JPH0345956U - - Google Patents

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JPH0345956U
JPH0345956U JP10423289U JP10423289U JPH0345956U JP H0345956 U JPH0345956 U JP H0345956U JP 10423289 U JP10423289 U JP 10423289U JP 10423289 U JP10423289 U JP 10423289U JP H0345956 U JPH0345956 U JP H0345956U
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JP
Japan
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substrate
thin plate
holding means
substrate holding
gas supply
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JP10423289U
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Description

【図面の簡単な説明】
図面は、本考案に係る金属酸化薄膜形成装置の
実施例を示し、第１図は第１実施例の縦断面図、
第２図は第２実施例の縦断面図、第３図は第３実
施例の縦断面図、第４図は第４実施例の縦断面図
、第５図は第５実施例の縦断面図である。 １……処理室、２……薄板状基板、３……基板
保持手段としてのホツトプレート、６……材料ガ
ス供給手段としての材料ガス供給管、１０……オ
ゾンガス供給手段としてのオゾン供給管、１５…
…紫外線照射手段としての紫外線ランプ、２１…
…基板保持手段としてのベルトコンベア、２２…
…加熱手段としてのヒータ、３１……基板保持手
段としての支持プレート、３２……加熱手段とし
てのヒータ、４１……基板保持手段としてのホツ
トプレート、５１……基板保持手段としての吸着
盤、Ａ……材料ガス供給手段、Ｂ……オゾンガス
供給手段。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 処理室内に搬入された薄板状基板を保持する基
    板保持手段と、 前記基板保持手段に保持された前記薄板状基板
    を所定温度に加熱する加熱手段と、 前記基板保持手段に保持された前記薄板状基板
    に金属アルコキシド化合物のガスを供給する材料
    ガス供給手段と、 前記薄板状基板にオゾンガスを供給するオゾン
    ガス供給手段と、 前記基板保持手段に保持された前記薄板状基板
    に紫外線を照射する紫外線照射手段と、 を備えたことを特徴とする金属酸化薄膜形成装置
    。
JP10423289U 1989-09-05 1989-09-05 Pending JPH0345956U (ja)

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JPH0345956U true JPH0345956U (ja) 1991-04-26

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008075179A (ja) * 2006-09-19 2008-04-03 Asm Japan Kk Ｕｖ照射チャンバーをクリーニングする方法

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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