JPH0345384A - 光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体Info
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- JPH0345384A JPH0345384A JP1181559A JP18155989A JPH0345384A JP H0345384 A JPH0345384 A JP H0345384A JP 1181559 A JP1181559 A JP 1181559A JP 18155989 A JP18155989 A JP 18155989A JP H0345384 A JPH0345384 A JP H0345384A
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- Japan
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- formulas
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光、特にレーザー光を用いて情報を記録再生
する光記録媒体に関するものである。
する光記録媒体に関するものである。
光記録媒体は、基板上に形成された光記録層に、レーザ
ー光を照射することにより、照射部分に熱変形、穴形成
、相変化等による光学的濃度変化（反射率又は透明率の
変化）を生ぜしめて、情報の記録を行なうものである。
ー光を照射することにより、照射部分に熱変形、穴形成
、相変化等による光学的濃度変化（反射率又は透明率の
変化）を生ぜしめて、情報の記録を行なうものである。
光記録層に用いる材料としては、テμル、ビスマス等の
低融点の金属が知られている。しかしながら、これらの
無機金属を透明基板上に底膜するには、真空蒸着法、ス
パッタ法等によらなければならず、成膜装置が大型かつ
高価になり、生産性も十分とはいえず、加えてテμρ、
ビスマス等の金属は毒性を有するという欠点があった。
低融点の金属が知られている。しかしながら、これらの
無機金属を透明基板上に底膜するには、真空蒸着法、ス
パッタ法等によらなければならず、成膜装置が大型かつ
高価になり、生産性も十分とはいえず、加えてテμρ、
ビスマス等の金属は毒性を有するという欠点があった。
このようなことから、近年、近赤外域（波長７００〜９
００ ｎｍ ）に吸収域をもつ有機色素を光記録材料と
して用いる試みがなされており、これ！でにシアニン色
素、メロシアニン色素、ナフトキノン色素等が提案され
てきた。これらの有機色素を記録材として使用すること
の利点としては、無毒性であること、高密度記録が可能
なことなどが挙げられ、さらに有機溶媒に可溶な場合に
は、回転塗布による成膜が可能であシ、コスト的にもき
わめて有利であるという点である。
００ ｎｍ ）に吸収域をもつ有機色素を光記録材料と
して用いる試みがなされており、これ！でにシアニン色
素、メロシアニン色素、ナフトキノン色素等が提案され
てきた。これらの有機色素を記録材として使用すること
の利点としては、無毒性であること、高密度記録が可能
なことなどが挙げられ、さらに有機溶媒に可溶な場合に
は、回転塗布による成膜が可能であシ、コスト的にもき
わめて有利であるという点である。
ところが、反面有機色素は、一般に光、熱に対する安定
性が悪く再生レーザー光によって容易に反射率やキャリ
アーノイズ比（以下、ｃ／Ｎと略す）が低下するという
欠点を有してｈｐ、こうした欠点を解決する手段として
、従来から種々の化合物を安定剤として色素と併用する
試みがなされている。なかでも、ニッケル等の遷移金属
錯体は、色素の安定化効果が大きいため、数多く用いら
れてきた。
性が悪く再生レーザー光によって容易に反射率やキャリ
アーノイズ比（以下、ｃ／Ｎと略す）が低下するという
欠点を有してｈｐ、こうした欠点を解決する手段として
、従来から種々の化合物を安定剤として色素と併用する
試みがなされている。なかでも、ニッケル等の遷移金属
錯体は、色素の安定化効果が大きいため、数多く用いら
れてきた。
しかしながら、上記の遷移金属錯体は、一般に有機溶剤
に難溶であり、検布液調製時に析出したシ、有機色素中
に均一に分散せず、十分な色素安定化効果が得られない
といった問題があった。渣た、有機色素と遷移金属錯体
とを十分に溶解する溶剤は、ポリメチルメタクリレート
やポリカーボネート等の熱可塑性樹・脂に対する侵食性
が強いため、耐溶剤性の優れた下地膜の成膜といった前
処理工程が必要不可欠であり、使用する基板の種類の選
択や成膜コストに問題があった。
に難溶であり、検布液調製時に析出したシ、有機色素中
に均一に分散せず、十分な色素安定化効果が得られない
といった問題があった。渣た、有機色素と遷移金属錯体
とを十分に溶解する溶剤は、ポリメチルメタクリレート
やポリカーボネート等の熱可塑性樹・脂に対する侵食性
が強いため、耐溶剤性の優れた下地膜の成膜といった前
処理工程が必要不可欠であり、使用する基板の種類の選
択や成膜コストに問題があった。
そこで、本発明者らはこうした状況に鑑み、再生光に対
する安定性に優れ、かつ基板や成膜工程に対する問題の
少ない光記録媒体を提供すべく、鋭意検討した結果、式
（Ｉ）で表わされる有機色素が７０〜９９５重量係、好
１しくは８５〜９８重ｉ＝１と式（Ｉｌｌで表わされる
化合物が０．５〜３０重量憾、好１しくは２〜１５重量
係重量台で混合したものは、有機溶媒に対する溶解性に
優れ、これを記録材として透明基板上にｆＩｉ層した場
合には、再生光による劣化がほとんどなく、極めて優れ
た光記録媒体となることを見出し、本発明に到達した。
する安定性に優れ、かつ基板や成膜工程に対する問題の
少ない光記録媒体を提供すべく、鋭意検討した結果、式
（Ｉ）で表わされる有機色素が７０〜９９５重量係、好
１しくは８５〜９８重ｉ＝１と式（Ｉｌｌで表わされる
化合物が０．５〜３０重量憾、好１しくは２〜１５重量
係重量台で混合したものは、有機溶媒に対する溶解性に
優れ、これを記録材として透明基板上にｆＩｉ層した場
合には、再生光による劣化がほとんどなく、極めて優れ
た光記録媒体となることを見出し、本発明に到達した。
但し、式中のＲ７は炭素数１〜６のアｌレキル基、アリ
ル基、アラルキル基、又はフェニル基、ＣＲ２は水素原
子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、フェニ
ル基、アワルキル基、μ基）〕、 Ｘは、バークロレート、フルオロボレート、アイオダイ
ド、クロライド、ブロマイド、ｐ−トルエンスルフォネ
ート Ｙは、不飽和結合を有する炭素数２〜２０の官能基、又
は炭素数１〜５の飽和炭化水素、２は、水素原子、ハロ
ゲン原子、炭素数１〜１８のアμキ／Ｌ／基、アリル基
、ニトロ基、ヒトロキＶＩＶ基、カルボ’ｆシＩＬ／基
、− ｏ Ｏ Ｆ，、− ０ ８ Ｆ３、−Ｒ，ＯＨ
、 −Ｒ４００Ｈ １−Ｒ４０００Ｈ 、 −Ｒ，
ＯＲ，、−Ｒ４００Ｒ６、−Ｒ４０００Ｒ５、−〇ＯＲ
，，、−ｃｏｏＲ６、のアμキノ’基、１％；炭素数１
〜１８のアルキル基）又はインドールを構成するベンゼ
ン環Ｋ 付加されるベンゼン環、 ｍは１〜４の整数、 ｎは０又は１，２の整数 を示す。
ル基、アラルキル基、又はフェニル基、ＣＲ２は水素原
子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、フェニ
ル基、アワルキル基、μ基）〕、 Ｘは、バークロレート、フルオロボレート、アイオダイ
ド、クロライド、ブロマイド、ｐ−トルエンスルフォネ
ート Ｙは、不飽和結合を有する炭素数２〜２０の官能基、又
は炭素数１〜５の飽和炭化水素、２は、水素原子、ハロ
ゲン原子、炭素数１〜１８のアμキ／Ｌ／基、アリル基
、ニトロ基、ヒトロキＶＩＶ基、カルボ’ｆシＩＬ／基
、− ｏ Ｏ Ｆ，、− ０ ８ Ｆ３、−Ｒ，ＯＨ
、 −Ｒ４００Ｈ １−Ｒ４０００Ｈ 、 −Ｒ，
ＯＲ，、−Ｒ４００Ｒ６、−Ｒ４０００Ｒ５、−〇ＯＲ
，，、−ｃｏｏＲ６、のアμキノ’基、１％；炭素数１
〜１８のアルキル基）又はインドールを構成するベンゼ
ン環Ｋ 付加されるベンゼン環、 ｍは１〜４の整数、 ｎは０又は１，２の整数 を示す。
本発明の記録材の組成割合は、上述の通シであるが、式
（Ｕ）で表わされる化合物の割合が０５重量係未満の場
合には、再生光による劣化が観察され、６０重量係を超
える場合には、十分な反射率を有する媒体が得られない
。なか、有機色素は１種を単独で用いても、２種以上を
混合して用いてもよい。
（Ｕ）で表わされる化合物の割合が０５重量係未満の場
合には、再生光による劣化が観察され、６０重量係を超
える場合には、十分な反射率を有する媒体が得られない
。なか、有機色素は１種を単独で用いても、２種以上を
混合して用いてもよい。
上記の記録材を透明基板上に成膜する方法としては、回
転塗布法がコスト的に最も有利であシ好曾しい。
転塗布法がコスト的に最も有利であシ好曾しい。
塗布に使用する溶媒としては、式（１＞の有機色素と式
（ＩＩ）の化合物の両方が可溶であることが必要な条件
である。この条件を満たす溶媒としては、アセトン、メ
チμエチｐケトン、ジクロルエタン、アセトニトリル、
Ｎ，Ｎ−ジメチμホｐムアミド等の極性の強い溶媒が挙
げられるが、これらの極性溶媒は基板材料として多用さ
れる透明熱可塑性樹脂に対しても良溶媒であるため、塗
布液を直接これらの樹脂基板上に適用した場合には、基
板表面が侵食され、良好な光記録媒体が得られない。
（ＩＩ）の化合物の両方が可溶であることが必要な条件
である。この条件を満たす溶媒としては、アセトン、メ
チμエチｐケトン、ジクロルエタン、アセトニトリル、
Ｎ，Ｎ−ジメチμホｐムアミド等の極性の強い溶媒が挙
げられるが、これらの極性溶媒は基板材料として多用さ
れる透明熱可塑性樹脂に対しても良溶媒であるため、塗
布液を直接これらの樹脂基板上に適用した場合には、基
板表面が侵食され、良好な光記録媒体が得られない。
本発明者らの検討によると、光記録媒体の基板として最
も多く使用されているが耐溶剤性の低いメタクリル樹脂
やポリカーボネート樹脂等の透明樹脂、特にその射出成
型基板に適ヰした溶ＲとしてＮ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミド（以下、ＤＭＦと略す）と炭素数ｊ〜７のアルキル
アμコーμとの混合溶媒が、特異的に本発明の記録材を
十分に溶解し、溶液の保存安定性も良好で、かつ基板を
侵さずに塗布できることが見出された。
も多く使用されているが耐溶剤性の低いメタクリル樹脂
やポリカーボネート樹脂等の透明樹脂、特にその射出成
型基板に適ヰした溶ＲとしてＮ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミド（以下、ＤＭＦと略す）と炭素数ｊ〜７のアルキル
アμコーμとの混合溶媒が、特異的に本発明の記録材を
十分に溶解し、溶液の保存安定性も良好で、かつ基板を
侵さずに塗布できることが見出された。
炭素数１〜７のアルキルアｐコールとしてはメタノール
、エタノ−Ａ／、 １−プロパノ−μ、２−プロパノ
−μ、１−ブタノール、２−ブタノール、２−メチル−
１−プロパツール、１−ペンタノ−μ、２−ペンタノー
ル、１−へキサノー／ｌ／、１−ヘプタツール等を挙げ
ることができ、これらは１種を単独で用いても、２種以
上を混合して用いてもよい。炭素数が８以上のアμキル
アμコールや水酸基価２以上のアμコール、環状炭化水
素を有するアμコーμは蒸発速度が遅く、またアルコ−
ｐ併用による色素の溶解性低下が大きいため、本発明の
目的に適さない。
、エタノ−Ａ／、 １−プロパノ−μ、２−プロパノ
−μ、１−ブタノール、２−ブタノール、２−メチル−
１−プロパツール、１−ペンタノ−μ、２−ペンタノー
ル、１−へキサノー／ｌ／、１−ヘプタツール等を挙げ
ることができ、これらは１種を単独で用いても、２種以
上を混合して用いてもよい。炭素数が８以上のアμキル
アμコールや水酸基価２以上のアμコール、環状炭化水
素を有するアμコーμは蒸発速度が遅く、またアルコ−
ｐ併用による色素の溶解性低下が大きいため、本発明の
目的に適さない。
好ましい溶媒組成範囲はＤＭＦ ３〜８０容量１１ｉｌ
＆１〜７のアμキルアルコー＃９７〜２０容量幅であｐ
、ＤＭＦの割合が５容量幅未満では有機色素に対して十
分な溶解性が得られず、一方８０容量係を超えると熱可
塑性樹脂基板への侵食性が大きくなる。なか、同じ材質
の基板であっても、その成形方法により耐溶剤性が異な
るため、その基板に適当な溶媒組成を選択する必要があ
る。
＆１〜７のアμキルアルコー＃９７〜２０容量幅であｐ
、ＤＭＦの割合が５容量幅未満では有機色素に対して十
分な溶解性が得られず、一方８０容量係を超えると熱可
塑性樹脂基板への侵食性が大きくなる。なか、同じ材質
の基板であっても、その成形方法により耐溶剤性が異な
るため、その基板に適当な溶媒組成を選択する必要があ
る。
咬た、塗布液の固形分濃度は、得られる光記録媒体の記
録層の膜厚に影響を与えるため、１０〜５０ｑ／αが最
適である。固形分濃度が１Ｑη／ＣＣ未満の場合は、塗
布後の膜厚が不足するため、光記録媒体の反射率が低く
なり、逆に５０ｍｇ ／ ｃｃを超える場合には、膜厚
が厚くなりすぎ、記録感度が低下し、実用に適さなくな
る傾向になる。
録層の膜厚に影響を与えるため、１０〜５０ｑ／αが最
適である。固形分濃度が１Ｑη／ＣＣ未満の場合は、塗
布後の膜厚が不足するため、光記録媒体の反射率が低く
なり、逆に５０ｍｇ ／ ｃｃを超える場合には、膜厚
が厚くなりすぎ、記録感度が低下し、実用に適さなくな
る傾向になる。
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
な訃、実施例に卦ける成膜は、ミカサ社製、ＩＩ（−３
６０８型回転塗布器を用いて、下記の条件で行なった。
６０８型回転塗布器を用いて、下記の条件で行なった。
滴下時回転数 ５００ ｒｐｍ
滴下時間 ５秒
滴下量 ０７−
振切回転数 １５００ ｒｐｍ
振切時間 １２０秒
基板 １３０φ、１，２ｔグｐ
ブ※付射出成型基板
※ピッチ１．６μ、ラン
ド幅０，９μ、グル−
プ幅０７μ
また、サンプｐの評価はＯ／Ｎ比と反射率について、下
記の条件で、それぞれ初期値と同一トラックの１００万
回連続再生後の値を測定し、その連続再生による変化か
ら、再生劣化特性の見積りを行なった。
記の条件で、それぞれ初期値と同一トラックの１００万
回連続再生後の値を測定し、その連続再生による変化か
ら、再生劣化特性の見積りを行なった。
（１） Ｏ／ Ｎ比
線速 ６ｍ／Ｉｌ］
記録周波数 Ｉ ＭＨｚ
ヌペアナ分解能 ３０ ＫＩ（Ｚ
記録方式 ランド記録
（２）反射率
線速 ６ ｍ／ ｓ
評価方式 未記録トラック評価
（ランド部）
なか、評価装置はナカミチ社製、○Ｍｅ−１０００を用
い、データ読み取り時及び連続再生時の再生レーザーパ
ワーは、全てｏ、ｓｍｗ（媒体面）で行なった。
い、データ読み取り時及び連続再生時の再生レーザーパ
ワーは、全てｏ、ｓｍｗ（媒体面）で行なった。
実施例１
下記（１）式で表わされる有機色素と化合物（０）を９
５：５（重量比）で混合し、ＤＭＦ ２ ｅｌ容量係と
１−ブタノール８０容量係からなる溶媒に、濃度３０Ｉ
Ｉｖ／ｃｃとなるように溶解させて得た塗重液を用い、
前記条件でポリカーボネート製基板上に成膜したのち評
価した。初期性能はＯ／Ｎ比５８ｄＢ、 反射率２４
憾であり、１００万回連続再生後はＯ／ Ｎ比５８ ｄ
Ｂ、反射率２３憾であった。
５：５（重量比）で混合し、ＤＭＦ ２ ｅｌ容量係と
１−ブタノール８０容量係からなる溶媒に、濃度３０Ｉ
Ｉｖ／ｃｃとなるように溶解させて得た塗重液を用い、
前記条件でポリカーボネート製基板上に成膜したのち評
価した。初期性能はＯ／Ｎ比５８ｄＢ、 反射率２４
憾であり、１００万回連続再生後はＯ／ Ｎ比５８ ｄ
Ｂ、反射率２３憾であった。
実施例２
下記（２）式で表わされる有機色素と化合物（Ｉｔ）を
９０：１０（重量比）で混合し、ＤＭＦ１５容量係、エ
タノ−／ｉ／４０容量係及容量−ブタノール４５容量係
からなる溶媒に、濃度２５η／ＣＣとなるように溶解さ
せて得た塗布液を用い、前記条件でポリメチルメタクリ
レート製基板上に成膜したのち評価した。初期性能はＯ
／Ｎ比５７ｄＢ、 反射率３４憾であり、１００万回
連続再生後も同じ値であった。
９０：１０（重量比）で混合し、ＤＭＦ１５容量係、エ
タノ−／ｉ／４０容量係及容量−ブタノール４５容量係
からなる溶媒に、濃度２５η／ＣＣとなるように溶解さ
せて得た塗布液を用い、前記条件でポリメチルメタクリ
レート製基板上に成膜したのち評価した。初期性能はＯ
／Ｎ比５７ｄＢ、 反射率３４憾であり、１００万回
連続再生後も同じ値であった。
ＣＨ２０Ｈ−ＣＨ２ＣＨ２０Ｈ＝ＣＨ２実施例５
下記（３）式で表わされる有機色素と化合物（Ｉｌ）を
８５：１５（重量比）で混合し、ＤＭＦ２５容量係、１
−ブタノ−／１１５０容量係及び１−ペンタノ−Ｉｖ２
５容量係からなる溶媒に、濃度２５ｘｑ／ｃｘ、となる
ように溶解させて得た塗布液を用い、前記条件でポリカ
ーボネート製基板上に成膜したのち評価した。初期性能
はａ ／ Ｎ比５９（ｉＢ、反射率３０係であり、１０
０万回連続再生後も同じ値であった。
８５：１５（重量比）で混合し、ＤＭＦ２５容量係、１
−ブタノ−／１１５０容量係及び１−ペンタノ−Ｉｖ２
５容量係からなる溶媒に、濃度２５ｘｑ／ｃｘ、となる
ように溶解させて得た塗布液を用い、前記条件でポリカ
ーボネート製基板上に成膜したのち評価した。初期性能
はａ ／ Ｎ比５９（ｉＢ、反射率３０係であり、１０
０万回連続再生後も同じ値であった。
ａ ｕ２ａ ａ−ａ Ｈ２ＣＨ２Ｃｉ Ｉ（−ＯＨ２比
較例１ 実施例１で用いた式（１）の有機色素を、ＤＭＦ２０容
量憾と１−ブタノ−／Ｌ’８０容量係からなる溶媒に、
濃度３ｏｑ／ｃｃとなるように溶解させて得た塗布液を
用い、前記条件でポリカーボネート製基板上に成膜した
のち評価した。初期性能はＯ／Ｎ比５８ｄＢ、 反射
率２４４だったが、１００万回連続再生後はＯ／Ｎ比５
０ ｄＢ、反射率１６憾甘で低下した。
較例１ 実施例１で用いた式（１）の有機色素を、ＤＭＦ２０容
量憾と１−ブタノ−／Ｌ’８０容量係からなる溶媒に、
濃度３ｏｑ／ｃｃとなるように溶解させて得た塗布液を
用い、前記条件でポリカーボネート製基板上に成膜した
のち評価した。初期性能はＯ／Ｎ比５８ｄＢ、 反射
率２４４だったが、１００万回連続再生後はＯ／Ｎ比５
０ ｄＢ、反射率１６憾甘で低下した。
比較例？
式（１）の有機色素と下記（４）式で表わされる化合物
を９８：２（重量比）で混合し、ＤＭＦ２０容′Ｉｋ４
と１−ブタノール８０容量係からなる溶媒に、濃度３０
１Ｉ９／ｃｃとなるように溶解させて得た塗布液を用い
、前記条件でポリカーボネート製基板上に成膜したのち
評価した。初期性能はＯ／Ｎ比５８ａＢ、 反射率２
４憾だったが、１００万回連続再生後はＯ／Ｎ比５０ｄ
Ｂ、 反射率１６係まで低下した。
を９８：２（重量比）で混合し、ＤＭＦ２０容′Ｉｋ４
と１−ブタノール８０容量係からなる溶媒に、濃度３０
１Ｉ９／ｃｃとなるように溶解させて得た塗布液を用い
、前記条件でポリカーボネート製基板上に成膜したのち
評価した。初期性能はＯ／Ｎ比５８ａＢ、 反射率２
４憾だったが、１００万回連続再生後はＯ／Ｎ比５０ｄ
Ｂ、 反射率１６係まで低下した。
比較例３
式（１）の有機色素と式（４）の化合物を９０：１０（
重量比）で混合し、ＤＭＦ２５容量係と１ブタノール７
５容量憾からなる溶媒に、濃度３０■／ＣＣとなるよう
に溶解させて塗布液を調整しようとしたが、式（４）の
化合物の溶解性不足のため溶けきらず成膜不能だった。
重量比）で混合し、ＤＭＦ２５容量係と１ブタノール７
５容量憾からなる溶媒に、濃度３０■／ＣＣとなるよう
に溶解させて塗布液を調整しようとしたが、式（４）の
化合物の溶解性不足のため溶けきらず成膜不能だった。
比較例４
式（１）の有機色素と式（４）の化合物を９０：１０（
重量比）で混合し、メチルエチルケトンに濃度ｓｏｎｇ
／ｌｘとなるように溶解させて得た塗布液を用い、前記
条件でポリカーボネート製基板上に成膜したところ、基
板表面が侵食されてグμｍブが消失し、評価不能となっ
た。
重量比）で混合し、メチルエチルケトンに濃度ｓｏｎｇ
／ｌｘとなるように溶解させて得た塗布液を用い、前記
条件でポリカーボネート製基板上に成膜したところ、基
板表面が侵食されてグμｍブが消失し、評価不能となっ
た。
比較例５
式（１）の有機色素と化合物（Ｕ）を９９．８ ： ０
．２（重量比）で混合し、ＤＭＦ２０容量係と１−ブタ
ノール８０容量係からなる溶媒に、濃度ｓａｑ／ｃｔと
なるように溶解させて得た塗布液を用い、前記条件でポ
リカーボネート製基板上に成膜したのち評価した。初期
性能ばＯ／Ｎ比５８ （ｉＢ、反射率２４憾であったが
、１００万回連続再生後はＯ／Ｎ比５２ｔｌＢ、 反
射率１８憾１で低下した。
．２（重量比）で混合し、ＤＭＦ２０容量係と１−ブタ
ノール８０容量係からなる溶媒に、濃度ｓａｑ／ｃｔと
なるように溶解させて得た塗布液を用い、前記条件でポ
リカーボネート製基板上に成膜したのち評価した。初期
性能ばＯ／Ｎ比５８ （ｉＢ、反射率２４憾であったが
、１００万回連続再生後はＯ／Ｎ比５２ｔｌＢ、 反
射率１８憾１で低下した。
比較例６
式（１）の有機色素と化合物（［Ｉ）を６０：４０（重
量比）で混合し、ＤＭＦ２０容量係と１−ブタノ−＃８
０容量憾からなる溶媒に、濃度３０ｑ／ＣＣとなるよう
に溶解させて得た塗布液を用い、前記条件でポリカーボ
ネート製基板上に成膜したのち評価した。初期性能、１
００万回連続再生後ともにａ ／ Ｎ比４２ｄＢ、
反射率１３憾であった。
量比）で混合し、ＤＭＦ２０容量係と１−ブタノ−＃８
０容量憾からなる溶媒に、濃度３０ｑ／ＣＣとなるよう
に溶解させて得た塗布液を用い、前記条件でポリカーボ
ネート製基板上に成膜したのち評価した。初期性能、１
００万回連続再生後ともにａ ／ Ｎ比４２ｄＢ、
反射率１３憾であった。
本発明の光記録媒体は、良好な記録再生特性を維持しつ
つ再生光に対する安定性に優れ、かつ基板や成膜工程に
対する問題なく製造できるため、 工業上優れた効果を有する。
つ再生光に対する安定性に優れ、かつ基板や成膜工程に
対する問題なく製造できるため、 工業上優れた効果を有する。
Claims (1)
- （１）透明基板上に、式（ I ）で表わされる有機色素
７０〜９９．５重量％と式（II）で表わされる化合物０
．５〜３０重量％からなる記録材が積層されてなる光記
録謀体。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 但し、式中のＲ＿１は炭素数１〜６のアルキル基、アリ
ル基、アラルキル基、又はフエニル基 Ａは▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
、表等があります▼ 〔Ｒ＿２は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のア
ルキル基、フエニル基、アラルキル基、アリル基、▲数
式、化学式、表等があります▼（Ｐｈ；フェニル基）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｒ＿３；炭素数１
〜６のアルキ ル基）〕、 Ｘは、パークロレート、フルオロポレート、アイオダイ
ド、クロライド、ブロマイド、ｐ−トルエンスルフオネ
ートから選ばれる陰イオン、 Ｙは、不飽和結合を有する炭素数２〜２０ の官能基、又は炭素数１〜５の飽和炭化水素、Ｚは、水
素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１８のアルキル基、
アリル基、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基
、−ＯＣＦ＿３、−ＯＳＦ＿３、−Ｒ＿４ＯＨ、−Ｒ＿
４ＯＨ、−Ｒ＿４ＣＯＯＨ、−Ｒ＿４ＯＲ＿５、−Ｒ＿
４ＣＯＲ＿５、−Ｒ＿４ＣＯＯＲ＿５、−ＣＯＲ＿５、
−ＣＯＯＲ＿５、▲数式、化学式、表等があります▼、
−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＮ、−ＮＨ＿２Ｎ（Ｒ＿５）＿２、−
ＮＨＣＯＣＨ＿３、▲数式、化学式、表等があります▼
（Ｒ＿４；炭素数１〜２０のアルキル基、Ｒ＿５；炭素
数１〜１８のアルキル基）又はインドールを構成するベ
ンゼン環に付加されるベンゼン環、 ｍは１〜４の整数、 ｎは０又は１、２の整数 を示す。 ▲数式、化学式、表等があります▼（II）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1181559A JPH0345384A (ja) | 1989-07-13 | 1989-07-13 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1181559A JPH0345384A (ja) | 1989-07-13 | 1989-07-13 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0345384A true JPH0345384A (ja) | 1991-02-26 |
Family
ID=16102909
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1181559A Pending JPH0345384A (ja) | 1989-07-13 | 1989-07-13 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0345384A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0860821A3 (en) * | 1997-02-24 | 1999-09-29 | Fuji Electric Co., Ltd. | Optical recording medium |
| US8137894B2 (en) | 2005-02-22 | 2012-03-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Storage medium, reproducing method, and recording method |
-
1989
- 1989-07-13 JP JP1181559A patent/JPH0345384A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0860821A3 (en) * | 1997-02-24 | 1999-09-29 | Fuji Electric Co., Ltd. | Optical recording medium |
| US8137894B2 (en) | 2005-02-22 | 2012-03-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Storage medium, reproducing method, and recording method |
| US8531936B2 (en) | 2005-02-22 | 2013-09-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Storage medium, reproducing method, and recording method |
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