JPH01253631A - ガス分析装置 - Google Patents
ガス分析装置Info
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- JPH01253631A JPH01253631A JP8190688A JP8190688A JPH01253631A JP H01253631 A JPH01253631 A JP H01253631A JP 8190688 A JP8190688 A JP 8190688A JP 8190688 A JP8190688 A JP 8190688A JP H01253631 A JPH01253631 A JP H01253631A
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- 238000010926 purge Methods 0.000 claims abstract description 17
- 239000012530 fluid Substances 0.000 abstract description 15
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- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えば特願昭53−1726号(特公昭56
−4.8822号公報)等により本願出願人が既に提案
しているように、サンプルガスと比較ガス(例えばゼロ
ガス)とを所定周波数で交互にガス分析計へ供給するよ
うに構成してある流体変調式ガス分析装置とか、あるい
は、実願昭62−200657号に示されているように
、ガス分析計における測定セルへサンプルガスを、そし
て、比較セルへ比較ガスを、夫々連続的に供給するよう
に構成してあるガス分析装置などのように、サンプルガ
スと比較ガスとを間欠的あるいは連続的にガス分析計へ
供給するように構成してあるガス分析装置に係り、更に
詳しくは、それらガス分析装置におけるガス分析計への
比較ガス供給技術に関するものである。
−4.8822号公報)等により本願出願人が既に提案
しているように、サンプルガスと比較ガス(例えばゼロ
ガス)とを所定周波数で交互にガス分析計へ供給するよ
うに構成してある流体変調式ガス分析装置とか、あるい
は、実願昭62−200657号に示されているように
、ガス分析計における測定セルへサンプルガスを、そし
て、比較セルへ比較ガスを、夫々連続的に供給するよう
に構成してあるガス分析装置などのように、サンプルガ
スと比較ガスとを間欠的あるいは連続的にガス分析計へ
供給するように構成してあるガス分析装置に係り、更に
詳しくは、それらガス分析装置におけるガス分析計への
比較ガス供給技術に関するものである。
この種のガス分析装置においては、ガス分析計へ供給さ
れるサンプルガスと比較ガスとの水分含有率が異なると
、その差が分析結果に悪影響を与えるため、サンプルガ
スおよび比較ガスに対して予め除湿処理を施すことによ
って、両者夫々の含有水分量ならびに両者の間の水分含
有率の差を可及的に小さく調整しておく、という配慮が
なされる。
れるサンプルガスと比較ガスとの水分含有率が異なると
、その差が分析結果に悪影響を与えるため、サンプルガ
スおよび比較ガスに対して予め除湿処理を施すことによ
って、両者夫々の含有水分量ならびに両者の間の水分含
有率の差を可及的に小さく調整しておく、という配慮が
なされる。
そのための−船釣な従来手段としては、前記流体変調式
ガス分析装置の場合を例にとれば、第5図に示すように
、サンプルガス供給ラインSおよび比較ガス供給ライン
rの夫々に、共通の電子冷却器yを介装して両者の間の
9m?Wを行う、という構成が用いられていた。なお、
この第5図において、aはサンプルガス取り入れ口、b
はサンプルガス用1 次フィルター、Cはトレンセパレ
ータ、dはドレンボット、eはシンブルガス用2次フィ
ルター、fはナンブルガス供給用ポンプ、台は比較ガス
用フィルター(この比較ガスとしては、−般に、大気あ
るいは窒素ガス等が用いられる)、hば比較ガス供給用
ポンプ、iは定圧トラップ、jは()−ンプルガスと比
較ガスとを所定周波数で交互にガス分析計へ供給する流
体変調機構(例えばロータリーハルツ等で構成される)
、kはガス分析計、I!+J流璽訂を示している。
ガス分析装置の場合を例にとれば、第5図に示すように
、サンプルガス供給ラインSおよび比較ガス供給ライン
rの夫々に、共通の電子冷却器yを介装して両者の間の
9m?Wを行う、という構成が用いられていた。なお、
この第5図において、aはサンプルガス取り入れ口、b
はサンプルガス用1 次フィルター、Cはトレンセパレ
ータ、dはドレンボット、eはシンブルガス用2次フィ
ルター、fはナンブルガス供給用ポンプ、台は比較ガス
用フィルター(この比較ガスとしては、−般に、大気あ
るいは窒素ガス等が用いられる)、hば比較ガス供給用
ポンプ、iは定圧トラップ、jは()−ンプルガスと比
較ガスとを所定周波数で交互にガス分析計へ供給する流
体変調機構(例えばロータリーハルツ等で構成される)
、kはガス分析計、I!+J流璽訂を示している。
しかしながら、上記したような従来手段による場合には
、サンプルガスおよび比較ガス中の含有水分をドレンと
して凝縮させる方式の電子冷却器yを採用しているため
に、露点を0°C以下に下げること(つまり、露点0°
Cにおける水分含有率以下にすること)が不可能であり
、従って、例えば低濃度N Oxの分析を行うような場
合には、十分な測定精度を得られる程度に水分の除去を
行うことができない、とい・う問題があった。
、サンプルガスおよび比較ガス中の含有水分をドレンと
して凝縮させる方式の電子冷却器yを採用しているため
に、露点を0°C以下に下げること(つまり、露点0°
Cにおける水分含有率以下にすること)が不可能であり
、従って、例えば低濃度N Oxの分析を行うような場
合には、十分な測定精度を得られる程度に水分の除去を
行うことができない、とい・う問題があった。
そこで、第6図に示すように、サンプルガス供給ライン
Sおよび比較ガス供給ラインrに、夫々、露点をQ ’
c以下に下げることが可能な半透膜除湿器x、 xを
介装するごとにより、両者の水分含有率を共に十分に下
げることができるように構成することが考えられている
が、その場合には、高価な半透膜除湿器Xを両ラインs
、rに各別に設けなければならないため、非常にコス1
へ高になるのみならず、サンプルガスと比較ガスの水分
含有率を必ずしも確実に一致させることができない、と
いう問題がある。なお、前記各半透膜除湿器Xを通過さ
せるべく供給されるパージガスとしては、−fGに、例
えばドライエアとかドライ窒素ガス等が用いられる。ま
た、この第6図における参照符号a、 b、 c、 d
、 e、 f、 g、 h、 t、 j、 k。
Sおよび比較ガス供給ラインrに、夫々、露点をQ ’
c以下に下げることが可能な半透膜除湿器x、 xを
介装するごとにより、両者の水分含有率を共に十分に下
げることができるように構成することが考えられている
が、その場合には、高価な半透膜除湿器Xを両ラインs
、rに各別に設けなければならないため、非常にコス1
へ高になるのみならず、サンプルガスと比較ガスの水分
含有率を必ずしも確実に一致させることができない、と
いう問題がある。なお、前記各半透膜除湿器Xを通過さ
せるべく供給されるパージガスとしては、−fGに、例
えばドライエアとかドライ窒素ガス等が用いられる。ま
た、この第6図における参照符号a、 b、 c、 d
、 e、 f、 g、 h、 t、 j、 k。
E、r、sにより示される各部材は、前記第5図のもの
と同様である。
と同様である。
本発明は、かかる実情に鑑みてなされたものであって、
その目的は、半透膜除湿器をただ1個用いるだけであり
ながら、サンプルガスおよび比較ガスの両方を、共に十
分に水分除去処理された状態で得ることができ、しかも
、それら両者の水分含有率を容易に一致させ得るように
せんとすることにある。
その目的は、半透膜除湿器をただ1個用いるだけであり
ながら、サンプルガスおよび比較ガスの両方を、共に十
分に水分除去処理された状態で得ることができ、しかも
、それら両者の水分含有率を容易に一致させ得るように
せんとすることにある。
」−記目的を達成するために、本発明は、第1図の概念
図(クレーム対応図)に示すように、サンプルガスと比
較ガスとをガス分析計へ、図中実線で示しているように
流体変調機構を設けることにより所定周波数で交互に、
あるいは、図中想像線で示しているように流体変調機構
を股ないで連続的に、供給するように構成してあるガス
分析装置において、前記ガス分析計へのシンブルガスの
供給路に半透膜除湿器を介装し、かつ、その半透膜除湿
器を通過さセるべきパージガスとして乾燥された比較ガ
スを導入すると共に、そのパージガス(比較ガス)を、
該半透膜除湿器からのサンプルガスの出口における水分
含有率と等しいまたは略等しい水分含有率となる位置か
ら導出するように構成してある、 という点に特徴がある。
図(クレーム対応図)に示すように、サンプルガスと比
較ガスとをガス分析計へ、図中実線で示しているように
流体変調機構を設けることにより所定周波数で交互に、
あるいは、図中想像線で示しているように流体変調機構
を股ないで連続的に、供給するように構成してあるガス
分析装置において、前記ガス分析計へのシンブルガスの
供給路に半透膜除湿器を介装し、かつ、その半透膜除湿
器を通過さセるべきパージガスとして乾燥された比較ガ
スを導入すると共に、そのパージガス(比較ガス)を、
該半透膜除湿器からのサンプルガスの出口における水分
含有率と等しいまたは略等しい水分含有率となる位置か
ら導出するように構成してある、 という点に特徴がある。
かかる特徴構成により発揮される作用は次の通りである
。
。
即ち、上記本発明に係るガス分析装置においては、後述
する実施例の記載からもより一層明らかとなるように、
露点を0°C以下に下げることができる半透膜除湿器を
サンプルガスの供給路に設けであるから、サンプルガス
に対する水分除去作用を十分に発揮させ得ることば勿論
、その半透膜除湿器を通過させるべく供給されるパージ
ガスとして乾燥された比較ガスを導入するように構成す
ると共に、そのパージガス(比較ガス)を、該半透膜除
湿器からのサンプルガスの出口における水分含有率と等
しいまたは略等しい水分含有率となる位置から導出する
ように構成してあるため、ただ1個の半透膜除湿器を用
いるだけでありながら、サンプルガスと比較ガスの水分
含有率を共に十分に小さくした状態で容易に一致させる
ことができる。
する実施例の記載からもより一層明らかとなるように、
露点を0°C以下に下げることができる半透膜除湿器を
サンプルガスの供給路に設けであるから、サンプルガス
に対する水分除去作用を十分に発揮させ得ることば勿論
、その半透膜除湿器を通過させるべく供給されるパージ
ガスとして乾燥された比較ガスを導入するように構成す
ると共に、そのパージガス(比較ガス)を、該半透膜除
湿器からのサンプルガスの出口における水分含有率と等
しいまたは略等しい水分含有率となる位置から導出する
ように構成してあるため、ただ1個の半透膜除湿器を用
いるだけでありながら、サンプルガスと比較ガスの水分
含有率を共に十分に小さくした状態で容易に一致させる
ことができる。
以下、本発明に係るガス分析装置の具体的な一実施例を
図面(第2図ないし第4図)に基いて説明する(なお、
ここでは流体変調式ガス分析装置の場合を例にとって説
明する)。
図面(第2図ないし第4図)に基いて説明する(なお、
ここでは流体変調式ガス分析装置の場合を例にとって説
明する)。
第2図の全体概略構成図に示すように、例えばロータリ
ーバルブ等で構成される流体変調機構1により、サンプ
ルガスと比較ガス(通常はゼロガス)とを所定周波数で
交互にガス分析計2へ供給するように構成してある流体
変調式ガス分析装置において、前記流体変調機構1に対
するサンプルガス供給ラインSに、サンプルガス取り入
れ口3゜1次フィルター4.ドレンセパレータ5.ドレ
ンポット6.2次フィルター7、ポンプ8等をこの順に
配設すると共に、前記ポンプ8と流体変調機構1との間
に、露点を0℃以下に下げること(っまり、露点0“C
における水分含有率以下にすること)が可能な半透膜除
湿器Xを介装して、サンプルガスに対する十分な水分除
去を行えるように構成してある。なお、この半透膜除湿
器Xとは、例えばナフィオン(デュポン社の商標)等の
半透膜材料で構成されたサンプルガス用主流路の周囲に
パージガス(乾燥ガス)を連続的に流動させるように構
成されたものである。
ーバルブ等で構成される流体変調機構1により、サンプ
ルガスと比較ガス(通常はゼロガス)とを所定周波数で
交互にガス分析計2へ供給するように構成してある流体
変調式ガス分析装置において、前記流体変調機構1に対
するサンプルガス供給ラインSに、サンプルガス取り入
れ口3゜1次フィルター4.ドレンセパレータ5.ドレ
ンポット6.2次フィルター7、ポンプ8等をこの順に
配設すると共に、前記ポンプ8と流体変調機構1との間
に、露点を0℃以下に下げること(っまり、露点0“C
における水分含有率以下にすること)が可能な半透膜除
湿器Xを介装して、サンプルガスに対する十分な水分除
去を行えるように構成してある。なお、この半透膜除湿
器Xとは、例えばナフィオン(デュポン社の商標)等の
半透膜材料で構成されたサンプルガス用主流路の周囲に
パージガス(乾燥ガス)を連続的に流動させるように構
成されたものである。
而して、前記半透膜除湿器Xを通過させるべく供給され
るパージガスとして、本発明装置においでは、比較ガス
として兼用できるガス(例えば、乾燥された大気や窒素
ガスなど)を導入すると共 ゛に、そのパージガ
ス(比較ガス)を、該半透膜除湿器Xからのサンプルガ
スの出口(A点)におけろ水分含有率(露点)と等しい
または略等しい水分含有率(露点)となる位置(B点)
から導出し、そのようにして得られた比較ガスを前記流
体変調機構1へ供給するように構成してある。なお、こ
の第2図中、9は定圧トラップ、10は流量計である。
るパージガスとして、本発明装置においでは、比較ガス
として兼用できるガス(例えば、乾燥された大気や窒素
ガスなど)を導入すると共 ゛に、そのパージガ
ス(比較ガス)を、該半透膜除湿器Xからのサンプルガ
スの出口(A点)におけろ水分含有率(露点)と等しい
または略等しい水分含有率(露点)となる位置(B点)
から導出し、そのようにして得られた比較ガスを前記流
体変調機構1へ供給するように構成してある。なお、こ
の第2図中、9は定圧トラップ、10は流量計である。
ところで、上記した半透膜除湿器Xからの比較ガス導出
位置(B点)は、例えば第3図に例示するような実験結
果に基いて決定することができる。
位置(B点)は、例えば第3図に例示するような実験結
果に基いて決定することができる。
即ち、この第3図に示すグラフは、あるサンプルガスを
34/分で流し、かつ、パージガス(比較ガス)として
乾燥窒素ガスを5β/分で流した場合(実際の測定時と
同じ状態)において、半透膜除湿器Xの長手方向におけ
る各位置(%表示している)とその位置におけるパージ
ガス(比較ガス)の水分含有率(露点)との関係を、周
囲温度(0℃、20℃、30°C)別に測定して作成し
た一例を示したものである。従って、実際の測定時にお
いては、周囲温度および半透膜除湿器Xの出口における
サンプルガスの水分含有率(露点)を測定し、その測定
結果をこのグラフに適用することにより、半透膜除湿器
Xからの比較ガス導出位置(B点)を容易に決定するこ
とができる。
34/分で流し、かつ、パージガス(比較ガス)として
乾燥窒素ガスを5β/分で流した場合(実際の測定時と
同じ状態)において、半透膜除湿器Xの長手方向におけ
る各位置(%表示している)とその位置におけるパージ
ガス(比較ガス)の水分含有率(露点)との関係を、周
囲温度(0℃、20℃、30°C)別に測定して作成し
た一例を示したものである。従って、実際の測定時にお
いては、周囲温度および半透膜除湿器Xの出口における
サンプルガスの水分含有率(露点)を測定し、その測定
結果をこのグラフに適用することにより、半透膜除湿器
Xからの比較ガス導出位置(B点)を容易に決定するこ
とができる。
また、第4図は、上記のようにして、半透膜除湿器Xの
サンプルガス出口(A点)における水分含有率と比較ガ
ス導出位置(B点)における水分含有率とを一致させる
べく、−旦、その比較ガス導出位置(B点)を決定し固
定した場合において、半透膜除湿器Xの入口におけるサ
ンプルガスの水分含有率変化の影響を調べた一実験結果
例を示すものであり、このグラフから明らかなように、
その影響は非常に小さい。
サンプルガス出口(A点)における水分含有率と比較ガ
ス導出位置(B点)における水分含有率とを一致させる
べく、−旦、その比較ガス導出位置(B点)を決定し固
定した場合において、半透膜除湿器Xの入口におけるサ
ンプルガスの水分含有率変化の影響を調べた一実験結果
例を示すものであり、このグラフから明らかなように、
その影響は非常に小さい。
なお、本発明は、上記実施例に係る流体変調式のガス分
析装置に限らず、サンプルガスと比較ガスとを連続的に
ガス分析計へ供給する形式のガス分析装置にも適用でき
ることは言うまでもない。
析装置に限らず、サンプルガスと比較ガスとを連続的に
ガス分析計へ供給する形式のガス分析装置にも適用でき
ることは言うまでもない。
以上詳述したところから明らかなように、本発明に係る
ガス分析装置によれば、露点をo′c以下に下げること
が可能な半透膜除湿器をガス分析計へのサンプルガスの
供給路に介装し、がっ、その半透膜除湿器を通過させる
べきパージガスとして乾燥された比較ガスを導入すると
共に、そのパ−ジガス(比較ガス)を、該半透膜除湿器
からのサンプルガスの出L1における水分含有率と等し
いまたは略等しい水分含有率となる位置から導出するよ
うに構成してあるから、ただ1個の半透膜除湿器を用い
るだけの非常Qこ簡素な構成のものでありながら、サン
プルガスと比較ガスの水分含有率を共に十分に小さくし
た状態で容易に−・致させることができ、以って、従来
よりも安価に構成でき、しかも、優れた測定精度を発揮
させることができる。
ガス分析装置によれば、露点をo′c以下に下げること
が可能な半透膜除湿器をガス分析計へのサンプルガスの
供給路に介装し、がっ、その半透膜除湿器を通過させる
べきパージガスとして乾燥された比較ガスを導入すると
共に、そのパ−ジガス(比較ガス)を、該半透膜除湿器
からのサンプルガスの出L1における水分含有率と等し
いまたは略等しい水分含有率となる位置から導出するよ
うに構成してあるから、ただ1個の半透膜除湿器を用い
るだけの非常Qこ簡素な構成のものでありながら、サン
プルガスと比較ガスの水分含有率を共に十分に小さくし
た状態で容易に−・致させることができ、以って、従来
よりも安価に構成でき、しかも、優れた測定精度を発揮
させることができる。
第1図は本発明の基本的概念を説明するだめの模式図で
ある。 また、第2図ないし第4図は本発明に係るガス分析装置
の具体的な一実施例を示し、第2図は全体概略構成図、
第3図はその使用法を説明するために用いる一実験結果
を示すグラフ、第4Mはその作用を補足説明するために
用いる−・実験結果を示すグラフである。 そして、第5図および第6図は本発明の技術的背景なら
びに従来技術の問題点を説明するだめのものであって、
第5図は従来一般の流体変調式ガス分析装置の全体概略
構成図を示し、第6図は比較例に係る流体変調式ガス分
析装置の全体概略構成図を示し、ている。 2・・・・・・ガス分析計、 X・・・・・・半透膜除湿器、 B・・・・・比較ガス導出位置。 出願人 株式会社 堀 場 製 作 所代理人 弁理士
藤 本 英 夫 (向 」 r〜 ゝ 駅 般 セ ジ 寥・R −IJ 革 一
ある。 また、第2図ないし第4図は本発明に係るガス分析装置
の具体的な一実施例を示し、第2図は全体概略構成図、
第3図はその使用法を説明するために用いる一実験結果
を示すグラフ、第4Mはその作用を補足説明するために
用いる−・実験結果を示すグラフである。 そして、第5図および第6図は本発明の技術的背景なら
びに従来技術の問題点を説明するだめのものであって、
第5図は従来一般の流体変調式ガス分析装置の全体概略
構成図を示し、第6図は比較例に係る流体変調式ガス分
析装置の全体概略構成図を示し、ている。 2・・・・・・ガス分析計、 X・・・・・・半透膜除湿器、 B・・・・・比較ガス導出位置。 出願人 株式会社 堀 場 製 作 所代理人 弁理士
藤 本 英 夫 (向 」 r〜 ゝ 駅 般 セ ジ 寥・R −IJ 革 一
Claims (1)
- サンプルガスと比較ガスとをガス分析計へ供給するよう
に構成してあるガス分析装置において、前記ガス分析計
へのサンプルガスの供給路に半透膜除湿器を介装し、か
つ、その半透膜除湿器を通過させるべきパージガスとし
て乾燥された比較ガスを導入すると共に、そのパージガ
ス(比較ガス)を、該半透膜除湿器からのサンプルガス
の出口における水分含有率と等しいまたは略等しい水分
含有率となる位置から導出するように構成してあること
を特徴とするガス分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63081906A JP2567655B2 (ja) | 1988-04-01 | 1988-04-01 | ガス分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63081906A JP2567655B2 (ja) | 1988-04-01 | 1988-04-01 | ガス分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01253631A true JPH01253631A (ja) | 1989-10-09 |
| JP2567655B2 JP2567655B2 (ja) | 1996-12-25 |
Family
ID=13759486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63081906A Expired - Lifetime JP2567655B2 (ja) | 1988-04-01 | 1988-04-01 | ガス分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2567655B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5187972A (en) * | 1992-01-17 | 1993-02-23 | Clean Air Engineering, Inc. | Gas monitor |
-
1988
- 1988-04-01 JP JP63081906A patent/JP2567655B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5187972A (en) * | 1992-01-17 | 1993-02-23 | Clean Air Engineering, Inc. | Gas monitor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2567655B2 (ja) | 1996-12-25 |
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