JPH0361506B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、タイルに釉薬を均一塗布するように
した釉薬などの塗布装置に関するものである。

〔従来の技術〕 第３図乃至第５図は、従来の施釉装置１を示す
ものである。この装置１は、釉薬ノズル２の上方
にエアーノズル３を配置し、これらのノズル２及
び３の先細りとなつた吐出口を互いに近接させて
いる。そして、両ノズル２及び３を一組とし、こ
れを複数組設けている。各ノズル２及び３は、釉
薬の供給源に連通する供給管４及び圧縮エアーの
供給源に連通する供給管５より分岐された多岐管
構造を呈している。このような塗布装置１は、も
ちろんのことながら周囲を閉鎖された施釉ブース
（図示せず）内に配され、施釉時に釉薬が外部へ
飛散しないようになされている。該装置１の施釉
方法は、釉薬ノズル２より吐出される釉薬をエア
ーノズル３からの圧縮エアーで霧状にして下方へ
吹き飛ばすことで、該装置１の下方へ配された搬
送装置上のタイル表面を施釉するものである。

〔発明が解決しようとする課題〕

而して、従来の上記釉薬ノズル２にあつては、
第６図に示す如く、その内部側の先端先細り部分
に釉薬および不純物が付着成長し、また外部側の
先端先細り部分にも釉薬が付着成長することがあ
つた。上記内部側への付着は、釉薬がある程度の
粘性を有するため先細りとなつた部分の壁面抵抗
により付着しやすくなること、それに釉薬中にフ
イルターを通過した不純物が含まれていることな
どが原因である。また外部側への付着は、施釉ブ
ース内において噴霧流体の対流があり（第６図の
鎖線参照）、該対流により施釉ブース内を浮遊す
る霧状の釉薬が逐次釉薬ノズル２へ付着し、乾燥
して成長すること、および釉薬ノズル２より吐出
される釉薬が圧縮エアーにより押し戻され、乾燥
して成長することが原因である。

このように釉薬ノズル２の吐出口の内外面へ釉
薬などが付着して成長すると、その開口面積を減
少させることになり、経時的に釉薬の塗布量が変
化するという欠点があつた。つまり、各タイル間
において、均一な塗布が行えないでいた。

それで、従来にあつては、釉薬の塗布量の変化
が許容範囲を越えない約15分間の施釉作業ごとに
釉薬ノズル２の外部側に付着した釉薬をブラシな
どによる手作業で洗浄しなければならなかつた。
また釉薬ノズル２の内部側に付着した釉薬は、約
１時間の施釉作業ごとに針金などによる手作業で
洗浄しなければならなかつた。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、従来の前記欠点に鑑みてこれを改良
除去したものであつて、吐出口への釉薬等の付着
成長がなく、しかも切換弁の操作のみで塗布作業
と洗浄作業との切り換えを瞬時且つ自動的に行う
ことのできる装置を提供せんとするものである。

而して、前記課題を解決するために本発明が採
用した手段は、先端面に釉薬又は洗浄水などの内
部流体の吐出口を備え、かつ外周側面に螺旋溝を
形成してなるノズルチツプと、該ノズルチツプの
先端側に外嵌され、後端側に前記螺旋溝へ連通す
る空洞部を備えた塗布器本体と、該塗布器本体の
先端側外周へ外嵌され、該塗布器本体の先端部分
との間に環状溝を形成し、かつ側面の適所に洗浄
水の流入口を、また前記ノズルチツプの吐出口と
対応する部分に流出口を備えてなる洗浄カバー
と、前記ノズルチツプの後端側に外嵌されると共
に前記塗布器本体の空洞部側壁へ内嵌され、前記
ノズルチツプの内部流体の流路に連通する流路及
び前記塗布器本体の空洞部へ連通する圧縮エアー
の流路とを備えてなる流体取入器と、釉薬及び洗
浄水などの二種流体の流入口及び流出口をそれぞ
れ２つずつ有し、かつ内部の流体室にスプールを
備え、一方の流出口が前記流体取入器の流路へ連
通され、他方の流出口が前記洗浄カバーの洗浄水
流入口へ連通される切換弁とで構成したことを特
徴とする塗布装置である。

〔作用〕

ノズルチツプの吐出口から吐出される釉薬等
は、その周囲の環状溝から螺旋状に吐出される圧
縮エアーにより、周囲への飛散が防止される。そ
して、この塗布作業状態から切換弁のスプールを
切り換えることにより、ノズルチツプの内外に形
成された両流路へ洗浄水を瞬時に切り換えて供給
することができ、ノズル先端の内外面を極めて容
易に且つ自動的に洗浄することが可能である。ま
たこのスプールの切換動作は、ソレノイド等を利
用して瞬時且つ自動的に行うことが可能であり、
制御が極めて容易である。

〔実施例〕

次に本発明の構成を図面に示す具体的な実施例
に基づいて説明する。

第１図は、本発明の塗布装置１０を示す縦断面
図である。同図において、１１は塗布ノズル、１
２は切換弁である。塗布ノズル１１は、ノズルチ
ツプ１３、塗布器本体１４、洗浄カバー１５、流
体取入器１６とで構成されている。ノズルチツプ
１３は、先端面に釉薬又は洗浄水などの内部流体
の吐出口１７を備え、かつ外周側面に螺旋溝１８
（第２図参照）を有している。塗布器本体１４は、
ノズルチツプ１３の先端側に外嵌され、後端側に
前記螺旋溝１８へ連通する空洞部１９を有してい
る。洗浄カバー１５は、前記塗布器本体１４の先
端側外周へ外嵌され、該塗布器本体１４の先端部
分との間に環状溝２０を形成する。そして、側面
の適所に洗浄水の流入口２１を、また前記ノズル
チツプ１３の吐出口１７と対応する部分に流出口
２２を備えている。

なお、上記洗浄水の流入口２１は、第１図にあ
つては、左右に２つが示されているが、実際には
全周に４個のものが等間隔で形成されている。こ
れは、環状溝２０が圧力室として働くので１個で
あつても充分である。４個設けた理由は、洗浄水
が流出口２２へ全周方向からより均一に流れるよ
うにするためである。

流体取入器１６は、前記ノズルチツプ１３の後
端側に外嵌されると共に前記塗布器本体１４の空
洞部１９の側壁へ内嵌され、前記ノズルチツプ１
３の内部流体の流路２３に連通する流路２４及び
前記塗布器本体１４の空洞部１９へ連通する圧縮
エアーの流路２５とを備えている。この圧縮エア
ーの流路２５も、第１図では、左右に２つが示さ
れているが、実際には全周に４個のものが等間隔
で形成されている。この場合は、流路２５と空洞
部１９とを連通する環状の通路２５ａ及び空洞部
１９が圧力室として働くので、流路２５が１個で
あつても、圧縮エアーは各螺旋溝１８へ均一に流
れるものである。４個設けた理由は、前記流入口
２１の場合と同じである。

一方、切換弁１２は、外部と内部のケーシング
２６及び２７と、蓋部材２８と、内部ケーシング
２７内の流体室２９へ摺動自在に配されたスプー
ル３０とで構成されている。外部ケーシング２６
は、釉薬と洗浄水などの二種流体の流入口３１，
３２と流出口３３，３４とを有している。流出口
３３は、前記塗布ノズル１１の流体取入器１６の
流路２４へ螺子嵌合などにより接続され、流出口
３４は、前記洗浄カバー１５の流入口２１へ配管
（図示せず）などにより接続されている。内部ケ
ーシング２７は、流入ポート３５，３６と、流出
ポート３７，３８，３９とを有している。スプー
ル３０は、前記流体室２９にあつて、これらのポ
ート３５乃至３９を開閉制御することで、釉薬又
は洗浄水の塗布ノズル１１への供給・遮断を行う
ものである。該スプール３０の移動は、この実施
例ではタイマー装置により所定時間ごとにオン・
オフされるソレノイド（いずれも図示せず）で、
弁軸４０を左右に移動させて行うようにしてい
る。

なお、上述の塗布装置１０が図示しない施釉ブ
ース内に配置されて使用されるものであること
は、従来の場合と同じである。

次に本発明の塗布ノズルと塗布装置の動作態様
を上述の実施例に基づいて説明する。なお、ここ
での二種流体は、釉薬と洗浄水とする。

先ず、塗布装置１０による釉薬の塗布動作を説
明する。この場合は、ソレノイドを切換操作して
スプール３０の弁軸４０を第１図の左方向へ移動
させ、スプール３０を同図の鎖線の位置から実線
の位置へ移動させる。これにより、内部ケーシン
グ２７の流入ポート３６と流出ポート３８が閉塞
される。このような状態において、釉薬を切換弁
１２の流入口３１へ供給し、また、エアーコンプ
レツサーなどの圧縮エアーの供給源より塗布ノズ
ル１１の流路２５へ圧縮エアーを供給する。釉薬
は、流入口３１から内部ケーシング２７の流入ポ
ート３５を経て流体室２９へ流入し、流出ポート
３７から外部ケーシング２６の流出口３３へ流れ
る。そして、塗布ノズル１１の流路２４及び２３
を経てノズルチツプ１３の吐出口１７から吐出さ
れる。一方、流路２５へ供給された圧縮エアー
は、塗布器本体１４の空洞部１９からノズルチツ
プ１３の螺旋溝１８へ流入し、ノズルチツプ１３
の先端外周面と塗布器本体１４の先端内周面との
間の環状通路４１を通つてノズル開口部４２から
螺旋状に噴出される。

前記ノズルチツプ１３の吐出口１７より吐出さ
れる釉薬は霧状であるが、さらにノズル開口部４
２において、螺旋状に噴出される圧縮エアーによ
り粉砕され、より微細化されて螺旋状態で噴出さ
れる。そして、螺旋状に混合されることで霧化さ
れた釉薬の混合状態に均一なものが得られ、従来
に比較してより優れた釉薬の均一塗布が可能であ
る。それに、塗布ノズル１１のノズルチツプ１３
は、前述の如く、その外周側に塗布器本体１４が
配置されて、圧縮エアーが噴出されており、しか
も塗布器本体１４の外周には洗浄カバー１５が配
置されている。そういう理由で、図示しない施釉
ブース内を対流する霧状の釉薬が直接ノズルチツ
プ１３の外周面に付着して成長することはありえ
ない。

ところで、塗布ノズル１１より噴出される上記
霧状釉薬の塗布範囲は、ノズルチツプ１３の螺旋
溝１８の傾斜角度を変更することで拡大・縮小す
ることが可能である。また塗布量については、ノ
ズルチツプ１３の吐出口１７の数を増減すること
で変更することが可能である。これらの、塗布範
囲と塗布量の変更は、螺旋溝１８の傾斜角度と吐
出口１７の数を変えたものを、あらかじめ製作準
備しておけば、その段取り変えが容易である。

次に、塗布装置１０の洗浄動作について説明す
る。この場合は、ソレノイドを切換操作して弁軸
４０を第１図の右方向へ移動させ、スプール３０
を同図の実線の位置から鎖線の位置へ移動させ
る。この鎖線状態にあつては、内部ケーシング２
７の流入ポート３５が閉塞され、流入ポート３６
と流出ポート３８が開となる。つまり、釉薬の流
体室２９への供給が遮断され、代わりに洗浄水が
流体室２９へ供給されるようになる。流体室２９
へ供給された洗浄水は、流出ポート３８から外部
ケーシング２６の流出口３３へ供給され、また流
出ポート３９から外部ケーシング２６の流出口３
４へ供給される。流出口３３へ供給された洗浄水
は、塗布ノズル１１の流路２４及び２３を通つて
ノズルチツプ１３へ至り、吐出口１７から吐出さ
れる。このとき、洗浄水はノズルチツプ１３の内
部を洗浄するものである。また切換弁１２の流出
口３４へ供給された洗浄水は、配管などを介して
洗浄カバー１５の流入口２１へ送られる。そし
て、環状溝２０から流出口２２を経て吐出され
る。このとき、上記洗浄水は、ノズルチツプ１３
の先端面及び塗布器本体１４の外周面を洗浄す
る。

ところで、流路２５には常時、圧縮エアーが供
給されており、ノズルチツプ１３と塗布器本体１
４との間の環状通路４１からは螺旋状に圧縮エア
ーが噴出されている。これは、上述の洗浄時であ
つても、同じことである。それで、上述のノズル
チツプ１３の内部と先端面および塗布器本体１４
の外周面を洗浄する洗浄水は、螺旋状に噴出され
る圧縮エアーにより撹拌され、螺旋状になつてノ
ズル開口部４２を効率よく洗浄するものである。
これは、洗浄カバー１５の流入口２１から流出口
２０へ流れる洗浄水が、ノズルチツプ１３の吐出
口１７から吐出される洗浄水およびノズルチツプ
１３と塗布器本体との間から噴出される圧縮エア
ーの流れを遮断する方向へ供給されるためであ
る。この洗浄時にあつて、タイルなどの被塗布体
は、該塗布装置１０の下方に供給されるものでな
いことは、当然である。

この実施例にあつて、上述の塗布動作と洗浄動
作は、ソレノイドを切換操作してスプール３０を
第１図の鎖線の位置と実線の位置へ移動させるこ
とで自動的に行うことができる。しかも、自動洗
浄であるため、従来の手作業の場合に比較して短
時間で行うことができ、生産性の向上が図れる。
それに、ノズルチツプ１３の内部及び外部を効率
よく自動洗浄できるので、釉薬の付着成長による
塗布量の変化が少なく、均一塗布が図れる。

なお、本発明の塗布装置は、上述の実施例のも
のに限定されるものではなく、適宜の変更が可能
である。また本装置は、単独使用の他に、並列的
に配置して複数個のものを同時に使用することも
可能である。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明の塗布装置にあつて
は、ノズルチツプの内部および外部を自動洗浄す
ることが可能であり、従来の手作業による洗浄に
比較して、短時間で行えるものである。それに、
螺旋状に洗浄水を旋回させて洗浄しており、優れ
た洗浄効果が得られる。更には、洗浄に要する時
間が短く、しかも効率よい洗浄が行えるので、洗
浄回数を多くすることができ、ノズルチツプの内
部および先端面において、釉薬などの塗布流体の
付着成長する度合が少ない。すなわち、塗布量に
与える影響が少なく、経時的に変化する塗布量の
バラツキが少ないものである。

それに加えて、本発明の塗布装置にあつては、
塗布量及び塗布範囲の変更を容易に行うことがで
きる。しかも、霧状に吐出された釉薬などの塗布
流体を螺旋状に旋回させて噴出しており、塗布流
体の均一混合が図れ、均一な塗布が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る塗布装置の縦断面図、第
２図はそのノズルチツプを示す斜視図、第３図乃
至第６図は従来の施釉装置に係るもので、第３図
は同装置の側面図、第４図は平面図、第５図は正
面図、第６図は同装置の釉薬ノズルとエアーノズ
ルの拡大断面図である。 １７……吐出口、１８……螺旋溝、１３……ノ
ズルチツプ、１９……空洞部、１４……塗布器本
体、２０……環状溝、２１……洗浄水流入口、２
２……流体水流出口、１５……洗浄カバー、１６
……流体取入器、３１，３２……流入口、３３，
３４……流出口、２９……流体室、３０……スプ
ール、１２……切換弁。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 先端面に釉薬又は洗浄水などの内部流体の吐
   出口を備え、かつ外周側面に螺旋溝を形成してな
   るノズルチツプと、該ノズルチツプの先端側に外
   嵌され、後端側に前記螺旋溝へ連通する空洞部を
   備えた塗布器本体と、該塗布器本体の先端側外周
   へ外嵌され、該塗布器本体の先端部分との間に環
   状溝を形成し、かつ側面の適所に洗浄水の流入口
   を、また前記ノズルチツプの吐出口と対応する部
   分に流出口に備えてなる洗浄カバーと、前記ノズ
   ルチツプの後端側に外嵌されると共に前記塗布器
   本体の空洞部側壁へ内嵌され、前記ノズルチツプ
   の内部流体の流路に連通する流路及び前記塗布器
   本体の空洞部へ連通する圧縮エアーの流路とを備
   えてなる流体取入器と、釉薬及び洗浄水などの二
   種流体の流入口及び流出口をそれぞれ２つずつ有
   し、かつ内部の流体室にスプールを備え、一方の
   流出口が前記流体取入器の流路へ連通され、他方
   の流出口が前記洗浄カバーの洗浄水流入口へ連通
   される切換弁とで構成したことを特徴とする塗布
   装置。