着され、こ
の支持円板６には夫々ロール軸７が円筒シェル５と同芯
に突設されている。

このロール軸７は、ハウジング３の側壁３ａに設けた軸
受８Ｂに装着されてこれを介し回転可能に支持されると
共に、ユニバーサルスピンドル９を介して駆動装置に接
続されている。

上ピンチロール４Ａの円筒シェル１０は薄肉に形成され
、この円筒シェル１０の中央部内には間隔を置いて一対
の支持円板１１が固着され、この支持円板１１には夫々
ロール軸１２が円筒シェル１０と同芯に突設されている
。

このロール軸１２は、ハウジング３の側壁３ａに設けた
軸受８Ａに装着されてこれを介し回転可能に支持されて
いる。

そして、円筒シェル１０の中央部の付近から端部までロ
ール軸１２との間に隙間Ｓが形成されており、円筒シェ
ル１０を下方に押圧することによって中央部を支点とし
て下方に曲げ可能となっている。

１３は複数個のペンディングローラ（実施例では８個）
で、帯板通板ラインＬを挟んで両側に夫々４個ずつ、上
ピンチロール４Ａの上方にロール軸方向に沿って配置さ
れており、上ピンチロール４Ａに当接して回転されるよ
うになっている。

１４は複数本の押付シリンダ（実施例では油圧シリンダ
）で、帯板通板方向と直角方向に間隔を置いてハウジン
グ３の頂壁３ｂ上に設置され、ピストンロッドは頂壁３
ｂに設けた０リング１５内を貫通してハウジング３内に
挿入され、その先端には前記ペンディングローラ１３が
回転可能に取り付けられている。

この押付シリンダ１４は、ペンディングローラ１３を上
ピンチロール４Ａに押し付ける力（ローラ押付力）が夫
々所定の設定値となるように別個に制御可能となってい
る。

１６Ａ、１６Ｂはバックアップロールを兼ねる金属製シ
ールロールで、ハウジング３の側壁３ａに設けた軸受を
介し回転可能に支持されて上下のピンチロール４Ａ、４
Ｂの帯板通板方向側又は反帯板通板方向側に夫々配設さ
れており、ピンチロール４Ａ、４Ｂに当接して回転され
るようになっている。

１７Ａ、１７Ｂはシール壁で、ハウジング３の側壁３ａ
と頂壁３ｂ、側壁３ａと底壁３Ｃに夫々固定されてシー
ルロール１６Ａ、１６Ｂの周面と摺接するように微小間
隙を置いてその帯板通板方向側に夫々配設されている。

１８Ａ、１８Ｂ、１８Ｃはリング状のロール側面シール
装置で、上下のピンチロール４Ａ、４Ｂ。

シールロール１６Ａ、１６Ｂの端部側面と常に摺接する
ようにハウジング３の側壁３ａ内面に装着されている。

１９は真空ポンプで、真空処理室ｌと真空差圧シール２
に互いに独立して配管２０を介し接続されている。

尚、この実施例では、下ピンチロール４Ｂをハウジング
３の側壁３ａに軸受８Ｂを介し固定的に設けた例につい
て説明したが、第５図に示す如く、下ビンチロール４Ｂ
をシールロール１６Ｂに当接しながらその回りを回動し
てロール４Ａ、４Ｂ間を開閉可能に設け、帯板Ｐの幅が
上下ピンチロール４Ａ、４Ｂ間を通板中に変化する場合
にピンチロール４Ａ、４Ｂ位置に対する板幅変化箇所の
位置によって下側ピンチ圧力を変更できるようにするこ
とが好ましい。

以上の構成において、上ピンチロール４Ａの円筒シェル
１０は金属製で薄肉に形成されており、中央部でロール
軸１２により支持され、円筒シェル１０の中央部の付近
から端部までロール軸１２との間に隙間Ｓが形成されて
いるため、押付シリンダ１４によりペンディングローラ
１３を上ピンチロール４Ａ上に押し付けると、円筒シェ
ル１０は前記隙間Ｓの範囲内で下方に曲がって下ピンチ
ロール４Ｂに当接可能となるから、上下のピンチロール
４Ａ、４Ｂ間を通板している帯板Ｐの厚み、幅により、
更に上下のピンチロール４Ａ、４Ｂ間におけるそのロー
ル軸方向位置により押付シリンダ１４のペンディングロ
ーラ押付力が所定の値となるように比例電磁弁等により
押付シリンダ１４を個別に制御すれば、第４図に示すよ
うに、上ピンチロール４Ａの円筒シェルＩＯは下ビンチ
ロール４Ｂと協働して通板中の帯板Ｐに対応した曲げ形
状に変形され、帯板Ｐの両端側における上下ピンチロー
ル４Ａ、４Ｂ間ギャップの空間面積Ｓは減少し、上下の
ピンチロール４Ａ、４Ｂ間の気体通過量は減少する。

また、ピンチロール４Ａとこれに当接して回転されるシ
ールロール１６Ａとの間及びピンチロール４Ｂとこれに
当接して回転されるシールロール１６Ｂとの間は当接シ
ールされる。ビンチロール４Ａ、４Ｂ及びシールロール
１６Ａ、１６Ｂとハウジング３の側壁３ａとの間は夫々
ロール側面シール装置１８Ａ、１８ＢＳ　１８Ｃにより
シールされる。シールロール１６Ａと、ハウジング３の
側壁３ａと頂壁３ｂに固定されたシール壁１７Ａとの間
及びシールロール１６Ｂと、ハウジング３の側壁３ａと
底壁３Ｃに固定されたシール壁１７Ｂとの間の気体通過
量は微小間隙による気体流入抵抗によって減少する。

前述のような真空差圧シール装置によって真空処理室１
と真空差圧シール２の各出入口部における各室間の気体
移動が抑制されると共に、各室内に流入した気体は真空
ポンプ１９により内部気体として外部に排出される。

従って、真空処理室１まで大気圧から真空度を段階的に
上げて所定の真空度を確実に得ることができる。

〔発明の効果〕

以上の通り、この発明は、上下のピンチロールに金属製
のロールを使用しているから、帯板温度が高くても使用
できる。また、上ピンチロールの円筒シェルを薄肉に形
成しており、上ピンチロールの上方にロール軸方向に沿
って配列した互いに独立して押付力を設定可能な複数個
のペンディングローラによって下方に押圧して上ピンチ
ロールの円筒シェルを下ピンチロールと協働して所定の
曲げ形状に変形させることができるから、上下ピンチロ
ール間のエア漏洩面積を確実に減少させることができる
。従って、差圧シール効果が確保されるから、真空処理
室に所定の真空度を保つために、従来のように真空差圧
シール装置の段数を増加させ、かつ、真空ポンプの容量
を大きくする必要はない。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例を示す概略的な縦断面図、
第２図は第１図の要部拡大図、第３図は第２図のＸ〜線
に沿う断面図、第４図は作用説明図である。 ■・・・・・・真空処理室、２・・・・・・真空予備室
、３・・・・・・ハウジング、４Ａ・・・・・・上ピン
チロール、４Ｂ・・・・・・下ピンチロール、 ５．１０・・・・・・円筒シェル、６．１１・・・・・
・支持円板、７．１２・・・・・・ロール軸、８Ａ、８
Ｂ・・・・・・軸受、１３・・・・・・ペンディングロ
ーラ、１４・・・・・・押付シリンダ、 １６Ａ、１６Ｂ・・・・・・シールロール、１７Ａ、１
７Ｂ・・・・・・シール壁、１８Ａ、１８Ｂ、１８Ｃ・
・・・・・側面シール装置。 Ｃ 第 図 ４１：５

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）．帯板を挟み込んで通板可能な上下一対のピンチ
   ロールを設けたロール式真空差圧シール装置において、
   前記上ピンチロールの円筒シェルを薄肉に形成し、この
   円筒シェルの中央部をロール軸により支持し、円筒シェ
   ルの中央部の付近から端部までロール軸との間に隙間を
   形成すると共に、上ピンチロールの上方にロール軸方向
   に沿って、上ピンチロールに当接して回転される複数個
   のペンディングローラを互いに独立して上ピンチロール
   上に押し付け可能に配設したことを特徴とする帯板真空
   差圧シール装置。