JPH0347962A - 薄膜形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、スパッタリング法を用いた薄膜形成装置に
係り、特に、試料表面の広い範囲に均一な膜厚分布を得
るのに適し７た研究開発用薄膜形成装置に関する。

〔従来の技術〕

この種の研究開発用薄膜形成装置として、従来、第５図
にその基本構成例を示すように、真空容器に固定された
複数の、ここでは２個の対向電極にそれぞれ載置された
ターゲット４１．４２の前面を試料３が軌道９に沿って
移動し、試料３の表面に薄膜を堆積形成するものが知ら
れている。試料を移動させるのは移動方向に厚さの均一
な膜を形成するためである。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかし、このような薄膜形成装置における均一な成膜範
囲はおもにターゲットサイズにより決定されるため、試
料面の広範囲に均一な薄膜を形成するのに、試料よりも
はるかに大きいターゲットを必要とする。例えば試料が
６インチ径のウェハとすると約１２インチ径のターゲッ
トを必要とする。

また、研究開発用の薄膜形成装置の場合には、試料の大
きさが一定であるとは限らない。このため、あらかじめ
最大試料サイズを想定してターゲットおよびターゲット
が載置されるターゲット電極系を準備していた。従って
、通常使用する。より小さい試料サイズの場合にも不必
要に大きいターゲットを使用することとなっていた。こ
のためターゲツト材として白金のような貴金属を用いる
場合には、装置運用に伴う経済面の問題を生ずるととも
に、ターゲット電極系が相当な重量物となり、ターゲッ
ト電極を移動する場合には、クレーン作業や作業員２Å
以上の作業となり、膨大な費用と時間を必要としていた
。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）真空容器内に導入されたガスを、該真空容器内で所
   定の軌道に沿って移動する試料電極と該真空容器との相
   対位置が固定された対向電極との間の放電によりプラズ
   マ化し、該対向電極に載置されたターゲットをスパッタ
   リングし、前記試料電極に載置された試料表面に薄膜を
   形成する薄膜形成装置において、前記対向電極側の真空
   容器壁面に前記試料電極が移動する軌道の両側に跨がる
   長孔が形成されるとともに、前記ターゲットより大口径
   の孔が偏心位置に形成され該孔位置に対向電極が取り付
   けられる円板状の回転フランジと、該回転フランジを中
   心軸線まわりに回転可能に支承するとともに該回転フラ
   ンジの面に垂直方向に移動可能な移動台とを備えてなる
   ターゲット移動手段を備えたことを特徴とする薄膜形成
   装置。 ２）真空容器内に導入されたガスを、該真空容器内で所
   定の軌道に沿って移動する試料電極と該真空容器との相
   対位置が固定された対向電極との間の放電によりプラズ
   マ化し、該対向電極に載置されたターゲットをスパッタ
   リングし、前記試料電極に載置された試料表面に薄膜を
   形成する薄膜形成装置において、前記対向電極側の真空
   容器壁面に前記試料電極が移動する軌道の両側に跨がる
   丸孔が形成されるとともに、前記ターゲットより大口径
   の孔が偏心位置に形成され該孔位置に対向電極が取り付
   けられる円板状の回転フランジと、前記真空容器の丸孔
   をリング状に包囲して真空容器に取り付けられ前記回転
   フランジを中心軸線まわりに回転可能に支承するととも
   に該回転フランジと前記真空容器の丸孔まわりとの間を
   気密にシールする回転シール機構とを備えてなるターゲ
   ット移動手段を備えたことを特徴とする薄膜形成装置。