JPH0363731B2 - - Google Patents

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JPH0363731B2
JPH0363731B2 JP58092082A JP9208283A JPH0363731B2 JP H0363731 B2 JPH0363731 B2 JP H0363731B2 JP 58092082 A JP58092082 A JP 58092082A JP 9208283 A JP9208283 A JP 9208283A JP H0363731 B2 JPH0363731 B2 JP H0363731B2
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color
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Nobuo Sakai
Masaki Okazaki
Yoshio Inagaki
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は二当量マゼンタカプラーを含むカラー
感光材料に関するものである。更に言えば二当量
マゼンタカプラーを含む感材を現像処理する際に
生ずるステインの防止方法に関するものである。 マゼンタ色素形成カプラー(以下「マゼンタカ
プラー」という)としては種々のピラゾロン誘導
体が知られている。しかしながら、通常写真感光
材料に使用されているピラゾロン誘導体は四当量
カプラーである。すなわち芳香族一級アミン系カ
ラー現像主薬と反応し、1モルの色素を形成する
のに理論的に4モルのハロゲン化銀の現像を必要
とする。これに対して芳香族一級アミン現像主薬
の酸化生成物と酸化カツプリングして離脱する基
で置換された活性メチレン基を有するピラゾロン
類は2モルのハロゲン化銀の現像を必要とするの
みである。しかも、四当量ピラゾロン誘導体は発
色効率(カプラーの色素への変換率)が低く、通
常カプラー1モル当り約1/2モル程度しか色素が
形成しない。 現像に必要なハロゲン化銀量を低減させ、発色
効率を改良する方法としてはピラゾロン型マゼン
タカプラーの二当量化による方法が古くから提案
されている。 酸素原子を離脱するピラゾロン誘導体としては
例えば5−ピラゾロンの4位にアリールオキシ基
を有する化合物が米国特許第3419391号に、アル
キルオキシ基を有する化合物が特公昭53−46453
号に記載されている。 窒素原子を離脱するピラゾロン誘導体としては
例えば5−ピラゾロンの4位にイミダゾリル基、
ピラゾリル基、トリアゾリル基等を有する化合物
が米国特許第4076533号、米国特許第4241168号
に、ピリドニル基、2−オキソピペリジニル基等
を有する化合物が米国特許第4220470号に、スル
ホンアミド基等を有する化合物が米国特許第
4237217号に記載されている。 一方、イオウ原子を離脱するピラゾロン誘導体
としては、例えば、5−ピラゾロンの4位に、ヘ
テロ環チオ基、アリールチオ基を有する化合物が
米国特許第3227554号、米国特許第4263723号、特
公昭53−34044号に、チオシアノ基を有する化合
物が米国特許第3214437号に、ジオチカルバメー
ト基を有する化合物が米国特許第4032346号に記
載されている。これらの化合物を合成するには四
当量ピラゾロンからほとんどの場合、1工程で合
成できるという利点を有している他、感度や当量
性において有利である。中でも、5−ピラゾロン
の4位に2−アルコキシアリールチオ基を有する
化合物が特異的にアリールチオ離脱型カプラーの
中で優れた性能を有することが見い出されてい
る。しかも通常のアリールチオ基を持つカプラー
から形成されたマゼンタ色画像の光堅牢性が著し
く低いのに対し、2−アルコキシアリールチオ基
を生ずるカプラーから形成されるマゼンタ色画像
は光に対しても堅牢である。 ところがこれらの二当量マゼンタカプラーは現
像処理によりステイン(未露光部の色濃度増加)
を生ずるという欠点は、かなり改良されていると
いうものの、まだ充分ではなかつた。 ハロゲン化銀カラー写真材料における未露光部
のステインは、画像の白ヌケの良否を決めてしま
う他に、色像の色汚りを悪くしたり、視覚的鮮鋭
度を損なうため好ましくない。特に反射材料(た
とえばカラーペーパー)の場合、ステインの反射
濃度は、理論的に透過濃度の数倍に強調されるこ
とになり、微弱なステインさえも画質を損なうた
め非常に重要な要素である。 ハロゲン化銀カラー写真材料におけるステイン
発生はその原因によつて4つに大別される。1つ
には、未処理感材の製造後、処理するまでに熱や
湿度によつて生ずるもの、2つには、ハロゲン化
銀の現像カブリに依るもの、3つには、カラーカ
プラーの現像処理液での色汚染によるもの(例え
ば空気カブリ等)、又は、乳剤膜中に残存する現
像主薬が後の漂白浴や空気中の酸素等により酸化
され、カプラーと反応し、色素となるもの(例え
ば漂白ステイン)、4つには、現像処理后の感材
の光や湿熱による経時変化によるものなどがあ
る。本発明に関する2当量マゼンタカプラーの現
像処理によるステインは、3と4のステインを意
味している。 更に難かしい点は、現像処理液は現像処理毎に
新らしく調整されることは少なく、実際には現像
処理量に応じた現像液の補充をして用いられてい
る。ところが現像により失なわれる水分の補充の
みでは液組成は維持されない。 即ち、現像処理液は、通常発色現像液、停止
液、漂白液、定着液又は漂白定着液((Blix)等
よりなるが、処理温度を31°〜43℃のような高温
に保つため、長時間の間に現像主薬等が分解した
り、空気接触により酸化したり、また感光材料を
処理することにより感光材料中の溶出物が蓄積し
たり、更にまた処理液が感材に付着して次の浴に
もち込まれる等の原因で処理液組成が変化し、い
わゆるランニング液となる。このため不足する薬
品を追加添加する補充や、不用なものをとり除く
再生を行なつているが完全ではない。2当量マゼ
ンタカプラーを含む感材はこのようなランニング
液でステインを発生し易く、従来技術では全たく
このステインを防止できなかつた。 例えばこのようなステインを防ぐ方法として
は、還元剤等にアルキルハイドロキノン類(例え
ば米国特許第3935016号、米国特許第3960570号等
に記載のもの)を感材中に含有すること、特にス
テインを発生する乳剤層に含有することが有効な
ものとして知られていた。又、クロマン、クマラ
ン類(例えば米国特許2360290号)、フエノール系
化合物(特開昭51−9449)等も有効とされてい
た。更に、スルフイン酸系ポリマーも(特開昭56
−151937)有効なものとして知られている。とこ
ろがこれらの従来技術は2等量マゼンタカプラー
による処理ステイン、特に疲労液に対する処理ス
テインに対しては若干の効果は認められるもの
の、必要十分な効果を得ることができなかつた。 本発明の目的の第1は、2当量マゼンタカプラ
ーを含む感材を現像処理した場合に生ずるステイ
ンを防止することであり、特に、ランニング状態
にある現像処理液で生ずるステインを完全に防止
することである。 第2は、2当量マゼンタカプラーを用いた低銀
で鮮鋭度が高く、現像処理性の良い感光材料を提
供することである。これらの目的は、下記一般式
(式Ib)で表わされる2当量マゼンタカプラーを
含む少なくとも1つの層に、下記一般式()で
表わされる化合物の少なくとも一種を含むハロゲ
ン化銀カラー写真感光材料によつて達成された。 一般式(Ib) 式中、Wは少なくとも1個以上のハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカル
ボニル基、またはシアノ基が置換したフエニル基
を表わし、R3は水素原子、ハロゲン原子、アシ
ルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル
基、スルフアモイル基、アルキルチオ基、アルコ
キシカルボニル基、ヒドロキシ基、アルキル基、
アルコキシ基またはアリール基を表わし、mは1
から5の整数を表わし、mが2以上のときはR3
は同じでも異なつていてもよい。Yはアシルアミ
ノ基、アニリノ基を表わす。即ち、離脱基として
フエニルチオ基を有する式(Ib)で表わされるカ
プラーは活性が高く、高発色濃度を与えるもの
の、その反面、現像処理によるステインが発生し
やすかつたが、この問題を効果的に解決したのが
本発明である。 一般式(Ib)で表わされる化合物の中で、更に
好ましい化合物は一般式(Ic)で表わすことがで
きる。 一般式(Ic) 式中、Wについては一般式(Ib)と同様の意味
を表わし、R4はアルキル基、アリール基を表わ
し、Xはハロゲン原子、またはアルコキシ基を表
わし、R5は水素原子、ヒドロキシ基、ハロゲン
原子、アルキル基、アルコキシ基またはアリール
基を表わし、R6は水素原子、ハロゲン原子、ア
ルキル基、アルコキシ基、アシルアミノ基、スル
ホンアミド基、スルフアモイル基、カルバモイル
基、ジアシルアミノ基、アルコキシカルボニル
基、アルコキシスルホニル基、アリールオキシス
ルホニル基、アルカンスルホニル基、アリールス
ルホニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
アルキルオキシカルボニルアミノ基、アルキルウ
レイド基、アシル基、ニトロ基、カルボキシ基ま
たはトリクロロメチル基を表わす。nは1から4
の整数をあらわす。 Wについてさらに詳しく述べれば、Wは置換フ
エニル基であり、この置換基としてハロゲン原子
(例えば塩素原子、臭素原子、フツ素原子など)、
炭素数1〜22のアルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、テトラデシル基、t−ブチル基など)、
炭素数1〜22のアルコキシ基(例えば、メトキシ
基、エトキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオ
キシ基など)、炭素数2〜23のアルコキシカルボ
ニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキ
シカルボニル基、テトラデシルオキシカルボニル
基など)またはシアノ基が挙げられる。 Xについてさらに詳しく述べれば、Xはハロゲ
ン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、フツ素原
子など)、または炭素数1〜22のアルコキシ基
(例えば、メトキシ基、オクチルオキシ基、ドデ
シルオキシ基など)を表わす。 R6についてさらに詳しく述べれば、R6は水素
原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原
子、フツ素原子など)、直鎖、分岐鎖のアルキル
基(例えば、メチル基、t−ブチル基、テトラデ
シル基など)、アルコキシ基(例えば、メトキシ
基、エトキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、
テトラデシルオキシ基など)、アシルアミノ基
(例えば、アセトアミド基、ベンズアミド基、ブ
タンアミド基、テトラデカンアミド基、α−(2,
4−ジ−tert−アミルフエノキシ)アセトアミド
基、α−(2,4−ジ−tert−アミルフエノキシ)
ブチルアミド基、α−(3−ペンタデシルフエノ
キシ)ヘキサンアミド基、α−(4−ヒドロキシ
−3−tert−ブチルフエノキシ)テトラデカンア
ミド基、2−オキソ−ピロリジン−1−イル基、
2−オキソ−5−テトラデシルピロリジン−1−
イル基、N−メチル−テトラデカンアミド基な
ど)、スルホンアミド基(例えば、メタンスルホ
ンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基、p−ト
ルエンスルホンアミド基、オクタンスルホンアミ
ド基、p−ドデシルベンゼンスルホンアミド基、
N−メチル−テトラデカンスルホンアミド基な
ど)、スルフアモイル基(例えば、N−メチルス
ルフアモイル基、N−ヘキサデシルスルフアモイ
ル基、N−〔3−(ドデシルオキシ)−プロピル〕
スルフアモイル基、N−〔4−(2,4−ジ−tert
−アミルフエノキシ)ブチル〕スルフアモイル
基、N−メチル−N−テトラデシルスルフアモイ
ル基など)、カルバモイル基(例えば、N−メチ
ルカルバモイル基、N−オクタデシルカルバモイ
ル基、N−〔4−(2,4−ジ−tert−アミルフエ
ノキシ)ブチル〕カルバモイル基、N−メチル−
N−テトラデシルカルバモイル基など)、ジアシ
ルアミノ基(N−サクシンイミド基、N−フタル
イミド基、2,5−ジオキソ−1−オキサゾリジ
ニル基、3−ドデシル−2,5−ジオキソ−1−
ヒダントイニル基、3−(N−アセチル−N−ド
デシルアミノ)サクシンイミド基、など)、アル
コキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニ
ル基、テトラデシルオキシカルボニル基、ベンジ
ルオキシカルボニル基、など)、アルコキシスル
ホニル基(例えば、メトキシスルホニル基、オク
チルオキシスルホニル基、テトラデシルオキシス
ルホニル基、など)、アリールオキシスルホニル
基(例えば、フエノキシスルホニル基、2,4−
ジ−tert−アミルフエノキシスルホニル基、な
ど)、アルカンスルホニル基(例えば、メタンス
ルホニル基、オクタンスルホニル基、2−エチル
ヘキサンスルホニル基、ヘキサデカンスルホニル
基、など)アリールスルホニル基(例えば、ベン
ゼンスルホニル基、4−ノニルベンゼンスルホニ
ル基、など)、アルキルチオ基(例えば、エチル
チオ基、ヘキシルチオ基、ベンジルチオ基、テト
ラデシルチオ基、2−(2,4−ジ−tert−アミ
ルフエノキシ)エチルチオ基、など)、アリール
チオ基(例えば、フエニルチオ基、p−トリルチ
オ基、など)、アルキルオキシカルボニルアミノ
基(例えば、エチルオキシカルボニルアミノ基、
ベンジルオキシカルボニルアミノ基、ヘキサデシ
ルオキシカルボニルアミノ基、など)、アルキル
ウレイド基(例えば、N−メチルウレイド基、
N,N−ジメチルウレイド基、N−メチル−N−
ドデシルウレイド基、N−ヘキサデシルウレイド
基、N,N−ジオクタデシルウレイド基、など)、
アシル基(例えば、アセチル基、ベンゾイル基、
オクタデカノイル基、p−ドデカンアミドベンゾ
イル基、など)、ニトロ基、カルボキシ基または
トリクロロメチル基を表わす。但し、上記置換基
の中で、アルキル基と規定されるものの炭素数は
1〜36を表わし、アリール基と規定されるものの
炭素数は6〜38を表わす。 R4についてさらに詳しく述べると、R4は炭素
数1〜22のアルキル基(例えば、メチル基、プロ
ピル基、ブチル基、2−メトキシエチル基、メト
キシメチル基、ヘキシル基、2−エチルヘキシル
基、ドデシル基、ヘキサデシル基、2−(2,4
−ジ−tert−アミルフエノキシ)エチル基、2−
ドデシルオキシエチル基、など)、アリール基
(例えば、フエニル基、α−またはβ−ナフチル
基、4−トリル基、など)を表わす。 R5は水素原子、ヒドロキシ基と上記R6と同様
の意味をもつハロゲン原子、アルキル基、アルコ
キシ基、アリール基を表わす。 一般式(Ic)で表わされるカプラーのうち、
R4とR5の炭素数の和が6以上であるものは本発
明の目的達成のうえで特に好ましい。 本発明の代表的カプラーの化合物例を示すが、
これによつて何等限定されるものではない。 一般式() R1、R2は水素原子、アルキル基、アリール基
を表わし、Zはメチン基、置換メチン基、または
−N=基を表わし、Qは窒素原子、イオウ原子、
または酸素原子を含み、
【式】基と共同し て5員または6員のヘテロ環を構成する原子群を
表わす。但し、R1とR2が共に水素原子であるこ
とはない。 R1,R2を詳細に述べれば水素原子、アルキル
基〔炭素数1〜32の直鎖、分岐鎖のアルキル基、
アラルキル基、アルケニル基、シクロアルキル
基、シクロアルケニル基、アルキニル基を表わ
し、これらはハロゲン原子(例えば、塩素原子、
フツ素原子、等)、アリール基(例えば、フエニ
ル基、αまたはβ−ナフチル基、2,4−ジクロ
ロフエニル基、3−ペンタデシルフエニル基、
2,4−ジ−t−アミルフエニル基、等)、ヘテ
ロ環基(例えば、2−ピリジル基、2−ベンゾチ
アゾリル基、2−フリル基、N−ピペリジル基、
N−フタルイミド基、等)、シアノ基、アルコキ
シ基(例えば、メトキシ基、ブトキシ基、2−エ
チルヘキシルオキシ基、2−メタンスルホニルエ
トキシ基、3−フエノキシプロポキシ基、ヘキサ
デシルオキシ基、等)、アリールオキシ基(例え
ば、フエノキシ基、4−クロロフエノキシ基、
2,4−ジ−tert−ブチルフエノキシ基、3−メ
タンスルホンアミドフエノキシ基、4−シアノフ
エノキシ基、2−ナフトキシ基、等)、アシルア
ミノ基(例えば、アセトアミド基、ベンズアミド
基、(2,4−ジ−tert−アミルフエノキシ)ア
セトアミド基、2−(2−クロロフエノキシ)テ
トラデカンアミド基、3−〔2−(2,4−ジ−
tert−ヘキシル)ブチルアミド〕ベンズアミド
基、等)、イミド基(例えば、スクシンイミド基、
フタルイミド基、N−ヒダントイニル基、等)、
アニリノ基(例えば、フエニルアミノ基、2−ク
ロロアニリノ基、N−メチルアニリノ基、2−ク
ロロ−5−テトラデカンアミドアニリノ基、4−
メトキシアニリノ基、等)、アルキルアミノ基
(例えば、メチルアミノ基、N,N−ジエチルア
ミノ基、N−(2−エトキシエトキシ)アミノ基、
等)、ヘテロ環アミノ基(例えば、2−ピリジル
アミノ基、2−イミダゾリルアミノ基、2−ピリ
ミジルアミノ基、等)、ウレイド基(例えば、メ
チルウレイド基、N,N−ジプロピルウレイド
基、フエニルウレイド基、4−クロロフエニルウ
レイド基、4−プロパンスルホニルフエニルウレ
イド基、等)、スルフアモイルアミノ基(例えば、
N,N−ジメチルスルフアモイルアミノ基、N−
メチル−N−フエニルスルフアモイルアミノ基、
N,N−ジイソプロピルスルフアモイルアミノ
基、等)、アルキルチオ基(例えば、ブチルチオ
基、ドデシルチオ基、3−フエノキシプロピルチ
オ基、シクロペンチルチオ基、ベンジルチオ基、
等)、アリールチオ基(例えば、フエニルチオ基、
2−メチルフエニルチオ基、4−ドデシルフエニ
ルチオ基、2−ブチルオキシ−5−tert−オクチ
ルフエニルチオ基、4−ドデシルオキシフエニル
チオ基、等)、ヘテロ環チオ基(例えば、2−ベ
ンゾオキサゾリルチオ基、1−エチルテトラゾー
ル−5−チオ基、
【式】基、等)、アル コキシカルボニルアミノ基(例えば、メトキシカ
ルボニルアミノ基、ブトキシカルボニルアミノ
基、等)、アリールオキシカルボニルアミノ基
(例えば、フエノキシカルボニルアミノ基、等)、
スルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミ
ド基、ベンゼンスルホンアミド基、ドデカンスル
ホンアミド基、4−ドデシルオキシベンゼンスル
ホンアミド基、等)、カルバモイル基(例えば、
N−メチルカルバモイル基、N,N−ジブチルカ
ルバモイル基、N−フエニルカルバモイル基、N
−メチル−N−フエニルカルバモイル基、等)、
スルフアモイル基(例えば、N−ブチルスルフア
モイル基、N−フエニルスルフアモイル基、N,
N−ジプロピルスルフアモイル基、N−メチル−
N−フエニルスルフアモイル基、等)、スルホニ
ル基(例えば、メタンスルホニル基、ドデカンス
ルホニル基、ベンゼンスルホニル基、4−トルエ
ンスルホニル基、等)、スルフイニル基(例えば、
メタンスルフイニル基、ベンゼンスルフイニル
基、等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロ
パノイル基、ドデカノイル基、ベンゾイル基、ピ
バロイル基、4−メトキシベンゾイル基、等)、
アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカル
ボニル基、テトラデシルオキシカルボニル基、
等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フ
エノキシカルボニル基、等)、ホスホニル基(例
えば、メトキシホスホニル基、ブチルホスホニル
基、フエニルホスホニル基、等)、イミノ基(例
えば、プロピリデンイミノ基、等)、シアノチオ
基、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、オ
クタノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、等)、
カルバモイルオキシ基(例えば、N−アセチルア
ミノオキシ基、N−ベンゾイルアミノオキシ基、
等)、シリルオキシ基(例えば、トリメチルシリ
ルオキシ基、ジブチルメチルシリルオキシ基、
等)、スルホニルオキシ基(例えば、メタンスル
ホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、
等)、ヘテロ環オキシ基(例えば、1−フエニル
テトラゾール−5−オキシ基、2−テトラヒドロ
ピラニルオキシ基、等)、ヒドロキシ基、ニトロ
基、が置換していてもよい。〕またはアリール基
(炭素数6〜38のアリール基を表わし、これらは
フエニル基、α−またβ−ナフチル基、または前
記アルキル基のところで述べた置換基を有しても
よいフエニル基、α−またはβ−ナフチル基を表
わす。)を表わし、Zはメチン基、置換メチン基
〔置換基としては、前記R1、R2のところで述べた
と同様な意味を表わすアルキル基、アリール基の
ほかに、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素
原子、等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、
ブトキシ基、等)、アシルアミノ基(例えば、ア
セトアミド基、ベンズアミド基、(2,4−ジ−
tert−アミルフエノキシ)アセトアミド基、等)、
イミド基(例えば、N−スクシンイミド基、N−
フタルイミド基、等)、スルホンアミド基(例え
ば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホン
アミド基、等)、カルバモイル基(例えば、N−
メチルカルバモイル基、N−フエニルカルバモイ
ル基、N,N−ジプロピルカルバモイル基、等)、
スルフアモイル基(例えば、N−ブチルスルフア
モイル基、N,N−ジプロピルスルフアモイル
基、N−メチル−N−フエニルスルフアモイル
基、等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メ
トキシカルボニル基、テトラデシルオキシカルボ
ニル基、等)、アルキルスルホニル基(例えば、
メタンスルホニル基、ドデカンスルホニル基、
等)、アルキルチオ基(例えば、オクチルチオ基、
3−フエノキシプロピルチオ基、等)、ヒドロキ
シ基、等を表わす。〕、または−N=基を表わし、
Qは、窒素原子、イオウ原子、または酸素原子を
含み、
【式】基と共同して5員または6員 のヘテロ環を構成する原子群を表わす。但し、
R1とR2が共に水素原子である事はない。 一般式()で表わされる化合物のうち好まし
いヘテロ環アミノ化合物は一般式()で表わさ
れる。 一般式() R1は前記と同一の意味を表わし、R3、R4は水
素原子、前記R1、R2で定義したと同じ意味のア
ルキル基、アリール基のほかに、前記R1のアル
キル基の置換基として説明したものと同じ意味を
もつハロゲン原子、ヘテロ環基、シアノ基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アシルアミノ基、
ヘテロ環オキシ基、N−イミド基、アニリノ基、
アルキルアミノ基、ヘテロ環アミノ基、ウレイド
基、スルフアモイルアミノ基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルコキシカ
ルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルア
ミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、ス
ルフアモイル基、スルホニル基、スルフイニル
基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリー
ルオキシカルボニル基、ホスホニル基、イミノ
基、シアノチオ基、アシルオキシ基、カルバモイ
ルオキシ基、ヒドロキシ基、ミリルオキシ基、ス
ルホニルオキシ基、ニトロ基を表わし、Yはメチ
ン基、
【式】基、または−N=基を表わす。 さらに好ましいヘテロ環アミノ基は一般式
()で表わされる。 一般式() R1、R2、R3、R4は前記と同様の意味を表わ
す。 さらに好ましいヘテロ環アミノ基は一般式
()で表わされる。 一般式() R1は前記と同様の意味を表わし、R5、R6
R7、R8はそれぞれR1、R2と同じ意味を表わす。 本発明にかかるヘテロ環アミノ化合物を以下に
示すが、これらに限定されるものではない。 これらの化合物は、J.Amer.Chem.Soc.,73
2981,2984(1951)に記載された方法によつて合
成することができる。またトリアジン誘導体以外
の化合物も同様な方法によつて合成することがで
きる。 合成例 1 化合物6の合成 段階1 2,6−ジ−n−オクチルアミノ−4−
クロロ−1,3,5−トリアジン(中間体A)
の合成 塩化シアヌル37g(0.2モル)を熱アセトン
80mlに溶解し、これを氷水(粉砕水−水=1:
1)120mlに急激に添加し、激しく撹拌した。
内温は0°〜5℃に下がつた。次にn−オクチル
アミン56.8g(0.44モル)を内温を10°以下に保
ちながら、徐々に滴下した。次に内温を40℃ま
で加温し、水浴上で1時間加熱した。反応液の
pHが酸性領域(pH<2)になつてきたので、
水酸化カリウムの顆粒を徐々に添加し、pHを
中性付近にもつてきた(これに用する時間1時
間)。生成物が反応液の中に析出したので、冷
却し過した。結晶を良く水洗し、乾燥した。
この粗結晶をエタノールより再結晶し、融点
171°〜172℃の中間体48gを得た。 段階2 化合物6の合成 中間体A37g(0.1モル)、ジ−n−オクチル
アミン26g(0.11モル)、無水炭酸カリウム14
g(0.11モル)をジオキサン200mlに添加し、
スチーム浴上1時間加熱還流した。その後5.2
gのジ−n−オクチルアミンと7gの無水炭酸
カリウムを追加し、さらに1時間加熱還流を続
けた。冷却後、反応液に析出している固体(無
機物)を過し、液に500mlの酢酸エチルを
添加し、飽和食塩水で洗浄した。酢酸エチル層
を無水硫酸ナトリウムで十分に乾燥した後、溶
媒を減圧除去した。残留物をエタノールから晶
析させ、融点48.5〜49.5°の白色結晶(化合物
6)39gを得た。 元素分析値 理論値 H:12.27%、C:73.11%、N:14.62
% 実験値 H:12.25%、C:73.15%、N:14.66
% 合成例 2 化合物22の合成 前記合成例1で用いた中間体(A)を37g、n−オ
クチルアミン14.2g(0.11モル)、無水炭酸カリ
ウム14g(0.11モル)をジオキサン200mlに添加
し、加熱撹拌還流を行なつた。以下合成例1と同
様の方法で処理し、エタノールより晶析させ、融
点40〜42℃の化合物22を28.2g得た。 元素分析値 理論値 H:11.76%、C:70.07%、N:18.16
% 実験値 H:17.77%、C:70.13%、N:18.13
% 合成例 3〜6 下記の化合物も合成例1または2と同様の方法
で合成することができた。
【表】 一般式(Ib)または(Ic)で示される二当量マ
ゼンタカプラーに対する一般式()、()、
()または()で示される化合物の量は5モ
ル%から500モル%が望ましいが、特に50モル%
から300モル%が望ましい。 また一般式(Ib)または(Ic)の化合物と一般
式()、()、()または()の化合物は後
で示す高沸点溶剤に溶解し乳化分散しても良い
し、高沸点溶剤を併用せずに、直接一般式(Ib)
または(Ic)の化合物を一般式()、()また
は()の化合物に直接溶解して使用してもよ
い。 上記の高沸点溶剤、特に沸点180℃以上の有機
溶剤としては、公知のどのようなものでも用いら
れる。 例えば米国特許2322027号に記載のフタール酸
アルキルエステル(ジブチルフタレート、ジオク
チルフタレートなど)、リン酸エステル(ジフエ
ニルフオスフエート、トリフエニルフオスフエー
ト、トリクレジルフオスフエート、ジオクチルブ
チルフオスフエート)、クエン酸エステル(たと
えばアセチルクエン酸トリブチル)、安息香酸エ
ステル(たとえば安息香酸オクチル)、アルキル
アミド(たとえばジエチルラウリルアミド)、脂
肪族エステル類(たとえばジブトキシエチルサク
シネート、ジオクチルアセレート)、トリメシン
類エステル類(たとえばトリメシン類トリブチ
ル)などが好ましい。特に、アルキルフオスフエ
ート類(ジフエニルフオスフエート、トリフエニ
ルフオスフエート、トリクレジルフオスフエー
ト、ジオクチルブチルフオスフエートなど)が好
ましい。 カプラーは油溶性カプラーが好ましい。 マゼンタカプラーとして、その他の5−ピラゾ
ロン、ピラゾロトリアゾール、イミダゾピラゾー
ル系のカプラーを併用してもよい。 本発明を実施する際用いられるイエローカプラ
ーとしては、ベンゾイルアセトアニリド系及びピ
バロイルアセトアニリド系化合物は有利である。 シアンカプラーとしてはフエノール系化合物、
ナフトール系化合物などを用いる。 その他カラードカプラー、DIRカプラー、現像
にともなつて現像抑制剤を放出する化合物を併せ
て用いてもよい。 上記のカプラーは同一層に二種以上含むことも
できる。同一の化合物を異なる2つ以上の層に含
んでもよい。 これらのカプラーは、一般に乳剤層中の銀1モ
ルあたり2×10-3モルないし5×10-1モル、好ま
しくは1×10-2モルないし5×10-1モル添加され
る。 好ましいオイル/カプラー比としては0.0〜2.0
である。 前記カプラーを親水性コロイド層に導入するに
は前記の高沸点有機溶媒を用いて米国特許
2322027号に記載の方法を用いたり、または沸点
約30°乃至150°の有機溶媒、たとえば酢酸エチル、
酢酸ブチルのごとき低級アルキルアセテート、フ
ロピオン酸エチル、2級ブチルアルコール、メチ
ルイソブチルケトン、β−エトキシエチルアセテ
ート、メチルセロソルブアセテート等に溶解した
のち、親水性コロイドに分散される。上記の高沸
点有機溶媒と低沸点有機溶媒とを混合して用いて
もよい。 また特公昭51−39853、特開昭51−59943に記載
されている重合物による分散法も使用することが
できる。 カプラーがカルボン酸、スルフオン酸のごとき
酸基を有する場合には、アルカリ性水溶液として
親水性コロイド中に導入される。 本発明の写真感光材料の下塗り層は、ゼラチン
等の親水性高分子(後述する写真乳剤の結合剤ま
たは保護コロイドが同様に用いられる。)からな
る親水性コロイド層であり、通常支持体の上に塗
布して設けられる。一般に、下塗り層を設けるこ
とによつて、写真乳剤層等との接着をよくしたり
ハレーシヨン防止を行なうことができる。 本発明に使用されるカラー写真感光材料は、カ
ラーペーパー、カラーネガフイルム、カラー反転
フイルム等発色現像処理をともなうカラー写真感
光材料ならば、すべて適するが、特にプリント感
材(例えば、カラーペーパーなど)の場合が好ま
しい。 本発明に用いられる写真乳剤はP.Glafkides著
Chimie et Physique Photographique(Paul
Montel社刊、1967年)、G.F.Duffin著
Photographic Emulsion Chemistry(The Focal
Press刊、1966年)、V.L.Zelikman et al著
Making and Coating Photographic Emulsion
(The Focal Press刊、1964年)などに記載され
た方法を用いて調整することができる。すなわ
ち、酸性法、中性法、アンモニア法等のいずれで
もよく、また可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反
応させる形式としては片側混合法、同時混合法、
それらの組合せなどのいずれを用いてもよい。 粒子を銀イオン過剰の下において形成させる方
法(いわゆる逆混合法)を用いることもできる。
同時混合法の一つの形式としてハロゲン化銀の生
成される液相中のpAgを一定に保つ方法、すなわ
ちいわゆるコントロールド・ダブルジエツト法を
用いることもできる。 この方法によると、結晶形が規則的で粒子サイ
ズが均一に近いハロゲン化銀乳剤が得られる。 別々に形成した2種以上のハロゲン化銀乳剤を
混合して用いてもよい。 本発明の写真感光材料の写真乳剤層にはハロゲ
ン化銀として臭化銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀、塩
臭化銀および塩化銀のいずれを用いてもよい。 ハロゲン化銀粒子形成または物理熟成の過程に
おいて、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム
塩、イリジウム塩またはその錯塩、ロジウム塩ま
たはその錯塩、鉄塩または鉄錯塩などを共存させ
てもよい。 本発明に用いられる写真乳剤は、メチン色素類
その他によつて分光増感されてよい。用いられる
色素には、シアニン色素、メロシアニン色素、複
合シアニン色素、複合メロシアニン色素、ホロポ
ーラーシアニン色素、ヘミシアニン色素、スチリ
ル色素、およびヘミオキソノール色素が包含され
る。特に有用な色素はシアニン色素、メロシアニ
ン色素および複合メロシアニン色素に属する色素
である。これらの色素類には塩基性異節環核とし
てシアニン色素類に通常利用される核のいずれを
も適用できる。すなわち、ピロリン核、オキサゾ
リン核、チアゾリン核、ピロール核、オキサゾー
ル核、チアゾール核、セレナゾール核、イミダゾ
ール核、テトラゾール核、ピリジン核など;これ
らの核に脂環式炭化水素環が融合した核;および
これらの核に芳香族炭化水素環が融合した核、す
なわち、インドレニン核、ベンズインドレニン
核、インドール核、ベンズオキサゾール核、ナフ
トオキサゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフト
チアゾール核、ベンゾセレナゾール核、ベンズイ
ミダゾール核、キノリン核などが適用できる。こ
れらの核は炭素原子上に置換されていてもよい。 メロシアニン色素または複合メロシアニン色素
にはケトメチレン構造を有する核として、ピラゾ
リン−5−オン核、チオヒダントイン核、2−チ
オオキサゾリジン−2,4−ジオン核、チアゾリ
ジン−2,4−ジオン核、ローダニン核、チオバ
ルビツール酸核などの5〜6員異節環核を適用す
ることができる。 これらの増感色素は単独に用いてもよいが、そ
れらの組合せを用いてもよく、増感色素の組合せ
は特に強色増感の目的でしばしば用いられる。そ
の代表例は米国特許2688545号、同2977229号、同
3397060号、同3522052号、同3527641号、同
3617293号、同3628964号、同3666480号、同
3672898号、同3679428号、同3703377号、同
3769301号、同3814609号、同3837862号、同
4026707号、英国特許1344281号、同1507803号、
特公昭43−4936号、同53−12375号、特開昭52−
110618号、同52−109925号に記載されている。 増感色素とともに、それ自身分光増感作用をも
たない色素あるいは可視光を実質的に吸収しない
物質であつて、強色増感を示す物質を乳剤中に含
んでもよい。たとえば含チツ素異節環基で置換さ
れたアミノスチルベン化合物(たとえば米国特許
第2933390号、同3635721号に記載のもの)、芳香
族有機酸ホルムアルデヒド縮合物(たとえば米国
特許3743510号に記載のもの)、カドミウム塩、ア
ザインデン化合物などを含んでもよい。米国特許
3615613号、同3615641号、同3617295号、同
3635721号に記載の組合せは特に有用である。 写真乳剤の混合剤または保護コロイドとして
は、ゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以
外の親水性コロイドも用いることができる。 たとえばゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分
子とのグラフトポリマー、アルブミン、カゼイン
等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロース、カル
ボキシメチルセルロース、セルローズ硫酸エステ
ル類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソー
ダ、澱粉誘導体などの糖誘導体;ポリビニルアル
コール、ポリビニルアルコール部分アセタール、
ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸、
ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビ
ニルイミダゾール、ポリビニルピラゾール等の単
一あるいは共重合体の如き多種の合成親水性高分
子物質を用いることができる。 ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか酸処
理ゼラチンやBull.Soc.Sci.Phot.JapanNo.16、30
頁(1966)に記載されたような酸素処理ゼラチン
を用いてもよい。 本発明は支持体上に少なくとも2つの異なる分
光感度を有する多層多色写真材料にも適用でき
る。多層天然色写真材料は、通常支持体上に赤感
性乳剤層、および青感性乳剤層を各々少なくとも
一つ有する。これらの層の順序は必要に応じて任
意にえらべる。赤感性乳剤層にシアン形成カプラ
ーを、緑感性乳剤層にマゼンタ形成カプラーを青
感性乳剤層にイエロー形成カプラーをそれぞれ含
むのが通常であるが、場合により異なる組合せを
とることもできる。 本発明を用いて作られた感光材料には親水性コ
ロイド層にフイルター染料として、あるいはイラ
ジエーシヨン防止その他種々の目的で、水溶性染
料を含有してよい。このような染料にはオキソノ
ール染料、ヘミオキソノール染料、スチリル染
料、メロシアニン染料、シアニン染料、及びアゾ
染料が包含される。中でもオキソノール染料;ヘ
ミオキソノール染料及びメロシアニン染料が有用
である。 本発明を実施するに際して下記の公知の退色防
止剤を併用することもでき、また本発明に用いる
色像安定剤は単独または2種以上併用することも
できる。公知の退色防止剤としては、ハイドロキ
ノン誘導体、没食子酸誘導体、p−アルコキシフ
エノール類、p−オキシフエノール類、ビスフエ
ノール類等がある。 本発明を用いて作られる感光材料は色カブリ防
止剤として、ハイドロキノン誘導体、アミノフエ
ノール誘導体、没食子酸誘導体、アスコルビン酸
誘導体などを含有してもよい。 本発明を用いて作られる感光材料には親水性コ
ロイド層に紫外線吸収剤を含むことが好ましい。
たとえばアリール基で置換されたベンゾトリアゾ
ール化合物(たとえば米国特許3533794号に記載
のもの)、4−チアゾリドン化合物(たとえば米
国特許3314794号、同3352681号に記載のもの)、
ベンゾフエノン化合物(たとえば特開昭46−2784
号に記載のもの)、ケイヒ酸エステル化合物(た
とえば米国特許3705805号、同3707375号に記載の
もの)、ブタジエン化合物(たとえば米国特許
4045229号に記載のもの)あるいはベンゾオキシ
ゾール化合物(たとえば米国特許3700455号に記
載のもの)を用いることができる。さらに米国特
許3499762号、特開昭54−48535号に記載のものも
用いることができる。紫外線吸収性のカプラー
(たとえばα−ナフトール系のシアン色素形成カ
プラー)や紫外線吸収性のポリマーなどを用いて
もよい。これらの紫外線吸収剤は特定の層に媒染
されてもよい。 本発明を用いてつくられる感光材料において、
写真乳剤層その他の親水性コロイド層にはスチル
ベン系、トリアジン系、オキサゾール系、あるい
はクマリン系などの増白剤を含んでもよい。これ
らは水溶性のものでもよく、また水不溶性の増白
剤を分散物の形で用いてもよい。 本発明の写真感光材料において、写真乳剤層そ
の他の親水性コロイド層は公知の種々の塗布法に
より支持体上または他の層の上に塗布できる。塗
布には、デイツプ塗布法、ローラー塗布法、カー
テン塗布法、押出し塗布法などを用いることがで
きる。 本発明の感光材料の写真処理には、公知の方法
のいずれを用いることができる。処理液には公知
のものを用いることができる。処理温度は普通18
℃から50℃の間に選ばれるが、18℃より低い温度
または50℃をこえる温度としてもよい。目的に応
じた色素像を形成すべきカラー現像処理ならば、
いずれでも適用できる。 カラー現像液は、一般に発色現像主薬を含むア
ルカリ性水溶性から成る。発色現像主薬は公知の
一級芳香族アミン現像剤、例えばフエニレンジア
ミン類(例えば4−アミノ−N,N−ジエチルア
ニリン、3−メチル−4−アミノ−N,N−ジエ
チルアニリン、4−アミノ−N−エチル−N−β
−ヒドロキシエチルアニリン、3−メチル−4−
アミノ−N−エチル−N−β−ヒドロキシエチル
アニリン、3−メチル−4−アミノ−N−エチル
−N−β−メタンスルホアミドエチルアニリン、
4−アミノ−3−メチル−N−エチル−N−β−
メトキシエチルアニリンなど)を用いることがで
きる。 この他L.F.A.Mason著Photographic
Processing Chemistry(Focal Press刊、1966年)
の226〜229頁、米国特許2193015号、同2592364
号、特開昭48−64933号などに記載のものを用い
てよい。 カラー現像液はそのほかアルカリ金属の亜硫酸
塩、炭酸塩、ホウ酸塩およびリン酸塩の如きpH
緩衝剤、臭化物、沃化物および有機カブリ防止剤
の如き現像抑制剤ないしカブリ防止剤などを含む
ことができる。また必要に応じて、硬化軟化剤、
ヒドロキシルアミンの如き保恒剤、ベンジルアル
コール、ジエチレングリコールの如き有機溶剤、
ポリエチレングリコール、四級アンモニウム塩、
アミン類の如き現像促進剤、色素形成カプラー、
競争カプラー、ナトリウムボロハイドライドの如
きかぶらせ剤、粘性付与剤、米国特許4083723号
に記載のポリカルボン酸系キレート剤、西独公開
(OLS)2622950号に記載の酸化防止剤などを含
んでもよい。 発色現像後の写真乳剤層は通常、漂白処理され
る。漂白処理は定着処理と同時に行なわれてもよ
いし、個別により行なわれてもよい。漂白剤とし
ては鉄()、コバルト()、クロム()、銅
()などの多価金属の化合物、過酸類、キノン
類、ニトロソ化合物などが用いられる。たとえば
フエリシアン化物、重クロム酸塩、鉄()また
はコバルト()の有機錯塩、たとえばエチレン
ジアミン四酢酸、ニトリロトリ酢酸、1,3−ジ
アミノ−2−プロパノール四酢酸などのアミノポ
リカルボン酸類あるいはクエン類、酒石酸、リン
ゴ酸などの有機酸の錯塩;過硫酸塩、過マンガン
酸塩;ニトロソフエノールなどを用いることがで
きる。これらのうちフエリシアン化カリ、エチレ
ンジアミン四酢酸鉄()ナトリウムおよびエチ
レンジアミン四酢酸鉄()アンモニウムは特に
有用である。エチレンジアミン四酢酸鉄()錯
塩は独立の漂白液においても、一浴漂白定着液に
おいても有用である。 漂白または漂白定着液には、漂白促進剤、チオ
ール化合物の他、種々の添加物を加えることもで
きる。 カラー現像を促進するために、予めカラー現像
主薬、又はその誘導体を感材中に含有しておいて
も良く、例えば金属塩やシツフ塩として含有して
も良い。例えば米国特許第3719492号、米国特許
3342559号、Research Disclosure 1976年No.
15159、に記載のものが使用できる。また、ハイ
ドロキノン類、3−ピラゾリドン誘導体、及びア
ミノフエノール誘導体の如き現像薬を感材中に含
有しておいても良い。 実施例 1 ポリエチレンで両面ラミネートされた紙支持体
上に、塩臭化銀(臭化銀90モル%、銀塗布量720
mg/m2)とゼラチン(2000mg/m2)、及びマゼン
タ4当量カプラー、1−(2,4,6−トリクロ
ロフエニル)−3−〔2−クロロ−5−テトラデカ
ンアミド〕アニリノ−2−ピラゾリノ−5−オン
600mg/m2を2,5−ジタ−シヤリ−オクチルの
ハイドロキノン(80mg/m2)とともにカプラー溶
媒リン酸−o−クレジルエステル(800mg/m2
に溶かし乳化分散し、塗布した。その上に保護層
としてゼラチン(1000mg/m2)を塗布した。(試
料1)。マゼンタカプラーを等モルの本分中の式
(Ib)で表わされる2当量マゼンタカプラー−
44と−46に置き替え、ハロゲン化銀塗布量を半
分にしたものを試料2、5とし、更に本分中のヘ
テロ環アミノ化合物1をカプラーと等モル添加し
たものを試料3、6とした。又更に本分中の三級
アミノ化合物2をカプラーと等モル添加したもの
を試料4、7とした。 上記感材を光学楔を通して露光後、次の工程で
処理した。 処理工程(33℃) 発色現像 3分30秒 漂白定着 1分30秒 水 洗 3分 乾 燥(50〜80°) 2分 各処理液の成分は、下記の通りである。 発色現像液 ベンジルアルコール 12ml ジエチレングリコール 5ml 炭酸カリウム 25g 塩化ナトリウム 0.1g 臭化ナトリウム 0.5g 無水亜硫酸ナトリウム 2g ヒドロキシルアミン硫酸塩 2g 蛍光増白剤 1g N−エチル−N−β−メタンスルホンアミドエチ
ル−3−メチル−4−アミノアニリン硫酸塩4g 水を加えて1としNaOHを加えてPH10.2にす
る。 漂白定着液 チオ硫酸アンモニウム 124.5g メタ重亜硫酸ナトリウム 13.3g 無水亜硫酸ナトリウム 2.7g EDTA第2鉄アンモニウム塩 65g 発色現像液(上記) 100ml PHを6.7〜6.8に合わせ水を加えて 1 処理液は、通常のローラートランスポート型現
像処理機を用い、正常な補充を行ないながら現像
処理を行なつているもので、処理液の組成がほぼ
平衡に達しているものを使用した。 次に富士式自記濃度計を用いて未露光部のマゼ
ンタ反射濃度を比較試料−1を基準として測定
し、第一表に示した。
【表】
【表】 上記の表から式(Ib)で表わされる2当量マゼ
ンタカプラーに本発明のヘテロ環アミン化合物を
併用することによつて現像処理によるマゼンタス
テインを完全に除去できることがわかる。 実施例 2 ポリエチレンで両面ラミネートされた紙支持体
上に、次の第1層(最下層)〜第6層(最上層)
を塗布して、多層カラー感光材料Aを作成した。
(表中mg/m2は塗布量を表わす。)
【表】
【表】 試料A中の第3層のカプラーとして(I−43)
を500mg/m2、塩臭化銀乳剤の量を175mg/m2とし
たものを試料Bとした。試料Bにおいて、第3層
中に、比較化合物ジ・ターシヤリーオクチルハイ
ドロキノンをカプラーに対し50モル%加えたもの
を試料C、スルフイン酸ポリマー
【式】を150mg/m2加えたものを 試料Dとし、本発明化合物1,2,3,22,14,
15,16,18,20,21をカプラーに対して100モル
%加えたものを夫々試料E,F,G,H,I,
J,K,L,M,Nとした。 上記感材を光学楔を通して露光後、実施例1と
同様な工程で処理し、未露光部のマゼンタ反射濃
度を測定し、比較試料Aの濃度値との差を第2表
に示した。
【表】 第2表からわかるように本発明による化合物は
従来知られているハイドロキノン類等の還元剤に
比して現像処理により発生する式(Ib)で表わさ
れる2当量マゼンタカプラーのステインに対し非
常に大きな効果をもつている。しかも写真性を損
なうこともないことがわかる。 実施例 3 実施例1において、2当量マゼンタカプラーと
本分中のヘテロ環アミノ化合物の組合せを以下に
示すようにして作製した試料1〜13について、発
色性を評価したデータを第3表に示す。本比較デ
ータは、−19や−36に代表される窒素原子離
脱基あるいはヘテロ環チオ離脱基を有する2当量
マゼンタカプラーに対して、本発明の一般式
(Ib)で表わされる2当量マゼンタカプラーの優
位性を示すものである。 第3表の結果から本発明のヘテロ環アミノ化合
物の使用によりマゼンタステインは共通に抑制さ
れるが、2当量マゼンタカプラー−19、−36
においては元々感度が低く更にヘテロ環アミノ化
合物の使用でより低感化し好ましくない。一方、
本発明の一般式(Ib)表される2当量マゼンタカ
プラーはそれらより高感度であり、またヘテロ環
アミノ化合物の使用でより低感化することはなく
良好な発色性を示す。即ち、本発明の一般式
(Ib)で表される2当量マゼンタカプラーは、写
真性を損なうことなくマゼンタステインを抑制で
きる点において−19や−36に較べて優位性を
発揮している。
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 下記一般式(Ib)で示される5−ピラゾロン
    型二当量マゼンタカプラーの少くとも1種と下記
    一般式()で示される化合物の少くとも1種を
    含有する層を少くとも1層有していることを特徴
    とするハロゲン化銀カラー写真感光材料。 一般式(Ib) 式中、Wは少くとも1個以上のハロゲン原子、
    アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニ
    ル基、またはシアノ基が置換したフエニル基を表
    わし、R3は水素原子、ハロゲン原子、アシルア
    ミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、ス
    ルフアモイル基、アノキルチオ基、アルコキシカ
    ルボニル基、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコ
    キシ基またはアリール基を表わし、mは1から5
    の整数を表わし、mが2以上のときはR3は同じ
    でも異つていてもよい。Yはアシルアミノ基また
    はアニリノ基を表わす。 一般式() R1、R2は水素原子、アルキル基、アリール基
    を表わし、Zはメチン基、置換メチン基、または
    −N=基を表わし、Qは窒素原子、イオウ原子、
    または酸素原子を含み、【式】基と共同し て5員または6員のヘテロ環を構成する原子群を
    表わす。但し、R1とR2が共に水素原子であるこ
    とはない。
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