JPH0321637A - 封止用樹脂 - Google Patents

封止用樹脂

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JPH0321637A
JPH0321637A JP15567189A JP15567189A JPH0321637A JP H0321637 A JPH0321637 A JP H0321637A JP 15567189 A JP15567189 A JP 15567189A JP 15567189 A JP15567189 A JP 15567189A JP H0321637 A JPH0321637 A JP H0321637A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
bismaleimide
group
weight
formulas
Prior art date
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Pending
Application number
JP15567189A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenichi Suzuki
憲一 鈴木
Hisafumi Enoki
尚史 榎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication of JPH0321637A publication Critical patent/JPH0321637A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の利用分野) 本発明はガラス転移点(以下Tgという)が高く、耐湿
性、相溶性に優れ、かつ低応力特性に優れた半導体封止
用樹脂に関するものである。
(従来技術) 近年IC%LSI,}ランジスター、ダイオードなどの
半導体素子や電子回路等の封止には特性、コスト等の点
からエボキシ樹脂組戊物が多量に、かつ最も一般的に用
いられている。
しかし、電子部品の量産性指向、高集積化や表面実装化
の方向に進んで来ておりこれに伴い封止樹脂に対する要
求は厳しくなってきている。
の薄肉化や表面実装時における半田浸漬(200〜30
0℃)によって装置にクラックが発生し易くなっており
信頼性向上のために半導体封止用樹脂としては低応力特
性と耐熱性が強く望まれている。
半導体封止用樹脂としては現在エポキシ樹脂が主流であ
るが耐湿性、低応力特性の点で未だ満足されるものは得
られていない。
これらに対処するためにエポキシ系樹脂においてはシリ
コーン化合物等の添加やシリコーン変性エボキシ樹脂の
利用によって低応力特性をもたせる試みがなされている
が、耐熱性という点ではエボキシ樹脂を用いているかぎ
り、改良に限界があり、表面実装時の半田浸漬後の信頼
性の高いものが得られていない。
これらの半田耐熱性に対処するには樹脂特性として低応
力であり、かつTgが高く半田浴温度以上であることが
望まれている. エボキシ樹脂に変わる高耐熱性を有する樹脂としてはマ
レイミド樹脂が注目されてきているが、低応力特性に劣
り、堅くて脆いという欠点がある。
ポリアミノマレイミド樹脂においては堅くて脆いという
欠点は改良されて来ているが、低応力特性の面では未だ
不十分である。
ポリマレイミドとアノレケニノレフェノーノレ類まI二
はアルケニル7エノールエーテル類などを重合触媒存在
下で反応させる例(特開昭52−994.特開昭58−
117219号公報)もあるが、ポリアミノマレイミド
樹脂と同様に低応力特性に劣る欠点がある。
ポリアミノマレイミド樹脂を含むマレイミド樹脂の低応
力特性の改善策として各種シリコーン化合物の添加が試
みられているが相溶性が著しく劣り、相分離して、均質
な樹脂が得られない。
とくに、シリコーンオイルを用いた場合にはオイルのブ
リードが生じるためにロール滑り、金型汚れを起こして
しまう。又シリコーンゴムを用いI;場合には接着性が
低下してしまう。
又相溶性を向上させるために末端に−OH基、一〇〇H
I基等の反応性基を持ったシリコーン化合物を添加する
例(Brit UK PAT2018802(1984
).FR2544325,特開昭57−90827.5
6−20023.57−90012.58−74749
号公報)もあるが成形時にガスが発生し7クレを生じた
り、耐熱性や耐湿性の低下を招き満足のいく性能を発揮
できていない。
又、ビスマレイミドとジアミンとアミノ基含有ポリシロ
キサンとを溶液中で反応させる例(特開昭62−246
933号公報)も試みられている。
しかし、無溶媒ではアミ7基含有ポリシロキサンとビス
マレイミド、ジアミンとの相溶性が悪く、均質な樹脂が
得られていない。
溶剤を用いると相溶性は向上するが、反応終了時に溶剤
を完全に除去することは困難で、そのために貯蔵安定性
が低下したり、成形時にガス、7クレなどが発生して、
実用上問題点が多く残る。
(発明の目的) 本発明の目的とするところは相溶性が良く、一般の特性
を低下させることなく、耐湿性、低応力特性に優れ、か
つ高耐熱性を有し、半田浸漬後の信頼性に非常に優れた
半導体封止用樹脂を提供することにある。
(発明の構1.) 本発明は下記式CI)で示されるビスマレイミドと、下
記式(n)で示されるジアミノポリシロキサンとを、 下記式〔■〕で示される多官能性ポリアリルフェノール
類の存在下に反応させてなる封止用樹脂である。
(作用) 本発明において用いられるビスマレイミド樹脂は下記式
(I)で表される。
R1:2価の芳香族基 具体例としては、N,N’−m−フエニレンビスマレイ
ミド、N,N’−p−7エニレンビスマレイミ}’、N
.N’−+m一トルイレンビスマレイミド、N,N’−
4.4’−ビフエニレンビスマレイミド、N.N’−4
.4’−(3.3’−ジメチルービフエニレン〕ビスマ
レイミド、N,N’−4.4’−(3.3′−ジメチル
ジフエニルメタン〕ビスマレイミド、N.N’−4.4
’−(3.3’−ジエチルジフエニルメタン〕ビスマレ
イミド、N,N’−4.4’−ジフエニルメタンビスマ
レイミト、N,N′−4.4′−ジフエニルプロノくン
ビスマレイミF、N,N’−4.4’−シフエニルエー
テルビスマレイミド, N,N’−3.3’−ジフエニ
ルスルホンビスマレイミド、N,N’−4.4’−ジフ
エニルスルホンビスマレイミドなどを挙げることができ
る。これらは2種以上含まれていても何ら差し支えない
本発明に用いられるジアミノポリシロキサンは下記式(
II)で示されるポリシロキサンであり、その重合度n
は1〜100の範囲のものである。
R2:アルキレン基または7エニレン基R3.R4:ア
ルキル基またはフエニル基重合度が100以上の場合、
相溶性が低下してしまう。ジアミノポリシロキサンはビ
スマレイミド100重量部に対し5〜50重量部が好ま
しい。
5重量部以下では硬化樹脂の低応力効果が低下し、又、
50重量部以上であれば相溶性が悪化し、強度が低下す
る。
多官能性ボリアリルフェノール類は下記式(III)で
示され、その重合度mはO−toの範囲である。
0 SO2  1−と一〇一 重合度mがlO以上の場合は、融点が高く、作業性が悪
くなって、硬化樹脂の強度が低下する。
多官能性ポリアリルフェノール類はビスマレイミド10
0重量部に対し、5〜50重量部が好ましい。5重量部
以下であれば相溶性が低下し、また50重量部以上であ
れば硬化樹脂の耐熱性が低下する。
ビスマレイミド(A)とジアミノポリシロキサン(B)
の反応方法は、多官能性ポリアリルフェノール類(C)
の共存下でlOO〜200℃の任意の温度で行い、反応
の終点は、反応した樹脂の冷却時の融点が50〜120
℃の範囲となるまで反応させる。
又、得られt;樹脂を用いて戊形材料化するには硬化促
進剤、エポキシ樹脂、無機充填材、滑剤、難燃剤、離型
剤、シランカップリング剤等を適宜配合添加し、加熱混
練することによって材料化できる。
本発明の半導体封止用樹脂組戒物を戊形材料として製造
する一般的な方法としては、これらの必須戊分に各種添
加剤を加えて均一に混合した組戊物を二一グー、熱ロー
ル等により混練処理を行い、冷却後粉砕して成形材料と
する。
得られた戊形材料を半導体の封止用としてもちいれば高
Tgであり、しかも低応力特性に優れ、非常に信頼性の
高い半導体封止用樹脂組放物を得ることができる。
(実施例) 実施例1〜3 第1表に示す配合でジアミノポリシロキサンとo,o’
−ジアリルビス7エノールAとを加熱して溶解し、これ
にN.N’−4.4’−ジフエニルメタンビスマレイミ
ドを添加し、20分間反応させ、融点が60〜80℃の
均質なシリコーン変性マレイミド樹脂得た。
比較例1〜5 第1表に示す配合で実施例と同様に反応させた。
比較例1.3.5は相溶性が悪く、均質な樹脂が得られ
なかった。
実施例4〜6 第2表に示すように実施例1〜3で得たシリコーン変性
マレイミド樹脂にシリカ粉末、硬化促進剤、アミノシラ
ン、着色剤および離型剤を配合し、熱ロールで混練し戊
形材料を得た。
得られた成形材料をトランスファー戊形によりl80℃
,3分で或形し7クレの無い光沢の有る戒形品が得られ
た。この戊形品をさらに180℃.8時間後硬化を行い
特性を評価した。結果を第2表に示す。
比較例6.7 比較例2,比較例4の樹脂を第2表に示す配合で同様に
戊形して特性を評価した。結果を第1表に示す。
実施例1〜3の樹脂を用いた実施例4〜6の戊形材料は
常温での曲げ弾性率が小さく、低応力で、内部応力も小
さい。しかも、ガラス転移点温度が高く、250℃での
曲げ強度も大きく、耐熱性、耐半田クランク性に優れて
いる。
(以 下 余 白) (発明の効果) 本発明による半導体封止用樹脂組或物を用いた硬化物は
高Tgであり、耐湿性及び熱時の強度に優れているため
封止体の耐半田クラツク性が良く、かつ低応力であり耐
ヒートサイクル性にも優れており、半導体封止用樹脂組
戒物として非常に信頼性の高い優れたものである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(A)下記式〔 I 〕で示されるビスマレイミド
    100重量部 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・〔 I 〕 R_1:2価の芳香族基 (B)下記式〔II〕で示されるジアミノポリシロキサン
    5〜50重量部 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・〔II〕 R_2:アルキレン基又はフェニレン基 R_3、R_4:アルキル基又はフェニル基n:1〜1
    00の整数 (C)下記式〔III〕で示される多官能ポリアリルフェ
    ノール類5〜50重量部 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・〔III〕 R_5:▲数式、化学式、表等があります▼ n:0〜10の整数 の(A)と(B)とを(C)の共存下で反応させてなる
    封止用樹脂。
JP15567189A 1989-06-20 1989-06-20 封止用樹脂 Pending JPH0321637A (ja)

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JP15567189A JPH0321637A (ja) 1989-06-20 1989-06-20 封止用樹脂

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