JPH0361862B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0361862B2 JPH0361862B2 JP60158240A JP15824085A JPH0361862B2 JP H0361862 B2 JPH0361862 B2 JP H0361862B2 JP 60158240 A JP60158240 A JP 60158240A JP 15824085 A JP15824085 A JP 15824085A JP H0361862 B2 JPH0361862 B2 JP H0361862B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve
- valve plate
- vacuum valve
- shield
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- NMFHJNAPXOMSRX-PUPDPRJKSA-N [(1r)-3-(3,4-dimethoxyphenyl)-1-[3-(2-morpholin-4-ylethoxy)phenyl]propyl] (2s)-1-[(2s)-2-(3,4,5-trimethoxyphenyl)butanoyl]piperidine-2-carboxylate Chemical compound C([C@@H](OC(=O)[C@@H]1CCCCN1C(=O)[C@@H](CC)C=1C=C(OC)C(OC)=C(OC)C=1)C=1C=C(OCCN2CCOCC2)C=CC=1)CC1=CC=C(OC)C(OC)=C1 NMFHJNAPXOMSRX-PUPDPRJKSA-N 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Sliding Valves (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、真空バルブに係り、特に、ビーム通
路の途中に取付けられ、106Torr・／Ｓ以下の
リーク量を要求される個所に好適な真空バルブに
関する。
路の途中に取付けられ、106Torr・／Ｓ以下の
リーク量を要求される個所に好適な真空バルブに
関する。
イオン、あるいは中性粒子ビームがその通路や
ビームリミタに衝突し、該金属が周囲をスパツタ
するのは周知である。しかし、スパツタ金属が○
リングに付着し、亀裂を発生させ、○リングのシ
ール性能を低下させることは知られておらず、従
つて、スパツタシールドを備えた超高真空弁はな
かつた。尚、此種装置に関連するものとしては、
例えば特開昭56−65981号公報が挙げられる。
ビームリミタに衝突し、該金属が周囲をスパツタ
するのは周知である。しかし、スパツタ金属が○
リングに付着し、亀裂を発生させ、○リングのシ
ール性能を低下させることは知られておらず、従
つて、スパツタシールドを備えた超高真空弁はな
かつた。尚、此種装置に関連するものとしては、
例えば特開昭56−65981号公報が挙げられる。
本発明の目的は、シール用○リングがスパツタ
されないように、ビーム発射中、つまり、弁板引
抜き時は、ビーム通路にスパツタシールドが配置
される真空バルブを提供することにある。
されないように、ビーム発射中、つまり、弁板引
抜き時は、ビーム通路にスパツタシールドが配置
される真空バルブを提供することにある。
本発明はバルブ閉時、つまりビームを発射しな
い時は、弁板の移動を妨げない位置にあり、バル
ブ開時、つまり、ビーム発射時にはビーム通路に
来るようなスパツタシールドを設けたものであ
る。
い時は、弁板の移動を妨げない位置にあり、バル
ブ開時、つまり、ビーム発射時にはビーム通路に
来るようなスパツタシールドを設けたものであ
る。
第１図および第２図により本発明を説明する。
第１図はバルブ閉の状態を示し、SUS304ある
いは、Mo板等高融点金属で製作されたスパツタ
シールド１は、バルブ本体７の照射側のスペース
に引き込まれており、弁板３は弁押し４によりロ
ツド６の上方のエヤシリンダ等（図示せず）から
の推力でリンク５を介し、バルブ本体７に押付け
られ弁板３に装置された○リング２を押し、ビー
ム源側と照射側を真空的に切離している。
いは、Mo板等高融点金属で製作されたスパツタ
シールド１は、バルブ本体７の照射側のスペース
に引き込まれており、弁板３は弁押し４によりロ
ツド６の上方のエヤシリンダ等（図示せず）から
の推力でリンク５を介し、バルブ本体７に押付け
られ弁板３に装置された○リング２を押し、ビー
ム源側と照射側を真空的に切離している。
ビームＢを発射する際は、弁板３が上方に引き
上げられる。このときの状態を第２図に示す。弁
板３が上方に引き上げられると、スパツタシール
ド１はバルブ本体の照射側スペースから、リン
ク、又はラツク、あるいはピニオン方式（図示せ
ず）により、ビーム源側に移動し、弁板３の引込
部を閉鎖する。図中８はベローズである。
上げられる。このときの状態を第２図に示す。弁
板３が上方に引き上げられると、スパツタシール
ド１はバルブ本体の照射側スペースから、リン
ク、又はラツク、あるいはピニオン方式（図示せ
ず）により、ビーム源側に移動し、弁板３の引込
部を閉鎖する。図中８はベローズである。
本実施例によれば、ビーム発射中に発生する蒸
発金属はスパツタシールド１にさえぎられ、○リ
ング２に到達しないという効果がある。
発金属はスパツタシールド１にさえぎられ、○リ
ング２に到達しないという効果がある。
本発明によれば、ビーム発射中に発生する蒸発
金属はスパツタシールドにさえぎられ、○リング
には到達しないので○リングがスパツタされるこ
とはなく、従つて亀裂と生じることが無く、真空
バルブとしてのシール性能が維持できる。
金属はスパツタシールドにさえぎられ、○リング
には到達しないので○リングがスパツタされるこ
とはなく、従つて亀裂と生じることが無く、真空
バルブとしてのシール性能が維持できる。
第１図は本発明の一実施例のスパツタシールド
を設け閉時の真空バルブの断面図、第２図は本発
明のスパツタシールドを設け開時の真空バルブの
断面図である。 １……スパツタシールド、２……○リング、３
……弁板、４……弁押し、５……リンク、６……
ロツド、７……バルブ本体、８……ベローズ。
を設け閉時の真空バルブの断面図、第２図は本発
明のスパツタシールドを設け開時の真空バルブの
断面図である。 １……スパツタシールド、２……○リング、３
……弁板、４……弁押し、５……リンク、６……
ロツド、７……バルブ本体、８……ベローズ。
Claims (1)
- １ 弁板とシールリングとから成り、ビームが発
射されてない時にはビーム通路を閉じ、ビーム発
射中はバルブ本体収納部に収納されている真空バ
ルブにおいて、ビームが発射されない時には前記
弁板の移動を妨げない位置にあり、ビーム発射中
には真空バルブが収納されている収納部の開口部
を塞ぐようにビーム通路に移動可能なスパツタシ
ールドを設けたことを特徴とする真空バルブ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60158240A JPS6220973A (ja) | 1985-07-19 | 1985-07-19 | 真空バルブ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60158240A JPS6220973A (ja) | 1985-07-19 | 1985-07-19 | 真空バルブ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6220973A JPS6220973A (ja) | 1987-01-29 |
| JPH0361862B2 true JPH0361862B2 (ja) | 1991-09-24 |
Family
ID=15667326
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60158240A Granted JPS6220973A (ja) | 1985-07-19 | 1985-07-19 | 真空バルブ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6220973A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4980794B2 (ja) * | 2007-05-24 | 2012-07-18 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子ビーム装置 |
| JP4561814B2 (ja) * | 2007-11-21 | 2010-10-13 | Ｔｄｋ株式会社 | ミリング装置 |
| DE102008049353A1 (de) | 2008-09-29 | 2010-04-08 | Vat Holding Ag | Vakuumventil |
| JP4997361B2 (ja) * | 2009-03-05 | 2012-08-08 | Ｓｍｃ株式会社 | 真空バルブ |
| CN114657538B (zh) * | 2022-03-25 | 2024-02-02 | 厦门韫茂科技有限公司 | 一种连续式ald镀膜设备的腔体结构 |
-
1985
- 1985-07-19 JP JP60158240A patent/JPS6220973A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6220973A (ja) | 1987-01-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| GB1518511A (en) | Exhaust brake valve assembly | |
| ES465517A1 (es) | Perfeccionamientos en accionadores de control de turboso- brealimentadores. | |
| JPH0361862B2 (ja) | ||
| GB2214273A (en) | Vacuum tight treatment chamber | |
| GB1293666A (en) | An improved poppet valve for internal combustion engines | |
| JP4824700B2 (ja) | 真空装置用仕切りバルブ | |
| CA2185295A1 (en) | Neutron beam generator | |
| US4383693A (en) | Seals for ducts | |
| CA2160422A1 (en) | Rotary anode type x-ray tube and method of manufacturing the same | |
| JP2631594B2 (ja) | ゲートバルブ | |
| US5293693A (en) | Vacuum valve design for die casting | |
| JPS58178066A (ja) | 高速真空ゲ−トバルブ | |
| GB1505604A (en) | Electronbombardment welding machines | |
| JPH0612604Y2 (ja) | 電子ビ−ム加工装置 | |
| JPS5845780B2 (ja) | 電子銃 | |
| JPS5913587A (ja) | 電子ビ−ム溶接装置 | |
| JPH04282080A (ja) | 炉における開口部の構造 | |
| US4371773A (en) | Stud welding device | |
| JPH0355238Y2 (ja) | ||
| JPS6111440B2 (ja) | ||
| JPH01228680A (ja) | 電子ビーム加工装置 | |
| JPS619191U (ja) | 電子ビ−ム溶接装置 | |
| JPS6026868A (ja) | 高真空装置用遮断弁装置 | |
| JPH1199326A (ja) | 真空ゲートバルブ及びこれを用いた真空処理装置 | |
| DE133491C (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |