JPH041900B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH041900B2 JPH041900B2 JP876283A JP876283A JPH041900B2 JP H041900 B2 JPH041900 B2 JP H041900B2 JP 876283 A JP876283 A JP 876283A JP 876283 A JP876283 A JP 876283A JP H041900 B2 JPH041900 B2 JP H041900B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive layer
- silicone rubber
- layer
- printing plate
- sulfonic acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 17
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 claims description 16
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 claims description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 42
- -1 carboxylic acid compound Chemical class 0.000 description 11
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 11
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 8
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 8
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 4
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010680 novolac-type phenolic resin Substances 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 3
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 208000024780 Urticaria Diseases 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 2
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- JJLKTTCRRLHVGL-UHFFFAOYSA-L [acetyloxy(dibutyl)stannyl] acetate Chemical compound CC([O-])=O.CC([O-])=O.CCCC[Sn+2]CCCC JJLKTTCRRLHVGL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KXJLGCBCRCSXQF-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](CC)(OC(C)=O)OC(C)=O KXJLGCBCRCSXQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000005194 fractionation Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
本発明は湿し水不要平版印刷版に関するもので
あり、支持体上に、特に選ばれた感光層とシリコ
ーンゴム層を塗設した湿し水不要平版印刷版に関
するものである。 従来のオフセツト方式による平版印刷では、湿
し水の組成、供給量等とインキのバランスが印刷
結果に大きな影響を及ぼすため、湿し水の供給に
ついて非常に高度な技術が要求される。このため
オフセツト印刷業界では、湿し水が不要な平版印
刷版の出現が久しく待望されていた。 近年、この要求を満たすものとして、数多くの
湿し水不要平版印刷版に関する提案がなされてい
る。 たとえば、特開昭55−59466号公報および特開
昭55−110249号公報にはノボラツク樹脂のナフト
キノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エス
テルを感光層とした湿し水不要平版印刷版が開示
されている。この印刷版はシリコーンゴム層を浸
透し、露光部のカルボン酸化合物に変化した部分
を溶解する溶媒を含浸させたブラシ、布等で表面
をこすり、露光部の感光層を溶解すると共に、上
部のシリコーン装置を剥ぎとる方法で現像を行な
つている。しかしながら、その現像速度は十分で
なく、またその速度にばらつきあり、特に乾燥雰
囲気に保存された場合に現像速度が著しく低下す
るという欠点があつた。 本発明者らは上述のような問題点を解決すべく
鋭意検討した結果、感光層として、数平均分子量
(n)が650以下で分散度〔重量平均分子量(
w)とnとの比(w/n〕が3以下である
ノボラツク型フエノール樹脂のオルトナフトキノ
ン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル
または4−スルホン酸エステルを用いると、現像
速度が速く、またその速度にばらつきがなく、し
かも乾燥雰囲気に保存された場合にも現像速度が
ほとんど変化しない事を見出し、本発明をなすに
到つた。 すなわち、本発明は支持体上に上記感光性樹脂
からなる感光層、シリコーンゴム層をこの順に塗
設してなる湿し水不要平版印刷版に関するもので
ある。 本発明の構成からなる湿し水不要平版印刷版の
現像速度が前記のようにほとんど変動しない理由
は、未だ解明されていないが、以下のように説明
できると考えられる。 即ち、従来のノボラツク樹脂のオルトナフトキ
ノンジアジドスルホン酸エステルを感光層とした
印刷版の現像速度が十分でなくまた速度が変動す
るのは、露光により生成したケテン化合物が感光
層中に存在する水分と反応して、カルボン酸化合
物が生成するばかりでなく、ノボラツク樹脂に由
来する残存水酸基と反応してエステル結合による
橋かけが一部で起こり、しかもカルボン酸化合物
とエステル結合の生成比率が露光時の感光層中に
存在する水分率によつて変動するためと考えられ
る。当然、乾燥雰囲気に保存した場合には、エス
テル結合の生成比率が高くなり現像速度がおそく
なる事は言うまでもない。 本発明で用いるnが650以下で分散度が3以
下のノボラツク型のフエノール樹脂のナフトキノ
ン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル
もしくは4−スルホン酸エステルを感光層とした
場合には、エステル結合による橋かけ構造を生成
しても、分子量および分散度が小さいため分子量
が巨大化せず現像溶媒のアルコール等に対して溶
解性がそれほど低下しないためと推測される。 以下に本発明の構造を詳細に述べる。 感光層としては、フエノールまたはクレゾール
をホルムアルデヒドと縮合して得られるnが
650以下で分散度が3以下であるノボラツク型フ
エノール樹脂のオルトナフトキノン−1,2−ジ
アジド−5−スルホン酸エステルもしくは−4−
スルホン酸エステルが用いられる。nが650よ
り大きく分散度が3より大きいノボラツク型フエ
ノール樹脂から合成した感光性樹脂は、橋かけ反
応が起つた場合、現像溶媒のエタノール等に対す
る溶解性が非常に低下するため本発明の構成には
適さない。このようなnが650以下で分散度が
3以下であるノボラツク型フエノール樹脂は、触
媒の種類、および添加量、フエノールまたはクレ
ゾールとホルムアルデヒドの仕込比、反応温度お
よび時間等を適宜コントロールする事により得る
ことができる。あるいは分別操作により得る事も
可能である。またエステル化率(IRスペクトル
から定量)は35〜100%のものが用いられる。エ
ステル化率が35%より小さい場合には露光部と未
露光部の現像溶媒に対する溶解性に差が出現しに
くい。 感光層の厚さは0.5〜5μが好ましい。薄くしす
ぎるとピンホールの原因になり、厚くしすぎると
クラツクが発生しやすくなり、また経済的な見地
からも不利となる。 感光層中にはその性能が損わない限り、必要な
添加剤、例えば顔料、染料、樹脂、可塑剤等を加
えることができる。 本発明に用いられるインキ反発層として、使用
されるシリコーンゴム層の厚みは0.5〜100μ、好
ましくは1〜50μのものが用いられる。有用なシ
リコーンゴムは次のような繰返し単位を有する分
子量数千〜数十万の線状有機ポリシロキサンを主
成分とするシリコーンゴムである。 (Rは炭素数1〜10のアルキル基あるいはフエ
ニル基であり、Rの60%以上がメチル基であるも
のが好ましい。) この線状有機ポリシロキサンは、通常末端水酸
基を有するものを用い、アセトキシシラン、ケト
オキシムシラン、アルコオキシシラン等の橋かけ
剤を存在させ有機スズ化合物等の触媒共存下に、
熱処理により橋かけし、シリコーンゴム層として
用いられる。 また必要に応じて、シリコーンゴム層と感光層
間あるいは感光層と支持体間の接着のために、層
間に公知のシリコーンプライマやシリコーンカツ
プリング剤層を設けたり、シリコーンゴム層ある
いは感光層に公知のシリコーンプライマやシラン
カツプリング剤を添加することも効果的である。 支持体としては、紙、プラスチツクフイルムま
たはシート、天然あるいは人造ゴムシート、金属
板等が用いられる。これらの支持体はハレーシヨ
ン防止その他の目的でさらにコーテイング層また
は貼合せ層を設け支持体として用いることも可能
である。 以上説明したようにして構成された湿し水不要
平版印刷版の表面を形成するシリコーンゴム層
は、きずの発生、ほこりの付着などを防止するた
めに保護フイルムを積層することもできる。有用
な保護フイルムとしては、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコー
ル、ポリエチレンテレフタレート等が挙げられ
る。 本発明に基づく湿し水不要平版印刷版は、例え
ば次のようにして製造される。まず、支持体の上
にリバースロールコータ、エアナイフコータ、メ
ーヤバーコータ等の通常のコータあるいはホエラ
のような回転塗布装置を用い、感光性物質溶液を
塗布、乾燥後、この感光層の上に同様な方法で必
要に応じて接着層を塗布、乾燥して、次いでシリ
コーンゴム溶液を同様に塗布し、通常100〜120℃
の温度で数分間熱処理して十分に硬化させシリコ
ーンゴム層を形成する。さらに必要ならば保護フ
イルムをこのシリコーンゴム層の上にラミネータ
等を用いて積層する。 このようにして製造された本発明の湿し水不要
平版印刷版は、例えば所定のパターンを有するネ
ガフイルムを真空密着して紫外線により露光され
る。紫外線を発生する光源としては、水銀灯、カ
ーボンアーク灯、キセノンランプ、メタルハライ
ドランプ、蛍光灯等を用いることができる。次い
で現像液を含浸させた布、ブラシ等の現像パツド
で表面をこすると露光部の感光層が溶解するとと
もに上部のシリコーンゴム層が容易にはぎとられ
支持体が露出する。 現像液としては、シリコーンゴム層を浸透し、
かつ露光された感光層のみを溶解するものが用い
られる。このような現像液としてはメタノール、
エタノール等のアルコール類等が好ましいが、感
光層への浸透をより容易にするため、シリコーン
層を膨潤させ得るヘキサン、ヘプタン等の脂肪族
炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類等を混合して用いることも好ましい。 以下実施例を示し、本発明をさらに詳細に説明
するが、本発明の実施の態様がこれにより限定さ
れるものではない。 実施例 1 化成処理アルミ板(住友軽金属製)にn=
434、w/n=2.1のフエノールノボラツク樹
脂のナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スル
ホン酸エステル(エステル化率74%)の7重量%
ジオキサン溶液をホエラで回転塗布後100℃で3.5
分間乾燥させて2.4μの感光層を形成した。この上
にγ−アミノプロピルトリエトキシシラン
(UCC製、A−1100)の0.5重量%〓アイソパー”
(エツソ製)溶液をホエラで回転塗布後、120℃、
30秒間乾燥した。この上に次の組成をもつシリコ
ーン組成物の7%〓アイソパー”溶液をホエラで
回転塗布後、120℃、3.5分間加熱した。 (a) ポリジメチルシロキサン(分子量約8万、末
端OH基) 100部 (b) エチルトリアセトキシシラン 5部 (c) ジブチル錫アセテート 0.2部 得られたシリコーンゴム層の厚みは2.3μであつ
た。 上記のようにして得られた印刷原版を23℃×60
%RHおよびシリカゲル上のデシケータ中に7日
間保存後、真空密着した100μ〜15mmの線巾の直
線画像を有するネガフイルムを通してメタルハラ
イドランプ(岩崎電気製〓アイドルフイン”
2000)を用い、1mの距離から60秒露光した。次
いで版面を現像液のエタノールに1分間浸漬した
後、パツド(川島織物製、〓ロングランカーペツ
ト”)で10g/cm2の荷重下にこすると、露光部は
除去され化成処理アルミ表面が露出したネガフイ
ルムに忠実な画像が得られた。この時、現像速度
として支持体表面が露出するまでのこすり回数を
求めた。その結果を次の3つの比較例とともに表
1に揚げた。 比較例 1 実施例1の感光層をn=818、w/n=
5.6のフエノールノボラツク樹脂のナフトキノン
−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル
(エステル化率58%)にかえて、同一条件で保存
後、露光現像した。 比較例 2 実施例1の感光層をn=608、w/n=
3.8のフエノールノボラツク樹脂のナフトキノン
−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル
(エステル化率64%)にかえて、同一条件で保存
後、露光現像した。 比較例 3 実施例1の感光層をn=713、w/n=
2.5のフエノールノボラツク樹脂のナフトキノン
−1.2−ジアジド−5−スルホン酸エステル(エ
ステル化率63%)にかえて、同一条件で保存後、
露光現像した。
あり、支持体上に、特に選ばれた感光層とシリコ
ーンゴム層を塗設した湿し水不要平版印刷版に関
するものである。 従来のオフセツト方式による平版印刷では、湿
し水の組成、供給量等とインキのバランスが印刷
結果に大きな影響を及ぼすため、湿し水の供給に
ついて非常に高度な技術が要求される。このため
オフセツト印刷業界では、湿し水が不要な平版印
刷版の出現が久しく待望されていた。 近年、この要求を満たすものとして、数多くの
湿し水不要平版印刷版に関する提案がなされてい
る。 たとえば、特開昭55−59466号公報および特開
昭55−110249号公報にはノボラツク樹脂のナフト
キノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エス
テルを感光層とした湿し水不要平版印刷版が開示
されている。この印刷版はシリコーンゴム層を浸
透し、露光部のカルボン酸化合物に変化した部分
を溶解する溶媒を含浸させたブラシ、布等で表面
をこすり、露光部の感光層を溶解すると共に、上
部のシリコーン装置を剥ぎとる方法で現像を行な
つている。しかしながら、その現像速度は十分で
なく、またその速度にばらつきあり、特に乾燥雰
囲気に保存された場合に現像速度が著しく低下す
るという欠点があつた。 本発明者らは上述のような問題点を解決すべく
鋭意検討した結果、感光層として、数平均分子量
(n)が650以下で分散度〔重量平均分子量(
w)とnとの比(w/n〕が3以下である
ノボラツク型フエノール樹脂のオルトナフトキノ
ン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル
または4−スルホン酸エステルを用いると、現像
速度が速く、またその速度にばらつきがなく、し
かも乾燥雰囲気に保存された場合にも現像速度が
ほとんど変化しない事を見出し、本発明をなすに
到つた。 すなわち、本発明は支持体上に上記感光性樹脂
からなる感光層、シリコーンゴム層をこの順に塗
設してなる湿し水不要平版印刷版に関するもので
ある。 本発明の構成からなる湿し水不要平版印刷版の
現像速度が前記のようにほとんど変動しない理由
は、未だ解明されていないが、以下のように説明
できると考えられる。 即ち、従来のノボラツク樹脂のオルトナフトキ
ノンジアジドスルホン酸エステルを感光層とした
印刷版の現像速度が十分でなくまた速度が変動す
るのは、露光により生成したケテン化合物が感光
層中に存在する水分と反応して、カルボン酸化合
物が生成するばかりでなく、ノボラツク樹脂に由
来する残存水酸基と反応してエステル結合による
橋かけが一部で起こり、しかもカルボン酸化合物
とエステル結合の生成比率が露光時の感光層中に
存在する水分率によつて変動するためと考えられ
る。当然、乾燥雰囲気に保存した場合には、エス
テル結合の生成比率が高くなり現像速度がおそく
なる事は言うまでもない。 本発明で用いるnが650以下で分散度が3以
下のノボラツク型のフエノール樹脂のナフトキノ
ン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル
もしくは4−スルホン酸エステルを感光層とした
場合には、エステル結合による橋かけ構造を生成
しても、分子量および分散度が小さいため分子量
が巨大化せず現像溶媒のアルコール等に対して溶
解性がそれほど低下しないためと推測される。 以下に本発明の構造を詳細に述べる。 感光層としては、フエノールまたはクレゾール
をホルムアルデヒドと縮合して得られるnが
650以下で分散度が3以下であるノボラツク型フ
エノール樹脂のオルトナフトキノン−1,2−ジ
アジド−5−スルホン酸エステルもしくは−4−
スルホン酸エステルが用いられる。nが650よ
り大きく分散度が3より大きいノボラツク型フエ
ノール樹脂から合成した感光性樹脂は、橋かけ反
応が起つた場合、現像溶媒のエタノール等に対す
る溶解性が非常に低下するため本発明の構成には
適さない。このようなnが650以下で分散度が
3以下であるノボラツク型フエノール樹脂は、触
媒の種類、および添加量、フエノールまたはクレ
ゾールとホルムアルデヒドの仕込比、反応温度お
よび時間等を適宜コントロールする事により得る
ことができる。あるいは分別操作により得る事も
可能である。またエステル化率(IRスペクトル
から定量)は35〜100%のものが用いられる。エ
ステル化率が35%より小さい場合には露光部と未
露光部の現像溶媒に対する溶解性に差が出現しに
くい。 感光層の厚さは0.5〜5μが好ましい。薄くしす
ぎるとピンホールの原因になり、厚くしすぎると
クラツクが発生しやすくなり、また経済的な見地
からも不利となる。 感光層中にはその性能が損わない限り、必要な
添加剤、例えば顔料、染料、樹脂、可塑剤等を加
えることができる。 本発明に用いられるインキ反発層として、使用
されるシリコーンゴム層の厚みは0.5〜100μ、好
ましくは1〜50μのものが用いられる。有用なシ
リコーンゴムは次のような繰返し単位を有する分
子量数千〜数十万の線状有機ポリシロキサンを主
成分とするシリコーンゴムである。 (Rは炭素数1〜10のアルキル基あるいはフエ
ニル基であり、Rの60%以上がメチル基であるも
のが好ましい。) この線状有機ポリシロキサンは、通常末端水酸
基を有するものを用い、アセトキシシラン、ケト
オキシムシラン、アルコオキシシラン等の橋かけ
剤を存在させ有機スズ化合物等の触媒共存下に、
熱処理により橋かけし、シリコーンゴム層として
用いられる。 また必要に応じて、シリコーンゴム層と感光層
間あるいは感光層と支持体間の接着のために、層
間に公知のシリコーンプライマやシリコーンカツ
プリング剤層を設けたり、シリコーンゴム層ある
いは感光層に公知のシリコーンプライマやシラン
カツプリング剤を添加することも効果的である。 支持体としては、紙、プラスチツクフイルムま
たはシート、天然あるいは人造ゴムシート、金属
板等が用いられる。これらの支持体はハレーシヨ
ン防止その他の目的でさらにコーテイング層また
は貼合せ層を設け支持体として用いることも可能
である。 以上説明したようにして構成された湿し水不要
平版印刷版の表面を形成するシリコーンゴム層
は、きずの発生、ほこりの付着などを防止するた
めに保護フイルムを積層することもできる。有用
な保護フイルムとしては、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコー
ル、ポリエチレンテレフタレート等が挙げられ
る。 本発明に基づく湿し水不要平版印刷版は、例え
ば次のようにして製造される。まず、支持体の上
にリバースロールコータ、エアナイフコータ、メ
ーヤバーコータ等の通常のコータあるいはホエラ
のような回転塗布装置を用い、感光性物質溶液を
塗布、乾燥後、この感光層の上に同様な方法で必
要に応じて接着層を塗布、乾燥して、次いでシリ
コーンゴム溶液を同様に塗布し、通常100〜120℃
の温度で数分間熱処理して十分に硬化させシリコ
ーンゴム層を形成する。さらに必要ならば保護フ
イルムをこのシリコーンゴム層の上にラミネータ
等を用いて積層する。 このようにして製造された本発明の湿し水不要
平版印刷版は、例えば所定のパターンを有するネ
ガフイルムを真空密着して紫外線により露光され
る。紫外線を発生する光源としては、水銀灯、カ
ーボンアーク灯、キセノンランプ、メタルハライ
ドランプ、蛍光灯等を用いることができる。次い
で現像液を含浸させた布、ブラシ等の現像パツド
で表面をこすると露光部の感光層が溶解するとと
もに上部のシリコーンゴム層が容易にはぎとられ
支持体が露出する。 現像液としては、シリコーンゴム層を浸透し、
かつ露光された感光層のみを溶解するものが用い
られる。このような現像液としてはメタノール、
エタノール等のアルコール類等が好ましいが、感
光層への浸透をより容易にするため、シリコーン
層を膨潤させ得るヘキサン、ヘプタン等の脂肪族
炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類等を混合して用いることも好ましい。 以下実施例を示し、本発明をさらに詳細に説明
するが、本発明の実施の態様がこれにより限定さ
れるものではない。 実施例 1 化成処理アルミ板(住友軽金属製)にn=
434、w/n=2.1のフエノールノボラツク樹
脂のナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スル
ホン酸エステル(エステル化率74%)の7重量%
ジオキサン溶液をホエラで回転塗布後100℃で3.5
分間乾燥させて2.4μの感光層を形成した。この上
にγ−アミノプロピルトリエトキシシラン
(UCC製、A−1100)の0.5重量%〓アイソパー”
(エツソ製)溶液をホエラで回転塗布後、120℃、
30秒間乾燥した。この上に次の組成をもつシリコ
ーン組成物の7%〓アイソパー”溶液をホエラで
回転塗布後、120℃、3.5分間加熱した。 (a) ポリジメチルシロキサン(分子量約8万、末
端OH基) 100部 (b) エチルトリアセトキシシラン 5部 (c) ジブチル錫アセテート 0.2部 得られたシリコーンゴム層の厚みは2.3μであつ
た。 上記のようにして得られた印刷原版を23℃×60
%RHおよびシリカゲル上のデシケータ中に7日
間保存後、真空密着した100μ〜15mmの線巾の直
線画像を有するネガフイルムを通してメタルハラ
イドランプ(岩崎電気製〓アイドルフイン”
2000)を用い、1mの距離から60秒露光した。次
いで版面を現像液のエタノールに1分間浸漬した
後、パツド(川島織物製、〓ロングランカーペツ
ト”)で10g/cm2の荷重下にこすると、露光部は
除去され化成処理アルミ表面が露出したネガフイ
ルムに忠実な画像が得られた。この時、現像速度
として支持体表面が露出するまでのこすり回数を
求めた。その結果を次の3つの比較例とともに表
1に揚げた。 比較例 1 実施例1の感光層をn=818、w/n=
5.6のフエノールノボラツク樹脂のナフトキノン
−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル
(エステル化率58%)にかえて、同一条件で保存
後、露光現像した。 比較例 2 実施例1の感光層をn=608、w/n=
3.8のフエノールノボラツク樹脂のナフトキノン
−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル
(エステル化率64%)にかえて、同一条件で保存
後、露光現像した。 比較例 3 実施例1の感光層をn=713、w/n=
2.5のフエノールノボラツク樹脂のナフトキノン
−1.2−ジアジド−5−スルホン酸エステル(エ
ステル化率63%)にかえて、同一条件で保存後、
露光現像した。
【表】
表1のデータから、実施例1では現像速度が非
常に速いのに対し、比較例1,2,3ともおそい
ことがわかる。とくにシリカゲルデシケータ中に
保存した場合には、その差がさらに顕著になり、
実施例1では現像速度がほとんど変らないのに対
し、比較例1,2,3とも大略2倍おそくなつ
た。 実施例 2 厚さ0.25mmのポリエチレンテレフタレートのフ
イルムの上に、厚さ0.25mmのシヨアAゴム硬度70
のニトリルゴム層を設けた支持体の上に、n=
620、w/n=2.6のフエノールノボラツク樹
脂のナフトキノン1,2−ジアジド−5−スルホ
ン酸エステル(エステル化率61%)を感光層とす
る印刷原版を実施例1と同一な方法で得、評価し
た。 現像速度は23℃×60%RH×7日保存で8回、
23℃×シリカゲルデシケータ×7日保存で9回で
あつた。 実施例 3 実施例1の感光層をn=403、w/n=
1.7のフエノールノボラツク樹脂のナフトキノン
1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル(エ
ステル化率66%)にかえて製造し、評価した。 現像速度は23℃×60%RH×7日保存で4回、
23℃×シリカゲルデシケータ×7日保存で6回で
あつた。
常に速いのに対し、比較例1,2,3ともおそい
ことがわかる。とくにシリカゲルデシケータ中に
保存した場合には、その差がさらに顕著になり、
実施例1では現像速度がほとんど変らないのに対
し、比較例1,2,3とも大略2倍おそくなつ
た。 実施例 2 厚さ0.25mmのポリエチレンテレフタレートのフ
イルムの上に、厚さ0.25mmのシヨアAゴム硬度70
のニトリルゴム層を設けた支持体の上に、n=
620、w/n=2.6のフエノールノボラツク樹
脂のナフトキノン1,2−ジアジド−5−スルホ
ン酸エステル(エステル化率61%)を感光層とす
る印刷原版を実施例1と同一な方法で得、評価し
た。 現像速度は23℃×60%RH×7日保存で8回、
23℃×シリカゲルデシケータ×7日保存で9回で
あつた。 実施例 3 実施例1の感光層をn=403、w/n=
1.7のフエノールノボラツク樹脂のナフトキノン
1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル(エ
ステル化率66%)にかえて製造し、評価した。 現像速度は23℃×60%RH×7日保存で4回、
23℃×シリカゲルデシケータ×7日保存で6回で
あつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 支持体上にオルトナフトキノンジアジド化合
物からなる感光層、シリコーンゴム層をこの順に
塗設してなる湿し水不要平版印刷版において、オ
イルナフトキノンジアジド化合物として数平均分
子量(n)が650以下で分散度〔重量平均分子
量(w)とnとの比(w/n〕が3以下
であるノボラツク型フエノール樹脂のオルトナフ
トキノンジアジドスルホン酸エステルを用いたこ
とを特徴とする湿し水不要平版印刷版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP876283A JPS59135471A (ja) | 1983-01-24 | 1983-01-24 | 湿し水不要平版印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP876283A JPS59135471A (ja) | 1983-01-24 | 1983-01-24 | 湿し水不要平版印刷版 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59135471A JPS59135471A (ja) | 1984-08-03 |
| JPH041900B2 true JPH041900B2 (ja) | 1992-01-14 |
Family
ID=11701923
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP876283A Granted JPS59135471A (ja) | 1983-01-24 | 1983-01-24 | 湿し水不要平版印刷版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59135471A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6846613B2 (en) | 2001-04-09 | 2005-01-25 | Agfa-Gevaert | Positive-working lithographic printing plate precursors |
| EP1249341A1 (en) * | 2001-04-09 | 2002-10-16 | Agfa-Gevaert | Lithographic printing plate precursor |
| EP1256444B1 (en) * | 2001-04-09 | 2004-06-30 | Agfa-Gevaert | Positive-working lithographic printing plate precursor |
-
1983
- 1983-01-24 JP JP876283A patent/JPS59135471A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59135471A (ja) | 1984-08-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH041900B2 (ja) | ||
| JP2507386B2 (ja) | 水なし平版印刷用原板 | |
| JP2921093B2 (ja) | 水なし平版印刷版用現像液 | |
| JPH0428098B2 (ja) | ||
| JPS59148060A (ja) | 湿し水不要平版印刷版 | |
| JPS6322306B2 (ja) | ||
| JPH0789219B2 (ja) | 水なし平版印刷用原板 | |
| JPH0356621B2 (ja) | ||
| JPH0428294B2 (ja) | ||
| JPS59142552A (ja) | 湿し水不要平版印刷版 | |
| JPH042942B2 (ja) | ||
| JP2507347B2 (ja) | 水なし平版印刷版 | |
| JP3134502B2 (ja) | 水なし平版印刷版用現像液 | |
| JPS6154218B2 (ja) | ||
| JPS63163857A (ja) | 水なし平版印刷版 | |
| JP2507342B2 (ja) | 水なし平版印刷用原版 | |
| JPS58163944A (ja) | 湿し水不要平版印刷原版の製造方法 | |
| JPH0365539B2 (ja) | ||
| JPH051934B2 (ja) | ||
| JPS6158824B2 (ja) | ||
| JPS6323546B2 (ja) | ||
| JP2877054B2 (ja) | 水なし平版印刷用原版 | |
| JP2507470B2 (ja) | 水なし平版印刷用原板 | |
| JPH0444262B2 (ja) | ||
| JPH0261730B2 (ja) |