JPH041900B2 - - Google Patents

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JPH041900B2
JPH041900B2 JP876283A JP876283A JPH041900B2 JP H041900 B2 JPH041900 B2 JP H041900B2 JP 876283 A JP876283 A JP 876283A JP 876283 A JP876283 A JP 876283A JP H041900 B2 JPH041900 B2 JP H041900B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive layer
silicone rubber
layer
printing plate
sulfonic acid
Prior art date
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Expired
Application number
JP876283A
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English (en)
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JPS59135471A (ja
Inventor
Masaaki Yamada
Kunyuki Sakai
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0752Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は湿し水不要平版印刷版に関するもので
あり、支持体上に、特に選ばれた感光層とシリコ
ーンゴム層を塗設した湿し水不要平版印刷版に関
するものである。 従来のオフセツト方式による平版印刷では、湿
し水の組成、供給量等とインキのバランスが印刷
結果に大きな影響を及ぼすため、湿し水の供給に
ついて非常に高度な技術が要求される。このため
オフセツト印刷業界では、湿し水が不要な平版印
刷版の出現が久しく待望されていた。 近年、この要求を満たすものとして、数多くの
湿し水不要平版印刷版に関する提案がなされてい
る。 たとえば、特開昭55−59466号公報および特開
昭55−110249号公報にはノボラツク樹脂のナフト
キノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エス
テルを感光層とした湿し水不要平版印刷版が開示
されている。この印刷版はシリコーンゴム層を浸
透し、露光部のカルボン酸化合物に変化した部分
を溶解する溶媒を含浸させたブラシ、布等で表面
をこすり、露光部の感光層を溶解すると共に、上
部のシリコーン装置を剥ぎとる方法で現像を行な
つている。しかしながら、その現像速度は十分で
なく、またその速度にばらつきあり、特に乾燥雰
囲気に保存された場合に現像速度が著しく低下す
るという欠点があつた。 本発明者らは上述のような問題点を解決すべく
鋭意検討した結果、感光層として、数平均分子量
(n)が650以下で分散度〔重量平均分子量(
w)とnとの比(w/n〕が3以下である
ノボラツク型フエノール樹脂のオルトナフトキノ
ン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル
または4−スルホン酸エステルを用いると、現像
速度が速く、またその速度にばらつきがなく、し
かも乾燥雰囲気に保存された場合にも現像速度が
ほとんど変化しない事を見出し、本発明をなすに
到つた。 すなわち、本発明は支持体上に上記感光性樹脂
からなる感光層、シリコーンゴム層をこの順に塗
設してなる湿し水不要平版印刷版に関するもので
ある。 本発明の構成からなる湿し水不要平版印刷版の
現像速度が前記のようにほとんど変動しない理由
は、未だ解明されていないが、以下のように説明
できると考えられる。 即ち、従来のノボラツク樹脂のオルトナフトキ
ノンジアジドスルホン酸エステルを感光層とした
印刷版の現像速度が十分でなくまた速度が変動す
るのは、露光により生成したケテン化合物が感光
層中に存在する水分と反応して、カルボン酸化合
物が生成するばかりでなく、ノボラツク樹脂に由
来する残存水酸基と反応してエステル結合による
橋かけが一部で起こり、しかもカルボン酸化合物
とエステル結合の生成比率が露光時の感光層中に
存在する水分率によつて変動するためと考えられ
る。当然、乾燥雰囲気に保存した場合には、エス
テル結合の生成比率が高くなり現像速度がおそく
なる事は言うまでもない。 本発明で用いるnが650以下で分散度が3以
下のノボラツク型のフエノール樹脂のナフトキノ
ン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル
もしくは4−スルホン酸エステルを感光層とした
場合には、エステル結合による橋かけ構造を生成
しても、分子量および分散度が小さいため分子量
が巨大化せず現像溶媒のアルコール等に対して溶
解性がそれほど低下しないためと推測される。 以下に本発明の構造を詳細に述べる。 感光層としては、フエノールまたはクレゾール
をホルムアルデヒドと縮合して得られるnが
650以下で分散度が3以下であるノボラツク型フ
エノール樹脂のオルトナフトキノン−1,2−ジ
アジド−5−スルホン酸エステルもしくは−4−
スルホン酸エステルが用いられる。nが650よ
り大きく分散度が3より大きいノボラツク型フエ
ノール樹脂から合成した感光性樹脂は、橋かけ反
応が起つた場合、現像溶媒のエタノール等に対す
る溶解性が非常に低下するため本発明の構成には
適さない。このようなnが650以下で分散度が
3以下であるノボラツク型フエノール樹脂は、触
媒の種類、および添加量、フエノールまたはクレ
ゾールとホルムアルデヒドの仕込比、反応温度お
よび時間等を適宜コントロールする事により得る
ことができる。あるいは分別操作により得る事も
可能である。またエステル化率(IRスペクトル
から定量)は35〜100%のものが用いられる。エ
ステル化率が35%より小さい場合には露光部と未
露光部の現像溶媒に対する溶解性に差が出現しに
くい。 感光層の厚さは0.5〜5μが好ましい。薄くしす
ぎるとピンホールの原因になり、厚くしすぎると
クラツクが発生しやすくなり、また経済的な見地
からも不利となる。 感光層中にはその性能が損わない限り、必要な
添加剤、例えば顔料、染料、樹脂、可塑剤等を加
えることができる。 本発明に用いられるインキ反発層として、使用
されるシリコーンゴム層の厚みは0.5〜100μ、好
ましくは1〜50μのものが用いられる。有用なシ
リコーンゴムは次のような繰返し単位を有する分
子量数千〜数十万の線状有機ポリシロキサンを主
成分とするシリコーンゴムである。 (Rは炭素数1〜10のアルキル基あるいはフエ
ニル基であり、Rの60%以上がメチル基であるも
のが好ましい。) この線状有機ポリシロキサンは、通常末端水酸
基を有するものを用い、アセトキシシラン、ケト
オキシムシラン、アルコオキシシラン等の橋かけ
剤を存在させ有機スズ化合物等の触媒共存下に、
熱処理により橋かけし、シリコーンゴム層として
用いられる。 また必要に応じて、シリコーンゴム層と感光層
間あるいは感光層と支持体間の接着のために、層
間に公知のシリコーンプライマやシリコーンカツ
プリング剤層を設けたり、シリコーンゴム層ある
いは感光層に公知のシリコーンプライマやシラン
カツプリング剤を添加することも効果的である。 支持体としては、紙、プラスチツクフイルムま
たはシート、天然あるいは人造ゴムシート、金属
板等が用いられる。これらの支持体はハレーシヨ
ン防止その他の目的でさらにコーテイング層また
は貼合せ層を設け支持体として用いることも可能
である。 以上説明したようにして構成された湿し水不要
平版印刷版の表面を形成するシリコーンゴム層
は、きずの発生、ほこりの付着などを防止するた
めに保護フイルムを積層することもできる。有用
な保護フイルムとしては、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコー
ル、ポリエチレンテレフタレート等が挙げられ
る。 本発明に基づく湿し水不要平版印刷版は、例え
ば次のようにして製造される。まず、支持体の上
にリバースロールコータ、エアナイフコータ、メ
ーヤバーコータ等の通常のコータあるいはホエラ
のような回転塗布装置を用い、感光性物質溶液を
塗布、乾燥後、この感光層の上に同様な方法で必
要に応じて接着層を塗布、乾燥して、次いでシリ
コーンゴム溶液を同様に塗布し、通常100〜120℃
の温度で数分間熱処理して十分に硬化させシリコ
ーンゴム層を形成する。さらに必要ならば保護フ
イルムをこのシリコーンゴム層の上にラミネータ
等を用いて積層する。 このようにして製造された本発明の湿し水不要
平版印刷版は、例えば所定のパターンを有するネ
ガフイルムを真空密着して紫外線により露光され
る。紫外線を発生する光源としては、水銀灯、カ
ーボンアーク灯、キセノンランプ、メタルハライ
ドランプ、蛍光灯等を用いることができる。次い
で現像液を含浸させた布、ブラシ等の現像パツド
で表面をこすると露光部の感光層が溶解するとと
もに上部のシリコーンゴム層が容易にはぎとられ
支持体が露出する。 現像液としては、シリコーンゴム層を浸透し、
かつ露光された感光層のみを溶解するものが用い
られる。このような現像液としてはメタノール、
エタノール等のアルコール類等が好ましいが、感
光層への浸透をより容易にするため、シリコーン
層を膨潤させ得るヘキサン、ヘプタン等の脂肪族
炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類等を混合して用いることも好ましい。 以下実施例を示し、本発明をさらに詳細に説明
するが、本発明の実施の態様がこれにより限定さ
れるものではない。 実施例 1 化成処理アルミ板(住友軽金属製)にn=
434、w/n=2.1のフエノールノボラツク樹
脂のナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スル
ホン酸エステル(エステル化率74%)の7重量%
ジオキサン溶液をホエラで回転塗布後100℃で3.5
分間乾燥させて2.4μの感光層を形成した。この上
にγ−アミノプロピルトリエトキシシラン
(UCC製、A−1100)の0.5重量%〓アイソパー”
(エツソ製)溶液をホエラで回転塗布後、120℃、
30秒間乾燥した。この上に次の組成をもつシリコ
ーン組成物の7%〓アイソパー”溶液をホエラで
回転塗布後、120℃、3.5分間加熱した。 (a) ポリジメチルシロキサン(分子量約8万、末
端OH基) 100部 (b) エチルトリアセトキシシラン 5部 (c) ジブチル錫アセテート 0.2部 得られたシリコーンゴム層の厚みは2.3μであつ
た。 上記のようにして得られた印刷原版を23℃×60
%RHおよびシリカゲル上のデシケータ中に7日
間保存後、真空密着した100μ〜15mmの線巾の直
線画像を有するネガフイルムを通してメタルハラ
イドランプ(岩崎電気製〓アイドルフイン”
2000)を用い、1mの距離から60秒露光した。次
いで版面を現像液のエタノールに1分間浸漬した
後、パツド(川島織物製、〓ロングランカーペツ
ト”)で10g/cm2の荷重下にこすると、露光部は
除去され化成処理アルミ表面が露出したネガフイ
ルムに忠実な画像が得られた。この時、現像速度
として支持体表面が露出するまでのこすり回数を
求めた。その結果を次の3つの比較例とともに表
1に揚げた。 比較例 1 実施例1の感光層をn=818、w/n=
5.6のフエノールノボラツク樹脂のナフトキノン
−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル
(エステル化率58%)にかえて、同一条件で保存
後、露光現像した。 比較例 2 実施例1の感光層をn=608、w/n=
3.8のフエノールノボラツク樹脂のナフトキノン
−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル
(エステル化率64%)にかえて、同一条件で保存
後、露光現像した。 比較例 3 実施例1の感光層をn=713、w/n=
2.5のフエノールノボラツク樹脂のナフトキノン
−1.2−ジアジド−5−スルホン酸エステル(エ
ステル化率63%)にかえて、同一条件で保存後、
露光現像した。
【表】 表1のデータから、実施例1では現像速度が非
常に速いのに対し、比較例1,2,3ともおそい
ことがわかる。とくにシリカゲルデシケータ中に
保存した場合には、その差がさらに顕著になり、
実施例1では現像速度がほとんど変らないのに対
し、比較例1,2,3とも大略2倍おそくなつ
た。 実施例 2 厚さ0.25mmのポリエチレンテレフタレートのフ
イルムの上に、厚さ0.25mmのシヨアAゴム硬度70
のニトリルゴム層を設けた支持体の上に、n=
620、w/n=2.6のフエノールノボラツク樹
脂のナフトキノン1,2−ジアジド−5−スルホ
ン酸エステル(エステル化率61%)を感光層とす
る印刷原版を実施例1と同一な方法で得、評価し
た。 現像速度は23℃×60%RH×7日保存で8回、
23℃×シリカゲルデシケータ×7日保存で9回で
あつた。 実施例 3 実施例1の感光層をn=403、w/n=
1.7のフエノールノボラツク樹脂のナフトキノン
1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル(エ
ステル化率66%)にかえて製造し、評価した。 現像速度は23℃×60%RH×7日保存で4回、
23℃×シリカゲルデシケータ×7日保存で6回で
あつた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 支持体上にオルトナフトキノンジアジド化合
    物からなる感光層、シリコーンゴム層をこの順に
    塗設してなる湿し水不要平版印刷版において、オ
    イルナフトキノンジアジド化合物として数平均分
    子量(n)が650以下で分散度〔重量平均分子
    量(w)とnとの比(w/n〕が3以下
    であるノボラツク型フエノール樹脂のオルトナフ
    トキノンジアジドスルホン酸エステルを用いたこ
    とを特徴とする湿し水不要平版印刷版。
JP876283A 1983-01-24 1983-01-24 湿し水不要平版印刷版 Granted JPS59135471A (ja)

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EP1249341A1 (en) * 2001-04-09 2002-10-16 Agfa-Gevaert Lithographic printing plate precursor
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