JPH0356626B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

〔産業上の利用分野〕 本発明は湿し水を用いずに印刷可能な、水なし
平版印刷用原板に関する。 〔従来の技術〕 シリコーンゴム層をインキ反発層とすることに
より、湿し水を用いずに印刷可能な水なし平版が
これまでに数多く提案され、印刷時の湿し水量の
制御が不要という特徴のために大いに利用されて
いる。特に、基板、感光性層、シリコーンゴム層
の順に構成される水なし平版印刷用原板は、画像
再現性の良さ、製版の容易さから有効なものであ
る。 〔発明が解決しようとする問題点〕 これまでの水なし平版印刷用原板のシリコーン
ゴム層としては、シラノール基を有するオルガノ
ポリシロキサンと、アセトキシ基、ケトキシメー
ト基などの加水分解性基がケイ素原子に直接結合
したケイ素化合物（以下架橋剤と称する）との反
応によるものが、シリコーンゴム層と感光性層と
の接着の安定性の面で優れている。 しかしながらこれまでに提案されたきた架橋剤
は同一ケイ素原子に結合する加水分解性基が３個
以下のものであり、その加水分解性基の活性が低
く、充分な硬化状態を得にくく、そのため硬化後
も有機溶剤でシリコーンゴム層を洗浄すると傷が
つきやすい、すなわち耐スクラツチ性が劣るとい
う問題があつた。この解決策として、シリコーン
ゴム層の硬化前組成物にスズ、チタン等の公知の
金属塩触媒を添加する方法があげられるが、これ
らの添加量が多くなるとシリコーンゴム層の弾性
が失われるという問題点がある。 本発明は、従来よりも耐スクラツチ性および硬
化性の良好なシリコーンゴム層を有する水なし平
版印刷用原板を得んとすものである。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明は基板、感光性層およびシリコーンゴム
層がこの順に積層されてなる水なし平版印刷用原
板において、該シリコーンゴム層が、シラノール
基を有するオルガノポリシキロサンおよびケイ素
原子に４個のケトキシメート基が結合したシラン
もしくはその加水分解縮合物を含有する組成物を
硬化して得られたシリコーンゴムであることを特
徴とする水なし平版印刷用原板に関する。 本発明における基板は、特に限定はされないが
公知の水なし平版印刷用原板で用いられているも
のであればいずれでもよい。 たとえば、アルミ、鉄、亜鉛のような金属板お
よびポリエステル、ポリアミド、ポリオレフイン
などの有機高分子フイルム、あるいはこれらの複
合体などがあげられる。これらのシート上にハレ
ーシヨン防止などの目的でさらにコーテイングを
施して基板とすることも可能である。 本発明の感光性層としては公知の基板、感光性
層、シリコーンゴム層がこの順に積層されてなる
水なし平版印刷用原板に用いられる各種の感光層
が使用可能である。感光性層において特に有効な
成分としては、 (1) 特公昭56−23150に示されるような露光によ
り重合しうる不飽和結合基（例えばアクリロキ
シ基）を有するもの、 (2) 特開昭60−21050に示されるような露光によ
り２量化しうる基（例えばシナミリデン基）を
有するもの、 (3) 特開昭55−59466に示されるようなキノンジ
アジド基を有するもの、 である。 本発明におけるシリコーンゴム層の厚みは任意
であるが、厚すぎると現像性が悪くなり、薄すぎ
るとインキ反発性が悪くなることから、望ましく
は0.5〜100ミクロン、さらに望ましくは１〜20ミ
クロンである。 本発明の特徴であうシリコーンゴム層はシラノ
ール基を有するオルガノポリシロキサンとケイ素
原子に４個のケトキシメート基が結合したシラン
もしくはその加水分解縮合物との反応により得ら
れるシリコーンゴムであり、硬化前のシリコーン
ゴム組成物の望ましい組成比としては、下記のよ
うなものである。 (1) シラノール基を有するオルガノポリシロキサ
ン 100重量部 (2) ケイ素原子に４個のケトキシメート基が結合
したシランもしくはその加水分解縮合物
0.1〜20重量部（さらに望ましくは 0.5〜10重
量部） (3) 必要に応じて添加される公知架橋剤もしくは
その加水分解縮合物
０〜20重量部（さらに望ましくは 0.1〜20重
量部） 上記構成成分(1)のオルガノポリシロキサンとは
次式のような構造単位を主成分とするものであ
る。 （式中、R¹、R²は有機基） R¹、R²としては、炭素数１〜10の置換もしく
は非置換の炭化水素基であることが望ましく、さ
らに基数にして60％以上のメチル基であることが
インキ反発性の面で望ましい。オルガノポリシロ
キサンの構造としては、直鎖状、分枝状、網目状
など任意であるが、直鎖状であるものが一般的で
あり、分子量としては、低い場合にはインキ反発
性が低下すること、高すぎる場合には、耐スクラ
ツチ性が低下することから、1000〜1000000であ
ることが望ましい。シラノール基は主鎖、主鎖の
末端どちらにあつても良いが、得られるゴム物性
の面で主鎖の末端であることが望ましく、同じ理
由によりシラノール基の数は平均して1.5個以上
であることが望ましい。 上記構成成分(2)のケイ素原子に４個のケトキシ
メート基が結合したシランとは、式（）もしく
は式（）の構造を有するものである。 （式中、R³、R⁴、R⁵は有機基であり、特に、
R³、R⁴は炭素数１〜10の置換もしくは非置換の
一価の炭化水素基であることが望ましく、さらに
原料の合成の容易さから、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、フエニル基であることが
望ましい。また、R⁵は、望ましくは炭素数３〜
10の置換もしくは非置換の２価の炭化水素基、さ
らにブチレン基、ペンテル基、ヘキセン基が望ま
しい）。 例えば、

【式】 【式】

などが例示され、これらの合成方法の一例は、
A.Singh、A.K.Rai、and R.C.Mehrotra、
Journal of Chemical Society Dalton
Transactions、19、1911（1972）に示されてい
る。またこれらの加水分解縮合物を用いることに
よつても同様の効果が得られる。 上記構成成分(3)の公知架橋剤とは、シリコーン
ゴムとして公知の架橋剤となるものを言い、代表
的には、次式（）、（）、（）、（）、（）
で
表わされるもの、もしくはそれらの加水分解縮合
物が例示される。 X′₄Si （） X₃SiR （） X₂SiR₂ （） （式中、Ｘはケトキシメート基、アシルオキシ
基、アミノオキシ基、アミノ基、アルケニルオキ
シ基、アルコキシ基、アミド基など加水分解可能
な基、 X′はケトキシレート以外の加水分解可能な基、 Ｒはケイ素原子に対して炭素が結合した有機
基、ｍ≧２、ｎ≧０、構造単位はランダムでもブ
ロツクでもよい）。 これらの公知架橋剤は必須ではないが、得られ
るシリコーンゴムの物性の制御の面で添加が有効
である。 上記の硬化前のシリコーンゴム組成物は、成分
(1)のシラノール基数に対し、成分(2)、(3)のケトキ
シメート基などの加水分解性基数を同数から２倍
程度とする組成とすることによつて、例えば下式
のように反応してゴムを形成させることができ
る。 （式中、X″はケトキシメート基、Ｘは加水分解
可能な基、Ｒは炭化水素基） また、成分(1)のシラノール基数に対し、成分
(2)、(3)のケトキシメート基が大過剰となる組成と
し、例えば下記のようにシラノール基を消滅させ
た状態とし、さらに水を供給することによつて、
シラノール基の生成、加水分解性基との縮合反応
のくり返しによりゴムとすることができる。 この場合、構成成分(1)と(2)とを前もつて反応さ
せてもよく、構成成分(1)と(3)とを前もつて反応さ
せてもよい。 上記、硬化前のシリコーンゴム組成物に以下の
成分を添加することも有効である。(4) シラノー
ル基を有しないオルガノポリシロキサン (5) シランカツプリング剤など公知の接着付与剤 (6) スズ、チタン化合物など公知の硬化触媒 (7) 補強の目的でシリカ、炭酸カルシウムなどの
充てん剤 (8) 塗工性改善の目的で非反応性の溶剤 これらのシリコーンゴム組成物の構成成分(2)に
起因して、硬化後印刷原板においてシリコーンゴ
ム層は下式に示すような架橋点構造を有するもの
である。 以上のように述べた印刷用原板は、例えば以下
のような方法で作られる。 まず支持体のうえに、リバースロールコータ、
エアーナイフコータ、メイヤバーコータなどの通
常のコータあるいはホエラのような回転塗布装置
を用い感光体層を構成すべき組成物溶液を塗布、
乾燥および必要に応じて熱キユア後、必要ならば
該感光性層の上に同様な方法で接着層を塗布、乾
燥後、シリコーンゴム組成物を感光性層または接
着層上に同様の方法で塗布し、通常60〜130℃の
温度で数分間熱処理して十分に硬化せしめてシリ
コーンゴム層を形成する。必要ならば、保護フイ
ルムを該シリコーンゴム層上にラミネータ等を用
いてラミネートする。 このようにして得られる水なし平版印刷用原板
に、画像フイルムを通じて活性光線を照射し、感
光性層の種類に応じて公知の現像液を用いて現像
用パツトなどでこすつて現像することにより、原
画フイルムの画像を再現してシリコーンゴム層が
残存してインキが着肉しない非画像部となる部分
と、シリコーンゴム層が剥離して感光性層もしく
は基板が露光してインキ着肉性の画像部となる部
分とからなる水なし平版印刷用原板が得られる。
そして印刷をオフセツト印刷機に設置して湿し水
を与えずに印刷することにより印刷物を得ること
ができる。 〔実施例〕 以下に実施例を示す。なお実施例中の配合部数
はすべて重量部数である。また、文中、シリコー
ンゴムの組成物が記載されているが、これは特に
示さない限り塗工の48時間前に、各組成物を混合
し、30分間60℃にてかくはんし、以後塗工までに
密閉状態、室温にて静置保存しておいたものであ
る。 実施例 １ 砂目立て加工したアルミ板上に、 (1) アクリル酸エチル／メタクリル酸メチル共重
合体 60部 (2) グリシジルメタクリレートキシリレンジアミ
ンとの４モル／１モル付加反応 40部 (3) ミヒラー氏ケトン ５部 からなる組成のエチルセロソルブ溶液を塗工し、
50℃にて乾燥させ、厚さ５ミクロンの光重合性感
光性層を設けた。 感光性層上に、シリコーンゴム組成として、 (4) α、ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキシ
ン（数平均分子量24000） 100部 (5) テトラキス（ジメチルケトオキシム）シラン
３部 (6) エチルトリアセトキシシラン ５部 (7) ジブチルスズジアセテート 0.1部 (8) エクソン化学(株)製脂肪族炭化水素“アイソパ
ー”Ｅ 400部 からなる組成物を塗工し、100℃で１分間加熱乾
燥処理したところ、厚さ２ミクロンで完全に硬化
していた。 このシリコーンゴム層上に、厚さ６ミクロンの
ポリエチレンテレフタレート（東レ株式会社製
“ルミラー”）をラミネートし、印刷用原板とし
た。 得られた印刷用原板上に、原画ポジフイルムを
真空密着し、岩崎電機株式会社製メタルハライド
ランプ“アイドルフイン”2000」を用いて１ｍの
距離から2.5分間露光した。露光済の印刷用原板
のフイルムを剥離し、ｎ−ヘプタン95部、ポリプ
ロピレングリコール（分子量400）５部からなる
現像液中に浸漬し、ダイニツク株式会社製不織布
「ソフパツド」でこすつて現像したところ、末露
光部分のシリコーンゴム層だけしか剥離して感光
性基が露光し、一方露光部分のシリコーンゴム層
は残存しており、優れた画像再現性を有する印刷
版を得た。 得られた印刷版のシリコーンゴム層を“アイソ
パー”Ｅに浸漬して、旭化成工業(株)製不織布“ハ
イゼガーゼ”を用いて、200ｇ／cm²の荷重で10往
復こすり、耐スクラツチ性試験を行なつたとこ
ろ、シリコーンゴム層に傷は入つていなかつた。 比較例 １ 実施例１と同様にして得られた感光性層上に、 (1) α、ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキシ
ン（数平均分子量24000） 100部 (2) エチルトリアセトキシシラン ８部 (3) ジブチルスズジアセテート 0.1部 (4) “アイソパー”Ｅ 400部 からなるシリコーンゴム組成物を塗工し、100℃
で１分間加熱乾燥したところ、末硬化状態であつ
た。同じ条件で２分間加熱乾燥したところ、完全
に硬化しており、厚さ２ミクロンのシリコーンゴ
ム層が得られた。 得られたシリコーンゴム層上に実施例１と同様
に“ルミラー”をラミネートし印刷用原基とし
た。印刷用原板を実施例１と同様に露光、現像し
て印刷版とした。印刷版を実施例１と同じ耐スク
ラツチ性試験を行なつたところ、シリコーンゴム
層に多数の傷が入つており、耐スクラツチ性が劣
るものである。 実施例 ２ 砂目立て加工されたアルミ板上にγ−シンナミ
リデン−β−ヒドロキシ−ｎ−プロピルアクリレ
ート重合体（数平均分子量4000）のトルエン、メ
チルイソブチルケトン（１／１重量比）溶液を塗
工し、60℃で。分間乾燥させ、厚さ３ミクロンの
光二基化性の感光性層を設けた。 感光性層上に実施例１と同じシリコーンゴム組
成物を塗工し、100℃で１分間加熱乾燥したとこ
ろ完全に硬化していた。 得られたシリコーンゴム層上に厚さ６ミクロン
の“ルミラー”をラミネートし、印刷用原板を得
た。印刷用原板を実施例１と同様に露光、現像し
たところ、優れた画像再現性を有する印刷版を得
た。 印刷版のシリコーンゴム層を実施例１と同じ耐
スクラツチ性試験を行なつたところ、傷は全く入
つていなかつた。 比較例 ２ 実施例２と同じ感光性層上に、比較例１と同じ
シリコーンゴム組成物を塗工し、100℃、１分間
加熱乾燥したところ、未硬化状態であつた。同じ
ように２分間加熱乾燥したものは硬化しており、
それをシリコーンゴム層とした。 得られたシリコーンゴム層上に厚さ６ミクロン
の“ルミラー”をラミネートし印刷用原板とし
た。 印刷用原板を実施例１と同様の方法で、露光、
現像し印刷版を得た。印刷版のシリコーンゴム層
を実施例１と同様に耐スクラツチ性試験を行なつ
たところ、傷が多数入つていた。 実施例 ３ 砂目立て加工したアルミ板に、住友デユレス(株)
製フエノールホルムアルデヒドレゾール樹脂を１
ミクロンの厚みに塗布し、200℃で３分間硬化さ
せ基板とした。 この上に、数平均重合度4.7のフエノールホル
ムアルデヒドノボラツク樹脂とナフトキノン−
１，２−ジアジド−５−スルホン酸クロリドの部
分エステル化物（エステル化率49％）のテトラヒ
ドロフラン溶液を塗工し、100℃、35秒間加熱処
理して厚さ２ミクロンの感光性層を設けた。 この感光性層上に、 (1) α、ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサ
ン（数平均分子量46000） 100部 (2) テトラキス（メチルエチルケトオキシム）シ
ラン ４部 (3) ジブチルスズジアセテート 0.1部 (4) γ−アミノプロピルトリメトキシシラン １部 (5) 「アイソパーＥ」 400部 からなるシリコーンゴム組成物を塗工し、100℃
で２分間加熱乾燥し、厚さ３ミクロンの完全に硬
化したシリコーンゴム層を得た。 得られたシリコーンゴム層上に、厚さ10ミクロ
ンのポリプロピレンフイルム（東レ株式会社製
“トレフアン”）をラミレートし、印刷用原板とし
た。印刷用原板上に原画ネガフイルムを真空密着
し、実施例１と同様の方法で１分間露光を行なつ
た。 露光済の原板の“トレフアン”を剥離して“ア
イソパー”Ｅ／エチルアルコール混合液（重量比
75／25）に浸漬し、“ソフパツド”でこすつて現
像したところ、露光部はシリコーンゴム層および
感光性層が剥離し、非露光部はシリコーンゴム層
が残つている画像再現性の優れた印刷版を得た。 印刷版が実施例１と同様に耐スクラツチ性試験
を行なつたが、シリコーンゴム層には傷が全く入
つていなかつた。 実施例 ４ 実施例３において、シリコーンゴム層の組成を
以下の組成としたほかは、実施例３と同様の方法
で印刷用原板を得た（シリコーンゴム層は100℃、
２分間の加熱乾燥で完全に硬化しており、厚さ３
ミクロンであつた）。 (1) α、ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキシ
ン（数平均分子量46000） 100部 (2) テトラキス（メチルエチルケトオキシム）シ
ラン ２部 (3) ビニルトリス（メチルエチルケトオキシム）
シラン ２部 (4) ジブチルスズジアセテート 0.1部 (5) γ−アミノプロピルトリメトキシシラン １部 (6) “アイソパーＥ” 400部 得られた印刷用原板を実施例３と同様の方法で
露光現像したところ、優れた画像再現性を有する
印刷版を得た。印刷版を実施例１と同様に耐スク
ラツチ性試験を行なつたところシリコーンゴム層
に全く傷は入つていなかつた。 実施例 ５ 実施例３の感光性層上に、以下に示すＡ液、Ｂ
液の混合液（１／１重量比）を塗工し、100℃で
２分間加熱乾燥させて、完全に硬化した厚さ３ミ
クロンのシリコーンゴム層を得た。 Ａ 液 (1) α、ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキシ
ン（数平均分子量46000） 100部 (2) テトラキス（メチルエチルケトオキシム）シ
ラン ４部 (3) ジブチルスズジアセテート 0.1部 (4) γ−アミノプロピルトリメトキシシラン １部 (5) “アイソパー”Ｅ 400部 Ｂ 液 (1) α、ω−ジヒドロキシポリジメチルポリシロ
キシン（数平均分子量46000） 100部 (2) ビニルトリス（メチルエチルケトオキシム）
シラン ４部 (3) ジブチルスズジアセテート 0.1部 (4) γ−アミノプロピルトリメトキシシラン １部 (5) “アイソパー”Ｅ 400部 そしてシリコーンゴム層上に厚さ10ミクロンの
“トレフアン”をラミネートして印刷用原板を得
た。 得られた印刷用原板を実施例３の同様の方法で
露光、現像したところ、優れた画像再現性を有す
る印刷版を得た。実施例１と同様に印刷板の耐ス
クラツチ性試験を行なつたところ、シリコーンゴ
ム層には傷は全く入つていなかつた。 実施例 ６ 実施例３と同じ感光性層上に、 (1) α、ω−ジヒドロキシポリジメチルポリシロ
キサン（数平均分子量16000） 100部 (2) “アイソパー”Ｅ 400部 からなる組成物と (3) テトラキス（メチルエチルケトオキシム）シ
ラン 10部 (4) ビニルトリス（メチルエチルケトオキシム）
シラン 0.5部 (5) γ−アミノプロピルトリメトキシシラン １部 (6) トルエン 0.5部 (7) ジブチルスズジアセテート 0.1部 からなる組成物とを混合し、10秒後に塗工し、
100℃で２分間、加熱、乾燥したところ完全に硬
化しており、厚さ２ミクロンのシリコーンゴム層
が得られた。 さらにシリコーンゴム層上に厚さ10ミクロンの
“トルフアン”をラミネートして印刷用原板を得
た。 得られた印刷用原板を実施例３と同様の方法で
露光、現像したところ、優れた画像再現性を有す
る印刷版を得た。実施例１と同様に印刷版の耐ス
クラツチ性試験を行なつたところ、シリコーンゴ
ム層には傷は全く入つていなかつた。 比較例 ３ 実施例３と同じ感光性層上に、 (1) α、ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサ
ン（数平均分子量46000） 100部 (2) ビニルトリス（メチルエチルケトオキシム）
シラン ４部 (3) ジブチルスズジアセテート 0.1部 (4) γ−アミノプロピルトリメトキシシラン １部 (5) “アイソパー”Ｅ 400部 からなるシリコーンゴム組成物を塗工し、100℃
で２分間加熱、乾燥したが完全には硬化していな
かつた。同様に100℃で５分間加熱乾燥したとこ
ろ完全に硬化した厚さ３ミクロンのシリコーンゴ
ム層を得た。シリコーンゴム層上に厚さ10ミクロ
ンの“トレフアン”をラミネートして印刷用原板
とした。 得られた印刷用原板を実施例３の同様に露光、
現像して印刷版を得た。この印刷版を実施例１と
同じ耐スクラツチ性試験を行なつたところ、シリ
コーンゴム層に多数の傷が入つていた。 実施例 ７ 実施例３における基板上に、以下の組成を有す
るテトラヒドロフラン溶液を塗布し125℃、35秒
間加熱処理して厚さ２ミクロンの感光性層を設け
た。 (1) 数平均重合度4.7のフエノールホルムアルデ
ヒドボラツク樹脂とナフトキノン−１，２−ジ
アジド−５−スルホン酸クロリドの部分エステ
ル化物（エステル化率49％） 100部 (2) ４，4′−ジフエニルメタンジイソシアネート
30部 (3) ジブチルスズジアセテート 0.2部 得られた感光性層上に、 (4) α、ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキシ
ン（数平均分子量34000） 100部 (5) テトラキス（ジメチルケトオキシム）シラン
３部 (6) ビニルトリス（ジメチルケトオキシム）シラ
ン ３部 (7) ジブチルスズジアセテート 0.1部 (8) γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
0.2部 (9) “アイソパー”Ｅ 400部 からなるシリコーンゴム組成物を塗工し、100℃
で２分間加熱、乾燥させたところ完全に硬化して
おり、厚さ３ミクロンのシリコーンゴム層が得ら
れ、その上に厚さ10ミクロンの“トレフアン”を
ラミネートして印刷用原板を得た。 得られた印刷用原板を実施例３の同様に露光、
現像したところ優れた画像再現性を有する印刷版
となつた。印刷版を実施例１と同様に耐スクラツ
チ性試験を行なつたところシリコーンゴム層には
傷が入らなかつた。 実施例 ８ 実施例７と同じ感光性層上に、 (1) α、ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサ
ン（数平均分子量34000） 100部 (2) ビニルトリス（ジメチルケトオキシム）シラ
ン ３部 (3) ジブチルスズジアセテート 0.1部 (4) “アイソパー”Ｅ 400部 からなる48時間前に調製した組成物に、 (5) テトラキス（ジメチルケトオキシムシラン）
３部 (6) γ−アミノプロピルトリエトキシシラン
0.2部 (7) トルエン ３部 を添加したものをシリコーンゴム組成物として塗
工し、100℃で２分間加熱乾燥させたところ完全
に硬化しており、厚さ３ミクロンのシリコーンゴ
ム層が得られ、その上に厚さ10ミクロンの“トレ
フイン”をラミネートして印刷用原板を得た。 得られた印刷用原板を実施例３の同様に露光、
現像したところ優れた画像再現性を有する印刷版
となつた。印刷版を実施例１と同様に耐スクラツ
チ性試験を行なつたところシリコーンゴム層には
傷が入つていなかつた。 比較例 ４ 実施例７で得られた感光性層上に、 (1) α、ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキシ
ン（数平均分子量34000） 100部 (2) ビニルトリス（メチルエチルケトオキシム）
シラン ６部 (3) ジブチルスズジアセテート 0.1部 (4) γ−アミノプロピルトリエトキシシラン
0.2部 (5) “アイソパー”Ｅ 400部 からなるシリコーンゴム組成物を塗工し、100℃
で２分間加熱、乾燥したところ硬化は不充分であ
つた。５分間加熱することにより完全に硬化した
シリコーンゴム層が得られた。その上に厚さ10ミ
クロンの“トレフアン”をラミネートし印刷用原
板とした。印刷用原板を実施例３と同様に露光、
現像して得られた印刷版を、実施例１と同様に耐
スクラツチ性試験を行なつたところ、シリコーン
ゴム層に傷が多く入つていた。 〔発明の効果〕 本発明の特徴を有するシリコーンゴム組成物を
使用することにより、硬化性が良好で、耐スクラ
ツチ性の優れたシリコーンゴム層を有する水なし
平版印刷板が得られる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 基板、感光性層およびシリコーンゴム層がこ
   の順に積層されてなる水なし平版印刷用原板にお
   いて、該シリコーンゴム層が、シラノール基を有
   するオルガノポリシロキサンおよびケイ素原子に
   ４個のケトキシメート基が結合したシランもしく
   はその加水分解縮合物を含有する組成物を硬化し
   て得られたシリコーンゴムであることを特徴とす
   る水なし平版印刷用原板。