JPH0345414Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0345414Y2 JPH0345414Y2 JP19688886U JP19688886U JPH0345414Y2 JP H0345414 Y2 JPH0345414 Y2 JP H0345414Y2 JP 19688886 U JP19688886 U JP 19688886U JP 19688886 U JP19688886 U JP 19688886U JP H0345414 Y2 JPH0345414 Y2 JP H0345414Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reservoir
- heater
- liquid metal
- support rod
- ion source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 4
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 15
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 4
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
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- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の使用分野〕
本考案は、イオンビーム装置に用いられる液体
金属イオン源の構造に関する。
金属イオン源の構造に関する。
本考案は、液体金属イオン源を加熱する際、安
定的に効率よく加熱し、加熱温度を保持するとと
もに、イオン発生点の変位を最少限におさえるこ
とを目的とした液体金属イオン源の構造におい
て、リザーバーの外周に、コイル状ヒーターを無
誘導巻きにして、リザーバー附近に磁場の発生す
る事なく傍熱し、又リザーバーを囲むようにして
反射板を設ける事により、放射熱を反射熱として
利用し、温度の安定化をはかると共に、リザーバ
ーを支持棒にて固定する事により、イオン発生点
の安定をはかるようにした。
定的に効率よく加熱し、加熱温度を保持するとと
もに、イオン発生点の変位を最少限におさえるこ
とを目的とした液体金属イオン源の構造におい
て、リザーバーの外周に、コイル状ヒーターを無
誘導巻きにして、リザーバー附近に磁場の発生す
る事なく傍熱し、又リザーバーを囲むようにして
反射板を設ける事により、放射熱を反射熱として
利用し、温度の安定化をはかると共に、リザーバ
ーを支持棒にて固定する事により、イオン発生点
の安定をはかるようにした。
従来から用いられている液体金属イオン源は、
第２図、第３図に示すように、リザーバー２をヒ
ーター４で支持し、リザーバー自身の発熱およ
び、ヒーター４からの熱伝導によつて液体金属イ
オン源を加熱するものや、ヒーターに液体金属を
付着させ、直接加熱するものがある。
第２図、第３図に示すように、リザーバー２をヒ
ーター４で支持し、リザーバー自身の発熱およ
び、ヒーター４からの熱伝導によつて液体金属イ
オン源を加熱するものや、ヒーターに液体金属を
付着させ、直接加熱するものがある。
しかし、従来の構造ではリザーバーおよびニー
ドルが、ヒーターによつて支持されているため、
ヒーターの発熱による形状変化がそのままイオン
発生点の変位となつて表れるため、微細加工にお
いては致命的欠点を持つていた。又ヒーターを伝
わつて液体金属が電極に付着し、腐食されてしま
い、長時間安定して使用することは不可能であつ
た。
ドルが、ヒーターによつて支持されているため、
ヒーターの発熱による形状変化がそのままイオン
発生点の変位となつて表れるため、微細加工にお
いては致命的欠点を持つていた。又ヒーターを伝
わつて液体金属が電極に付着し、腐食されてしま
い、長時間安定して使用することは不可能であつ
た。
上記問題点を解決するために、本考案は、リザ
ーバーを支持棒で保持し、リザーバーをコイル状
ヒーターで無誘導巻にして、リザーバー近傍の磁
場発生を防ぎ、併せてリザーバーを傍熱し、又反
射板を設ける事により、加熱温度の安定性と、イ
オン発生点の安定化をはかつた。
ーバーを支持棒で保持し、リザーバーをコイル状
ヒーターで無誘導巻にして、リザーバー近傍の磁
場発生を防ぎ、併せてリザーバーを傍熱し、又反
射板を設ける事により、加熱温度の安定性と、イ
オン発生点の安定化をはかつた。
上記のような構造により、リザーバー外周をコ
イル状ヒーターで無誘導巻きする事により、リザ
ーバー付近で磁場の発生をなくし、イオンビーム
への影響をなくし、又リザーバーとヒーターを分
離し、支持棒にて保持する事により、イオン発生
点の安定性をはかるようにした。
イル状ヒーターで無誘導巻きする事により、リザ
ーバー付近で磁場の発生をなくし、イオンビーム
への影響をなくし、又リザーバーとヒーターを分
離し、支持棒にて保持する事により、イオン発生
点の安定性をはかるようにした。
以下この考案の実施例を図面に基づいて説明す
る、第１図において、ニードル１を有するリザー
バー２は、支持棒５によつて碍子７に直接固定さ
れているヒーター４は無誘導巻きに加工され、電
極６に抵抗溶接されている。リフレクター３は、
リザーバー２の先端に取付けられ、ヒーター熱を
効率良くリザーバー２へ伝え、傍熱タイプである
が直熱形と同等のヒーターパワーでリザーバー２
を加熱する事が出来る。又コイル状ヒーター４は
無誘導巻きに加工されており、イオンビームに悪
影響をおよぼす磁場の発生を防いでいる。
る、第１図において、ニードル１を有するリザー
バー２は、支持棒５によつて碍子７に直接固定さ
れているヒーター４は無誘導巻きに加工され、電
極６に抵抗溶接されている。リフレクター３は、
リザーバー２の先端に取付けられ、ヒーター熱を
効率良くリザーバー２へ伝え、傍熱タイプである
が直熱形と同等のヒーターパワーでリザーバー２
を加熱する事が出来る。又コイル状ヒーター４は
無誘導巻きに加工されており、イオンビームに悪
影響をおよぼす磁場の発生を防いでいる。
この考案は以上説明したように、傍熱ヒーター
が無誘導巻きであるために、ヒーター通電による
磁場の発生がなく、そのためイオン、ビームに影
響を与えない。又ヒーターと液体金属が接してい
ないため、液体金属がヒーターを伝わつて電極を
腐食することを防ぐ事が出来、リザーバーが支持
棒で支えられているため、又リフレクターを有し
ているため、リザーバーの加熱効率が良く温度変
化が小さいため、イオン発生点の熱変位が小さく
微細加工に適している。
が無誘導巻きであるために、ヒーター通電による
磁場の発生がなく、そのためイオン、ビームに影
響を与えない。又ヒーターと液体金属が接してい
ないため、液体金属がヒーターを伝わつて電極を
腐食することを防ぐ事が出来、リザーバーが支持
棒で支えられているため、又リフレクターを有し
ているため、リザーバーの加熱効率が良く温度変
化が小さいため、イオン発生点の熱変位が小さく
微細加工に適している。
第１図は本考案にかかる断面図、第２図、第３
図は従来の液体金属イオン源の構造図である。 １…ニードルー（イオン発生点）、２…リザー
バー、３…リフレクター、４…ヒーター（無誘導
巻き）、５…支持棒、６…電極、７…碍子。
図は従来の液体金属イオン源の構造図である。 １…ニードルー（イオン発生点）、２…リザー
バー、３…リフレクター、４…ヒーター（無誘導
巻き）、５…支持棒、６…電極、７…碍子。
Claims (1)
- イオンビーム装置に用いられる液体金属イオン
源において、碍子に固着された支持棒と、前記支
持棒の先端に固定されているリザーバーと、前記
リザーバーの外周に、前記リザーバーと隙間を持
つて配設されている無誘導巻きのコイル状ヒータ
ーとから構成されている事を特徴とする液体金属
イオン源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19688886U JPH0345414Y2 (ja) | 1986-12-22 | 1986-12-22 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19688886U JPH0345414Y2 (ja) | 1986-12-22 | 1986-12-22 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63101452U JPS63101452U (ja) | 1988-07-01 |
| JPH0345414Y2 true JPH0345414Y2 (ja) | 1991-09-25 |
Family
ID=31156105
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19688886U Expired JPH0345414Y2 (ja) | 1986-12-22 | 1986-12-22 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0345414Y2 (ja) |
-
1986
- 1986-12-22 JP JP19688886U patent/JPH0345414Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63101452U (ja) | 1988-07-01 |
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