JPH0356673A - 蒸着装置 - Google Patents
蒸着装置Info
- Publication number
- JPH0356673A JPH0356673A JP1190984A JP19098489A JPH0356673A JP H0356673 A JPH0356673 A JP H0356673A JP 1190984 A JP1190984 A JP 1190984A JP 19098489 A JP19098489 A JP 19098489A JP H0356673 A JPH0356673 A JP H0356673A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resistance
- vapor deposition
- evaporated
- substrate
- shutter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は薄膜抵抗体等の成膜を行う蒸着装置に関する。
従来の技術
従来のこの種の蒸着装置は第4図のような運転方法をと
っていた。
っていた。
すなわち真空チャンバー1内において、材料2を蒸発さ
せ、基板3に蒸着させる。このとき水晶振動子を応用し
た膜厚計5により、戒膜速度と最終膜厚を管理するよう
になっている。
せ、基板3に蒸着させる。このとき水晶振動子を応用し
た膜厚計5により、戒膜速度と最終膜厚を管理するよう
になっている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記のような方式では合金の蒸着膜を得よ
うとする場合、合金成分の平衡蒸気圧と質量が異なるた
め、もとの材料の組成と一致しない。しかも、蒸発によ
って時間とともに合金の組成が変わるため、できる薄膜
の組成もまた時間とともに変わり、抵抗体として使用が
難しいという問題点を有していた。
うとする場合、合金成分の平衡蒸気圧と質量が異なるた
め、もとの材料の組成と一致しない。しかも、蒸発によ
って時間とともに合金の組成が変わるため、できる薄膜
の組成もまた時間とともに変わり、抵抗体として使用が
難しいという問題点を有していた。
本発明は蒸気問題点に鑑み、合金を蒸着して抵抗体を得
る場合にも、所定の特性を再現性良く得られるようにす
るものである。
る場合にも、所定の特性を再現性良く得られるようにす
るものである。
課題を解決するための手段
そして上記問題点を解決する本発明の技術的な手段は、
真空チャンバー内に面抵抗を測定する威膜モニタ等のセ
ンサ部を備えて、蒸着を行うものである。
真空チャンバー内に面抵抗を測定する威膜モニタ等のセ
ンサ部を備えて、蒸着を行うものである。
作 用
本発明は上記した構成によって、蒸着薄膜の面抵抗を測
定,監視することにより、所定の面抵抗をもった合金薄
膜抵抗の成満が可能となる。
定,監視することにより、所定の面抵抗をもった合金薄
膜抵抗の成満が可能となる。
実施例
以下、本発明の一実施例を添付図面にもとづいて説明す
る。
る。
第1図において、真空チャンバー1内に蒸着材料2と基
板3、その間にシャッター4が配置されている。
板3、その間にシャッター4が配置されている。
また、チャンバー内の抵抗センサー6からの信号により
、制御回路7がシャッター駆動用電磁弁11に接続され
ている。
、制御回路7がシャッター駆動用電磁弁11に接続され
ている。
以上のように構成された蒸着制御回路について、以下第
1図及び第2図を用いてその動作を説明する。蒸着材料
6を加熱蒸発を開始し、蒸着材料表面の酸化物等を除去
した後、シャッター4を開け、基板3に材料2を蒸着し
始める。抵抗センサー6には蒸発金属が指積し、第3図
のように時間とともに、その膜圧が増加するので、抵抗
値が減少する。この抵抗値を制御回路7により計測する
とともに、第2図に示す抵抗センサ6の幅と長さより面
抵抗を計量する。所望の面抵抗が得られた時点で、電磁
弁8に信号を送り、シャッター4を閉し、蒸着を終了す
る。
1図及び第2図を用いてその動作を説明する。蒸着材料
6を加熱蒸発を開始し、蒸着材料表面の酸化物等を除去
した後、シャッター4を開け、基板3に材料2を蒸着し
始める。抵抗センサー6には蒸発金属が指積し、第3図
のように時間とともに、その膜圧が増加するので、抵抗
値が減少する。この抵抗値を制御回路7により計測する
とともに、第2図に示す抵抗センサ6の幅と長さより面
抵抗を計量する。所望の面抵抗が得られた時点で、電磁
弁8に信号を送り、シャッター4を閉し、蒸着を終了す
る。
発明の効果
以上のように本発明は真空蒸着装置において、蒸着モニ
タとして面抵抗測定装置を設けることにより、蒸気圧の
異なる合金を蒸着して、所望の電気特性を持つ薄膜抵抗
体を作製することができる。
タとして面抵抗測定装置を設けることにより、蒸気圧の
異なる合金を蒸着して、所望の電気特性を持つ薄膜抵抗
体を作製することができる。
第1図は本発明の一実施例における真空蒸着装置のブロ
ック図、第2図は抵抗センサーの要部斜視図、第3図は
面抵抗と時間との関係図、第4図は従来の真空蒸着装置
のブロック図である。 6・・・・・・抵抗センサー、7・・・・・・制御回路
。
ック図、第2図は抵抗センサーの要部斜視図、第3図は
面抵抗と時間との関係図、第4図は従来の真空蒸着装置
のブロック図である。 6・・・・・・抵抗センサー、7・・・・・・制御回路
。
Claims (1)
- 真空を維持した密閉室のチャンバーと、チャンバー内に
設けられた蒸発可能な材料と、この材料と対向して設け
られ、蒸発した材料の蒸着膜を形成可能な対象部と、こ
の対象部と材料との間に設けられた開閉可能なシャッタ
ー部と、このシャッター部を開閉可能に制御する制御部
と、蒸発膜を形成可能で、かつこの蒸発膜の幅と長さよ
り面対向を算出し、所定値の時、制御部に信号を送信可
能なセンサ部とを有した蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1190984A JPH0356673A (ja) | 1989-07-24 | 1989-07-24 | 蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1190984A JPH0356673A (ja) | 1989-07-24 | 1989-07-24 | 蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0356673A true JPH0356673A (ja) | 1991-03-12 |
Family
ID=16266927
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1190984A Pending JPH0356673A (ja) | 1989-07-24 | 1989-07-24 | 蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0356673A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018529014A (ja) * | 2015-09-21 | 2018-10-04 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 堆積速度を測定するための測定アセンブリ及びその方法 |
-
1989
- 1989-07-24 JP JP1190984A patent/JPH0356673A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018529014A (ja) * | 2015-09-21 | 2018-10-04 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 堆積速度を測定するための測定アセンブリ及びその方法 |
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