JPH0351789B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0351789B2 JPH0351789B2 JP58128884A JP12888483A JPH0351789B2 JP H0351789 B2 JPH0351789 B2 JP H0351789B2 JP 58128884 A JP58128884 A JP 58128884A JP 12888483 A JP12888483 A JP 12888483A JP H0351789 B2 JPH0351789 B2 JP H0351789B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- throttle valve
- evaporation
- vapor
- strip
- valves
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
- C23C14/044—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks using masks to redistribute rather than totally prevent coating, e.g. producing thickness gradient
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は連続真空蒸着装置の改良に関する。よ
り詳細にいえば、その内部に蒸発槽を配置した真
空容器からなり、そのなかに鋼帯などの帯状金属
材料を通過させて真空蒸着を行なうための改良さ
れた装置を提供するものである。
り詳細にいえば、その内部に蒸発槽を配置した真
空容器からなり、そのなかに鋼帯などの帯状金属
材料を通過させて真空蒸着を行なうための改良さ
れた装置を提供するものである。
従来この種の真空蒸着装置の代表的なものは、
概念図としての第１図に示されている。この装置
は帯状金属材料２が（紙面に垂直方向に）通過し
てゆくことのできる真空容器１とそのなかに配置
された蒸着材６の蒸発槽３からなつている。蒸発
槽３は加熱手段７で加熱される。通常蒸発槽の上
部は蒸気導路５となり、その終端は通過する帯状
金属に接近した位置で開口４となる。帯状金属材
料２が垂直に移動し、蒸気導路５がエルボー状に
90°湾曲して垂直に開口している形状のものもあ
り、また蒸発槽や蒸気導路の要所に断熱手段や加
熱手段を設けたものもある。
概念図としての第１図に示されている。この装置
は帯状金属材料２が（紙面に垂直方向に）通過し
てゆくことのできる真空容器１とそのなかに配置
された蒸着材６の蒸発槽３からなつている。蒸発
槽３は加熱手段７で加熱される。通常蒸発槽の上
部は蒸気導路５となり、その終端は通過する帯状
金属に接近した位置で開口４となる。帯状金属材
料２が垂直に移動し、蒸気導路５がエルボー状に
90°湾曲して垂直に開口している形状のものもあ
り、また蒸発槽や蒸気導路の要所に断熱手段や加
熱手段を設けたものもある。
このような装置で製造される蒸着めつき材は、
蒸着膜の幅方向における厚さの分布は均一でな
く、また意図した付着分布を得ることができな
い。
蒸着膜の幅方向における厚さの分布は均一でな
く、また意図した付着分布を得ることができな
い。
一般に、加熱される蒸着材より発生する蒸気は
それ自身の温度分布、従つて密度分布が不均一で
あり、また被蒸着基材の表面の温度分布も不均一
であるために、生成する蒸着皮膜の付着量分布を
一定にすることは困難である。均一な付着量、な
らびに意図する付着量分布を達成するためには、
発生した蒸気の密度分布を何らかの手段で制御す
る必要がある。
それ自身の温度分布、従つて密度分布が不均一で
あり、また被蒸着基材の表面の温度分布も不均一
であるために、生成する蒸着皮膜の付着量分布を
一定にすることは困難である。均一な付着量、な
らびに意図する付着量分布を達成するためには、
発生した蒸気の密度分布を何らかの手段で制御す
る必要がある。
上記の欠点に対処するために、蒸発口４の部分
に開口部を有するマスクを挿入固定することが行
なわれているが、帯状の被蒸着基材の幅を変更す
る場合、また付着量を変更する場合には、開口部
の大きさと形状の異なるマスクと交換しなければ
ならず、この場合には操業の連続性が阻害され
る。
に開口部を有するマスクを挿入固定することが行
なわれているが、帯状の被蒸着基材の幅を変更す
る場合、また付着量を変更する場合には、開口部
の大きさと形状の異なるマスクと交換しなければ
ならず、この場合には操業の連続性が阻害され
る。
種々の幅の被蒸着基材について、意図する付着
量分布を、操業の連続性を阻害することなく、自
由に達成することのできる装置は現在のところ知
られていない。
量分布を、操業の連続性を阻害することなく、自
由に達成することのできる装置は現在のところ知
られていない。
本発明は上記の事情に鑑みてなされたもので、
その目的は、均一もしくは意図する被蒸着基材の
付着量分布を操業の連続性を阻害することなく達
成することで、その目的は前記の従来の真空蒸着
装置の蒸発口に至る導路に蒸気流の可変阻止手段
を設けて、絞り効果による密度の変更ならびに撹
拌による密度分布の均一化を実現することによつ
て達成される。
その目的は、均一もしくは意図する被蒸着基材の
付着量分布を操業の連続性を阻害することなく達
成することで、その目的は前記の従来の真空蒸着
装置の蒸発口に至る導路に蒸気流の可変阻止手段
を設けて、絞り効果による密度の変更ならびに撹
拌による密度分布の均一化を実現することによつ
て達成される。
即ち、本発明によれば、帯状の被蒸着基材が通
過する真空容器内に蒸着材を入れた蒸発槽を配置
した真空蒸着装置において、蒸着材の蒸気が被蒸
着基材の表面に到達する道路中に、複数個の絞り
弁を設けたことを特徴とする真空蒸着装置が提供
される。
過する真空容器内に蒸着材を入れた蒸発槽を配置
した真空蒸着装置において、蒸着材の蒸気が被蒸
着基材の表面に到達する道路中に、複数個の絞り
弁を設けたことを特徴とする真空蒸着装置が提供
される。
本明細書において、使用される絞り弁という語
は蒸気導路の断面積を増減することのできる機構
を意味し観音開きの扉のような構造でもよいが、
長方形の回転板（以下スロツトル弁と称する）が
有利であり、一つまたは複数個設けられる。好ま
しい態様において、複数個の弁が上下に少なくと
も２段に配置され、必要により、上下の弁の回転
軸が直交する方向に配置される。
は蒸気導路の断面積を増減することのできる機構
を意味し観音開きの扉のような構造でもよいが、
長方形の回転板（以下スロツトル弁と称する）が
有利であり、一つまたは複数個設けられる。好ま
しい態様において、複数個の弁が上下に少なくと
も２段に配置され、必要により、上下の弁の回転
軸が直交する方向に配置される。
次に本発明を図面を参照してその好適実施態様
について説明する。
について説明する。
第２図は、本発明の一実施態様の概念を示す断
面図である。
面図である。
この装置の一般構造は先に第１図について説明
したところと同様である。
したところと同様である。
本装置では蒸着材蒸気の導路５内に複数個のス
ロツトル弁８が１段設けられている。本装置でた
とえば、被蒸着基材の板幅中央部の蒸着材の付着
量が少ない場合には中央部のスロツトル弁の開度
を大きくし、蒸着材の通過量を多くすれば付着量
の均一化がはかられる。この場合、蒸気はスロツ
トル弁で反射されるために、当然、蒸気密度の均
一化効果もある。
ロツトル弁８が１段設けられている。本装置でた
とえば、被蒸着基材の板幅中央部の蒸着材の付着
量が少ない場合には中央部のスロツトル弁の開度
を大きくし、蒸着材の通過量を多くすれば付着量
の均一化がはかられる。この場合、蒸気はスロツ
トル弁で反射されるために、当然、蒸気密度の均
一化効果もある。
図では弁は左右対称均等に設けられているが、
特殊な蒸着材付着量の分布を意図するときは、非
対称、不均一に設けてもよい。
特殊な蒸着材付着量の分布を意図するときは、非
対称、不均一に設けてもよい。
第２図では４個のスロツトル弁８が１段に設け
られているが、この４個のスロツトル弁８の回転
軸は外部から操作でき、各スロツトル弁８の開度
を加減することによつて所望の付着量分布を得る
ことができる。複数の弁の開度の加減は経験的
に、また簡単な予備試験によつて決定できる。
られているが、この４個のスロツトル弁８の回転
軸は外部から操作でき、各スロツトル弁８の開度
を加減することによつて所望の付着量分布を得る
ことができる。複数の弁の開度の加減は経験的
に、また簡単な予備試験によつて決定できる。
以上述べたスロツトル弁８の数は多いことが好
ましいが、蒸着材蒸気の導路５内の大きさの点か
ら、取付可能なスロツトル弁８の数にはおのずか
ら制約がある。このため、第３図の実施態様に示
すように、複数段のスロツトル弁８を設けること
が好ましい。
ましいが、蒸着材蒸気の導路５内の大きさの点か
ら、取付可能なスロツトル弁８の数にはおのずか
ら制約がある。このため、第３図の実施態様に示
すように、複数段のスロツトル弁８を設けること
が好ましい。
第４図は本発明の別の実施態様の概念を示す断
面図である。
面図である。
この実施態様は、蒸発槽３の蒸気導路部５が
90°湾曲していて蒸発口４が垂直に開口しており、
帯状被蒸着基材２が垂直に通過する。
90°湾曲していて蒸発口４が垂直に開口しており、
帯状被蒸着基材２が垂直に通過する。
また、スロツトル弁８，９，１０が３段に設け
られており、そのうち下流側２段の弁９，１０
は、一部が図面の紙面に垂直の軸の回りに回転
し、一部が図面の紙面に平行の軸の回りに回転す
る。
られており、そのうち下流側２段の弁９，１０
は、一部が図面の紙面に垂直の軸の回りに回転
し、一部が図面の紙面に平行の軸の回りに回転す
る。
このような配置により、一層均一な、また一層
微妙な付着量分布を達成することができる。
微妙な付着量分布を達成することができる。
第１図は従来の真空蒸着装置の概念を示す断面
図である。第２図は本発明の一実施態様の概念を
示す断面図である。第３図は本発明の別の実施態
様の概念を示す断面図である。第４図は本発明の
さらに別の実施態様の概念を示す断面図である。 これらの図面において、１：真空容器、２：帯
状の被蒸着基材、３：蒸発槽、４：蒸発槽開口、
５：蒸気導路、８，９，１０：絞り弁。
図である。第２図は本発明の一実施態様の概念を
示す断面図である。第３図は本発明の別の実施態
様の概念を示す断面図である。第４図は本発明の
さらに別の実施態様の概念を示す断面図である。 これらの図面において、１：真空容器、２：帯
状の被蒸着基材、３：蒸発槽、４：蒸発槽開口、
５：蒸気導路、８，９，１０：絞り弁。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 帯状の被蒸着基材が通過する真空容器内に蒸
着材を入れた蒸発槽を配置した真空蒸着装置にお
いて、蒸着剤の蒸気が被蒸着基材の表面に到達す
る導路中に、複数個の絞り弁を設けたことを特徴
とする真空蒸着装置。 ２ 特許請求の範囲第１項に記載の装置であつ
て、絞り弁がスロツトル弁（回転板弁）であるこ
とを特徴とする装置。 ３ 特許請求の範囲第２項に記載の装置であつ
て、スロツトル弁を少なくとも２段に設けたこと
を特徴とする装置。 ４ 特許請求の範囲第３項に記載の装置であつ
て、スロツトル弁が２段に設けられ、上段のスロ
ツトル弁と下段のスロツトル弁の回転軸が直角を
なしていることを特徴とする装置。 ５ 特許請求の範囲第１ないし３項のいずれかの
項に記載の装置であつて、蒸気導が路90°曲げら
れ、帯状被蒸着基材が垂直に通過することを特徴
とする装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12888483A JPS6021377A (ja) | 1983-07-15 | 1983-07-15 | 付着量分布制御手段つき真空蒸着めつき装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12888483A JPS6021377A (ja) | 1983-07-15 | 1983-07-15 | 付着量分布制御手段つき真空蒸着めつき装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6021377A JPS6021377A (ja) | 1985-02-02 |
| JPH0351789B2 true JPH0351789B2 (ja) | 1991-08-07 |
Family
ID=14995732
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12888483A Granted JPS6021377A (ja) | 1983-07-15 | 1983-07-15 | 付着量分布制御手段つき真空蒸着めつき装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6021377A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6173875A (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-16 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 流路幅調整板付き真空蒸着装置 |
| JPH0696767B2 (ja) * | 1986-06-11 | 1994-11-30 | 住友重機械工業株式会社 | 連続真空蒸着装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5547871Y2 (ja) * | 1977-06-23 | 1980-11-10 | ||
| DD160563A1 (de) * | 1981-07-14 | 1983-09-14 | Guenter Jaesch | Verfahren zum betrieb eines zinkverdampfers und verdampfer |
-
1983
- 1983-07-15 JP JP12888483A patent/JPS6021377A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6021377A (ja) | 1985-02-02 |
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