JPH0364321A - 液晶性高分子及びその中間体 - Google Patents

液晶性高分子及びその中間体

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JPH0364321A
JPH0364321A JP1199191A JP19919189A JPH0364321A JP H0364321 A JPH0364321 A JP H0364321A JP 1199191 A JP1199191 A JP 1199191A JP 19919189 A JP19919189 A JP 19919189A JP H0364321 A JPH0364321 A JP H0364321A
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元久 井戸
Satoshi Hachiya
聡 蜂屋
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、新規な液晶性高分子及びその製造に用いられ
る中間体であるエポキシ化合物に関するものである。さ
らに詳しくいえば、本発明はオプトエレクトロニクス分
野、特に電卓、時計などの表示素子、電子光学シャッタ
ー、電子光学絞り、光変調器、光通信光路切替スイッチ
、メモリー液晶プリンターヘッド、焦点距離可変レンズ
などの種々の電子光学デバイスとして有用な液晶性高分
子材料の母体液晶として用いられる液晶性高分子及びそ
の製造に用いられる中間体であるエポキシ化合物に関す
るものである。
[従来の技術] 強誘電性液晶材料を得る手段として、SmC相を示す母
体液晶に、光学活性化合物を添加して調製する方法が現
在盛んに検討されている。(例えばJ、 P、 Le 
Pe5ant、 J、 N、 Perbet、 B、 
Mourey、 M。
Hareng、 G、 Decobert、 J、 C
,Dubois、 Mo1. Cryst、 Liq、
 Cryst、、 19g5.129.61−74  
あるいは竹原貞夫、東海林忠生、小川性、大沢政志、藤
沢宣、第14回液晶討論会講演予稿集、18−19等) この方法の利点は、母体液晶に少量の光学活性化合物を
添加することにより、自発分極値、応答速度、相転移温
度等の母体液晶の特性を変えることができ、実用に必要
な特性の最適化が容易であるという点である。しかしこ
の方法により得られた液晶材料はSmC’″相を示す温
度範囲が狭い上、結晶化による相分離が起こりやすく、
また、製膜性が悪いという問題点がある。
[発明が解決しようとする課題] 本発明は、低分子強誘電性液晶化合物あるいは非液晶性
光学活性化合物といった光学活性化合物とブレンドする
ことにより、室温域を含む広い温度範囲で強誘電性を示
し、製膜性、電界に対する高速応答性に優れた強誘電性
液晶材料を得ることができる新規な母体液晶となる液晶
性高分子を提供することを目的とするものである。
本発明の他の目的は、このような液晶性高分子の製造に
用いられる中間体であるエポキシ化合物を提供すること
にある。
[課題を解決するための手段] 本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を重ね
た結果、特定の構造を有するポリエーテル型液晶性高分
子を光学活性化合物とブレンドすることにより室温域を
含む広い温度範囲で強誘電性を示す液晶性高分子材料が
得られることを見出し、この知見に基づいて本発明を完
成するに至った。
すなわち、本発明は下記一般式からなる繰り返し単位を
有する液晶性高分子を提供するものである。
十CH2CHO+ 口CH2)+0(CHz)i0R’ (式中、kは2〜30の整数でありlはO〜10の整数
であり、 R1はべ亘)4乏>RJ、イ富□x−4ミドR2−(多
×ΦΣX×ΦΣR8であり、 Xは−C00−又は−0CO−であり、R”バーC0O
R”、 −0COR”、 −OR”又ハR”テアリ、R
sは不斉炭素を有していないアルキル基である。)本発
明の液晶性高分子の数平均分子量は、好ましくは1,0
00〜400,000である。1゜000未満であると
、液晶性高分子のフィルム、塗膜としての成形性、すな
わち製膜性に支障を生ずる場合があり、−・方400,
000を超えると応答速度が遅いなどの好ましくない効
果の現れることがある。そして数平均分子量の特に好ま
しい範囲はR1の種類、k、 1の値などに依存するの
で一該に規定できないが、通常1,000〜200゜O
OOである。kは2〜30の整数であり、より好ましく
は4〜20の整数である。lはO〜10の整数であり、
より好ましくは1〜6の整数である。
R3は不斉炭素を有していないアルキル基であって、具
体的には■炭素数が好ましくは3〜12、さらに好まし
くは4〜8の直鎖状のアルキル基、■2,2.2−トリ
フルオロエチル基、2,2゜3.3,4,4.4−へブ
タフルオロブチル基、2、 2. 3. 3−テトラフ
ルオロプロピル基、IH,IH,7H−ドデカフルオロ
へブチル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロプロ
ピル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロヘプチ
ル基等の直鎖状ポリハロアルキル基、■イソプロピル基
、イソブチル基、tert−ブチル基、イソペンチル基
、 ネオペンチル基等の分岐状アルキル基、1. 1゜1.
3,3.3−へキサフルオロプロピル基等の分岐状ポリ
ハロアルキル基等を挙げることができる。
以下に本発明の液晶性高分子の一般的な合成方法を示す
例えば、本発明の液晶性高分子は下記のエポキシ化合物
を用いて合成することができる。
H2C−CH(CL) to(CH2)hOR”(式中
、1、k、 X、 R”、R2、R3は先に規定したと
同じ意味を有する。)で示されるエポキシ化合物である
モノマーを公知の方法で重合することにより得ることが
できる。
(1)   R’がXΦΣ(亥>R2である場合下記の
反応式で示されるように、アリルアルコール、3−ブテ
ン−1−オール等のω−アルケニルアルコールとα、ω
−ジハロアルカン(1)をヘキサン等の溶媒に溶解させ
、50%水酸化ナトリウム水溶液、テトラブチルアンモ
ニウブロミド等の相間移動触媒を加え、エーテル化を行
ない、ω−ハロアルキルアルケニルエーテル(II)を
得る。又は、アルケニルアルコール、α、ω−ジハロア
ルカン(I)をテトラヒドロフラン(THF)等の溶媒
に溶解させ水素化ナトリウムを加えてエーテル化を行な
いω−ハロアルキルアルケニルエーテル(II)を得る
。得られたω−ハロアルキルアルケニルエーテル(II
)と化合物(III)とを炭酸カリウム等のアルカリの
存在下、2−ブタノン等の適当な溶媒中で反応させてア
ルケニルエーテル体(rV)を得る。次いで、このアル
ケニルエーテル体(■)をジクロロメタン等の適当な溶
媒中で、m−クロロ過安息香酸等の過酸でエポキシ化す
ることにより、目的とするエポキシ化合物(V)を得る
HIC=CH(CH,)、OH+Y(CH2)、Y(I
) 一→  HzC;CH(CH2) +0(CH2)hY
(n) H2C(:H(CH2)+0(CHz)hY + Ho
−<Qべ呪R2(II)           (m)
−82C=CH(CH2)to(CH2)ho−GべI
H2(rV) (式中Yはハロゲンである。) α、ω−ジハロアルカン(1)としては、例えハ1,4
−ジブロモブタン、1,6−ジブロモヘキサン、1,8
−ジブロモオクタン、1.10−ジョードデカン、1.
12−ジブロモドデカン、1.14−ジブロモテトラデ
カンなどが好適に用いられる。
ここで上記化合物(III) !(0−■−ぐ)/R2
は、下記の如くして合成することができる。
下記反応式に示す如く、4′−ヒドロキシビフェニル−
4−カルボン酸と不斉炭素を有していないアルコール(
VI)とを、適当な溶媒、例えばベンゼンなどの溶媒中
において、エステル化触媒、例えば濃硫酸やp−トルエ
ンスルホン酸などの存在下に所望の温度で反応させるこ
とにより、このエステル化合物(■)を得る。
(V) (■)      (■) アルコール(Vl)としては、例えば、n−ブチルアル
コール、n−ペンチルアルコール、n−ヘキシルアルコ
ール、シクロヘキシルアルコール、n−へブチルアルコ
ール、n−オクチルアルコール、n−ノニルアルコール
、5ec−ブチルアルコール、t−ブチルアルコールな
どが用いられる。
下記反応式に示す如く、前記アルコール(VI)をトシ
ル化し、これにビフェニル−4,4′ −ジオールを反
応させてこのエーテル体(X)を得る。
R”OH−) R”0sS((ンCHs(VI) 下記反応式に示す如く、ビフェニル−4,4′−ジオー
ルと不斉炭素を有していないカルボン酸(■)を反応さ
せることにより、このエステル化合物(IX)を得る。
(■)      (■) カルボン酸(■)としては、例えば、n−ブタン酸、n
−ペンタン酸、n−へキサン酸などが用いられる。
(2)  R”かに互バ加べ3R”  である場合下記
反応式で示す如く、ω−ハロアルキルアルケニルエーテ
ル(n)とp−ヒドロキシ安息香酸エチルエステルとを
、アセトン等の適当な溶媒中で炭酸カリウム等のアルカ
リの存在下で反応させ、エーテル体を得る。次いで、こ
のエーテル体におけるカルボキシル基の保護基を水酸化
カリウム水溶液、塩酸等により脱離させ、カルボン酸体
とする。このカルボン酸体に塩化チオニル等のハロゲン
化剤を加え、トルエン等の溶媒中で加熱し、酸ハライド
とする。次いで、この酸ハライドと前記化合物(III
)とをトルエン等の溶媒中でピリジンの存在下に反応さ
せ、アルケニルエーテル体(XI)を得た後、ジクロロ
メタン等の適当な溶媒中でm−クロロ過安息香酸等の過
酸を用いてエポキシ化することにより、目的とするエポ
キシ化合物(xm)を得る。
)12C=0!−(CHI)10(CHI)kY + 
H4C00C,H。
(n) −H2C=a(−(CHz)+ 0(CH2)ho−@
−cooc、)III→H2C=cH−(CH2)+0
(CHz)h蝉0E00H←H2C=α−(CHs)+
0(Clz)hO+C0C1H2C=CH−(CH,)
+0(CHJ kO−◎COCl+HO−◎4)R2(
III) →H2C=CH−(CHJ +0(CHa)ho−◎C
瓜◎ぺ)R2(X I ) (XI) (3)R”が−()→■−(曙べ□ΣR2である場合下
記反応式で示す如く、ω−ハロアルキルアルケニルエー
テル(II)とハイドロキノンとを炭酸カリウム等のア
ルカリの存在下で反応させ、エーテル体(X at)を
得る。
下記化合物(XIV)を塩化チオニル等により酸クロリ
ド化する。得られた酸クロリドとエーテル体(XI[I
)とをピリジンの存在下反応させ、アルケニルエーテル
体(X V)を得る。以後は(1)の場合と同様にエポ
キシ化を行ない、目的とするエポキシ化合物(XVI)
を得る。
H2C(:H−(Oli)+0(CH2)hY + H
O+H(n) −) H2C=CH−(CH□)、0(CH,)、o−
o−oH(xm) (X■) −) HOOC−@−@−COORI  (XVI[)(XV
t) ここで、上記化合物(XIV)  H(1)←0−<Φ
ΣR8は下記の如くして得られる。
カルボン酸(■)を塩化チオニル等により酸クロリド化
した後、4′−ヒドロキシビフェニル−4−カルボン酸
とピリジンの存在下反応させ、上記エステル体(X■)
を得る。
アルコール(VI)とビフェニル−4,4′−ジカルボ
ン酸をトルエン等の溶媒中でエステル化触媒の存在下反
応させ、上記エステル体(X■)を得る。
Raou + uooc−i@−coon(VI) 4′−ヒドロキシビフェニル−4−カルボン酸エチルエ
ステルとアルコール(VI)をトシル化して得たI)−
)−ルエンスルホン酸エステルとを炭酸カリウム等の存
在下反応させ、エーテル体を得る。
このエーテル体をアルカリ水溶液等と反応させ、保護基
のエステルを加水分解し、上記化合物(X■)を得る。
させ、下記の目的とするエポキシ化合物(XXI)を得
る。
ここで上記化合物(X X)は下記の如くして得られる
−) c2H,oc$8 −) HooC%oR3cxrx) (4)  R”がべπ)(ω−(乏PR3である場合エ
ポキシ化合物の合成法において、化合物(I)HO−(
Σト(Σ>R2の代わりに化合物(xx)HO−((Σ
>R2を用い、その他は同様にして反応上記(1)にお
ける化合物(■)の合成において、4′−ヒドロキシビ
フェニル−4−カルボン酸の代わりにp−ヒドロキシ安
息香酸を用いて、同様の反応を行ない、上記エステル体
(xxn)を得る。
上記(1)における化合物(VW)の合成において、ビ
フェニル−4,41−ジオールの代わりにハイドロキノ
ンを用いて、同様の反応を行ない、上記エステル体(x
xm)を得る。
上記(1)における化合物(X)の合成において、ビフ
ェニル−4,4′−ジオールの代わりにハイドロキノン
を用いて、同様の反応を行ない、」1記エステル体(x
xrv)を得る。
(5)  R11J< (@−ocoべΦンR2テある
場合下記反応式で示す如く、上記(3)のR1がへ富Σ
虻0へΦΣ@−R”  であるエポキシ化合物の合成に
おイテ、化合物(XIV) HOOC−o−C)−R’
の代わりに化合物(XXV)HOOCべ蔓ンR2を用い
て同様の反応を行ない、目的とする下記−般式のエポキ
シ化合物(XXVI)を得る。
(XXV) CIC哄))R” + ToC−CH(CHJ+O(開
山0−ζion(xm) (XXVI) ここで上記化合物(XXV)は下記の如くして得られる
上記(3)における化合物(X■)の合成において、ビ
フェニル−4,4′ −ジカルボン酸の代わりにテレフ
タル酸を用いて同様の反応を行ない、上記エステル体(
XX■)を得る。
(XX■) 上記(3)における化合物(X■)の合成において、4
′−ヒドロキシビフェニル−4−カルボン酸の代わりに
p−ヒドロキシ安息香酸を用いて同様の反応を行ない、
上記エステル体(XX■)を得る。
R”C0OH→ R”C0CI (XX■) 上記(3)における化合物(XIX)の合成において、
4′−ヒドロキシビフェニル−4−カルボン酸エチルエ
ステルの代わりにp−ヒドロキシ安息香酸エチルエステ
ルを用いて同様の反応を行ない、上記エーテル体(XX
■)を得る。
R’0H−)R”OsS+CHi −C2HsocOイツOR” −+ Hooc−3oR
8(XX]X) (6)  R1が−(3日ご身(ω−(乏>R1である
場合上記の(2)のR1がべΦΣ(3)〜(Dべπ身□
−R”である場合のエポキシ化合物の合成において、p
−ヒドロキシ安息香酸エチルエステルの代りに4′−ヒ
ドロキシビフェニル−4−カルボン酸エチルエステルを
用い、化合物 (III) H−唖X(□R2の代りに
前記化合物 (XX) H()−<τ矢R2を用いて同
様の反応を行ない、目的とする下記一般式のエポキシ化
合物(XXX)を得る。
(XXX) (7)  R’が−()べ富Σoco−4≧ζR8であ
る場合上記+3)ノR1カー@−oco−り9へ富ΣR
2テアルエポキシ化合物の合成において、ハイドロキノ
ンの代りにビフェニル−4,4−ジオールを用い、化合
物(xrv) Hooc−()×ΦンR2の代りに前記
化合物(XXV) HOOC−(ΣトR”を用イテ同様
)反応を行ない、目的とする下記一般式のエポキシ化合
物(XXX I )を得る。
(XXXI) 本発明に係るモ2ノマーであるエポキシ化合物の具体例
としては、例えば、下記の構造式で表されるものが挙げ
られる。
u2cm;xt−co□occH2)1.o%coo−
◎cooc(cHg)so 次に、このようにして得られた1種又は2種以上のモノ
マーを重合し、て、本発明の液晶性高分子を台底するが
、この際重合方法として公知のカチオン重合法などを採
用することができる。
カチオン重合の触媒として、各種のものが知られている
が、硫酸、リン酸、過塩素酸のようなプロトン酸、三フ
ッ化ホウ素、塩化アルミニウム、四塩化チタン、塩化第
二スズのようなルイス酸、三フッ化ホウ素エーテラート
などが挙げられ、この中で塩化第二スズが好適に用いら
れる。
また、有機アルミニウム錯体等を用いた配位重合を行な
うことも可能である。この場合には、数平均分子ft3
00,000以上の液晶性高分子が得られる。
重合方法としては、塊状重合、スラリー重合、溶液重合
などの種々の方式が知られており、これらのいずれの方
式を用いてもよいが、溶液重合が好ましい。
重合温度は、触媒の種類に依存し、−様ではないが、通
常、0〜30℃が適当である。
重合時間は重合温度など他の要因によって異なるが、通
常数時間〜6日間である。
分子量の調節は、公知の分子量調節剤の添加及び又はモ
ノマーに対する触媒の濃度の調節によって行なうことが
できる。
塊状重合方式においては、前記モノマーと開始剤とを十
分に混合し、その混合物を十分に脱気し、2枚の基板、
例えばガラス基板の間に導入し、加熱することによって
液晶性高分子を基板間に密着した状態で直接に固定化す
ることもできる。
スラリー重合、溶液重合方式の場合の溶媒としては、公
知の不活性溶媒を用いることができ、なかでもヘキサン
、ジクロロメタン、又はベンゼン、トルエン、キシレン
などの芳香族系の溶媒が好適に用いられる。
また、重合反応及び前記エポキシ化の反応においては、
必須ではないが、アルゴン、窒素等の不活性ガスで系を
置換して行なうことが好ましい。
このようにして得られた液晶性高分子は、光学活性な化
合物をブレンドし、公知の製膜法、例えばキャスティン
グ法、Tダイ法、インフレーション法、カレンダー法、
延伸法などによってフィルムに底形して用いることがで
きる。 フィルム状の液晶性高分子は、2枚の通常のガ
ラス基板はもとより、大型のガラス基板、曲面状のガラ
ス基板、ポリエステルフィルム等の間に挟んで、液晶デ
イスプレー、電子光学シャッター、電子光学絞りなどの
種々のオプトエレクトロニクスの分野に利用することが
できる。
また、適当な溶媒に溶解した高分子溶液をガラス基板な
どの基板面に塗布し、溶媒を蒸発させることによって、
直接基板面上に密着した状態でフイルム化することもで
きる。
本発明の液晶性高分子に光学活性な化合物をブレンドし
たものは、室温附近を含む広い温度範囲で強誘電性を示
すことが確認された。また、電界に対する応答速度が速
いことも確認された。
また、本発明の液晶性高分子をブレンドした強誘電性液
晶材料は製膜性にも優れているので、インテグレーテッ
ドオブティクス、オプトエレクトロニクス、情報記憶の
分野に数多くの応用可能性がある。例えば、種々の形状
のディジタル表示デイスプレィなどの液晶デイスプレィ
、電子光学シャッター、光通信用光路切換スイッチなど
の電子光学スイッチ、電子光学絞り、メモリー素子、光
変調器、液晶プリンターヘッド、焦点距離可変レンズな
どの種々の電子光学デバイスとして使用することができ
る。
本発明の液晶性高分子にブレンドして用いられる光学活
性化合物のうち、強誘電性低分子液晶化合物としては、
例えばシッフ塩基系強誘電性低分子液晶化合物、アゾ及
びアゾキシ塩基系強誘電性低分子液晶化合物、ビフェニ
ル及びアロマティックスエステル系強誘電性低分子液晶
化合物、ハロゲン、シアノ基等の環置換基を導入した強
誘電性低分子液晶化合物、複素環を有する強誘電性低分
子化合物などが挙げられる。
シッフ塩基系強誘電性低分子液晶化合物としては、例え
ば、次に示す化合物(1)〜(4)が挙げられる。
n=5〜10,12.14 n=7〜10゜ 1工 n=7. 8.14 n=4.8.12 アゾ及びアゾキシ系強誘電性低分子液晶化合物としては
、例えば次に示す(5)、(6)が挙げられる。
n=8 ハロゲン、シアノ基等の環置換基を導入した強誘電性低
分子液晶化合物としては、例えば、次に示す化合物(9
)〜(11)が挙げられる。
す n=4、 n=6. 8.10 n=16 ビフェニル及びアロマティックスエステル系強誘電性低
分子液晶化合物としては、例えば、次に示す(7)、(
8)が挙げられる。
n=8 n=8 n=4.6 複素環を有する強誘電性低分子液晶化合物としては、例
えば、次に示す化合物(12)、(13)が挙げられる
なお、前記化合物は、強誘電性低分子液晶化合物の代表
的化合物であり、本発明の強誘電性低分子液晶化合物は
なんら、これらの構造式のものに限定されるものではな
い。
また、非液晶性光学活性化合物としては、特に限定され
るものではないが、例えば、次に示すような化合物を挙
げることができる。
物をブレンドすることにより強誘電性液晶として用いる
ことが可能となる。光学活性化合物の配合量は、組成物
全体に対して、通常0を超え90モル%以下とすること
が好ましい。光学活性化合物が非液晶性である場合には
、通常、Oを超え30モル%以下、好ましくは10〜2
0モル%配合して使用する。また、光学活性化合物が液
晶性を有している場合には、通常Oを超え90モル%以
下、好ましくは、20〜80モル%配合して使用する。
必要に応じて、本発明の液晶性高分子は高分子液晶同志
の混合して、あるいは他の高分子と混合して用いること
ができる。その他、安定剤、可塑剤などを含めた種々の
無機、有機、及び金属類等の添加物を添加して用いるこ
とができる。
本発明の液晶性高分子は前記した光学活性化合[実施例
] 以下、本発明を実施例により説明するが、本発明の範囲
はこれら実施例によりなんら制限されるものではない。
なお、得られた高分子及びエポキシ化合物の構造は、N
MR,IR,元素分析により確認し、また相転移温度の
測定及び相の確認は、それぞれDSC及び偏光顕@鏡に
より行なった。(glass ニガラス状態、SmC”
 :カイラルスメクチックC相、SmA :スメクッチ
クA相、Iso :等吉相、相転移挙動の数字は、相変
化温度を℃で表したものである。〕実施例1 [モノマーの合成重 H2C(:HCHzO(CH2)go<泗弥唖ト箕4H
111、■ 6−ブロモヘキシルアリルエーテルのA處
 アリルアルコール5.Og及び1,6−ジブロモヘキ
サン65gをヘキサン80m1に溶解させた。 そこへ
、50%水酸化ナトリウム水溶液110g及びテトラブ
チルアンモニウムプロミド1゜5gを加えて17時間還
流させた。反応後、ヘキサン層を集め、水洗し、硫酸マ
グネシウム上で乾燥させた。次いで、溶媒を減圧留去し
、残渣をカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的
とするω−ハロアルキルアリルエーテル体12.6gを
得た。(収率66%) 1、■で得た6−ブロモヘキシルアリルエーテル6.0
g、p−ヒドロキシ安息香酸メチルエチルエステル4.
4g、及び水酸化カリウム2.  Ogをエタノール5
0+elに溶解させ、12時間還流した。次いで、水酸
化カリウム水溶液(水酸化カリウム6.0gを含む)1
50mlを加え、さらに12時間還流した。反応後、塩
酸を滴下し、pH=2とし、生じた沈殿を集めた。得ら
れた沈殿を十分水で洗浄し、次いで減圧下で加熱して乾
燥させ、目的とするカルボン酸体(6,5g)を得た。
(収率87%) 1、■で得られたカルボン酸体2.8gにビリジン2滴
を触媒として加えた。そこへ、大過剰の塩化チオニル、
すなわち塩化チオニル20m1を溶媒を兼ねて加え、8
0℃にて4時間攪拌した。反応後、過剰の塩化チオニル
を減圧留去し、酸クロリド体を得た。
p−ヒドロキシ安息香酸n−ブチルエステル1゜9g及
びピリジン1.Ogを含むトルエン溶液を、上記の酸ク
ロリド体のトルエン溶液に滴下した。
次いで、室温にて1日反応を行なった。反応後、水洗し
、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次いで溶媒を減圧留
去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにより精製し
、目的とするフェニルベンゾエート体3.7gを得た。
(収率81%)1、■±並±2北 1、■で得られたフェニルベンゾエート体1゜8gをジ
クロロメタンに溶解させ、系をアルゴン置換した。m−
クロロ過安息香酸1.Ogを加えて室温で1日反応させ
た。反応後、炭酸カリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネ
シウム上で乾燥させ、溶媒を減圧留去し、上記の構造で
表されるエポキシ化合物であるモノマー1.7gを得た
。得られた生成物につき、これ以上の精製は行なわずに
、次の反応に用いた。
[重合] 1、■で得られたモノマー1.7gをジクロロメタンに
溶解させ、系をアルゴン置換した。そこへ、塩化第二ス
ズ21μI(モノマーの5モル%)を加えた。室温で3
日間重合させた。反応後、反応液を濃縮し、カラムクロ
マトグラフィーにより精製し、目的とする下記式で表さ
れる繰り返し単位を有する高分子1.2gを得た。(収
率71%)この高分子の’HNMR(CDCIm)のδ
(ppm)を下記に示す。また分子量、相転移挙動を第
1表に示す。
δ(ppm)  0. 8−2. 0 (m、 15H
)、3.2−3.5 (m、7H) 、3.7 (t、
2H)、4.0 (t、2H) 、6.8 (d、2H
) 、7゜2  (d、2H) 、8.0  (d、4
H)実施例2 [モノマーの合成重 実施例1の1.■で得られた6−ブロモヘキシルアリル
エーテル6.6g、4−ヒドロキシビフェニル−4−カ
ルボン酸n−ブチルエステル8゜1g1及び炭酸カリウ
ム4.2gを、2−ブタノン中で80℃で12時間加熱
攪拌した。反応後、無機物を濾過により除き、次いで溶
媒を減圧留去した。残渣をメタノールから再結晶し、目
的とするビフェニル誘導体を13.5gを得た。(収率
95%) 2、■五ヱ土2兆 2、■で得られたビフェニル誘導体13.5gをジクロ
ロメタンに溶解させ、系をアルゴン置換した。次いで、
m−クロロ過安息香酸7,4gを加え、室温で2日間攪
拌した。反応後、反応液を炭酸カリウム11.8gを含
む水溶液で洗浄した。
次いで硫酸マグネシウム上で乾燥させてから、溶媒を減
圧留去し、目的とする上記構造式で表されるエポキシ化
合物であるモノマー11゜8gを得た。(収率85%) 得られたモノマーは、室温で粘度の高い液体であった。
得られたモノマーにつき、これ以上の精製は行なわずに
、次の反応に用いた。
[重合] 2、■で得られたモノマー11.8gをジクロロメタン
に溶解させ、系をアルゴン置換した。そこへ、塩化第二
スズ140μm (モノマーの5モル%)を加えた。室
温で4日間重合させた。反応後、反応液を濃縮し、メタ
ノールへ再沈殿させた。
沈殿物を集め、カラムクロマトグラフィーにより精製し
、目的とする下記式で表される繰り返し単位を有する高
分子7.7gを得た。
この高分子の”H−NMR(CDCIg)のδ(ppm
)を下記に示す。また分子量、相転移挙動を第1表に示
す。
δ(ppm)  0. 8−2. 1 (m、 15H
)、3.2−3.8 (m、7H) 、3.9 (t、
2H)、4.1 (t、2H) 、6.8 (d、2H
) 、7゜4 (d、4H) 、8.0 (d、2H)
実施例3 キシ安息香酸2−メチルブチルエステルの代わりに4−
ヒドロキシビフェニル−4′−カルボン酸n−ブチルエ
ステルを用いることにより実施例1と同様に合成した。
この高分子の!H−NMR(CDCt*)のチャートを
第1図に示し、δ(ppm)を下記に示す。
また分子量、相転移挙動を第1表に示す。
δ(ppm)  0.8−2.1 (m、23H)、3
.3−3. 7 (m、 7H) 、3. 8 (t、
 2H)、4.1 (t、2H) 、6.8 (d、2
H) 、7゜1 (d、2H) 、7.7 (2d、4
H) 、8.1(2a、4H) 実施例4 [モノマーの合成] の合成 実施例1において1.6−ジブロモヘキサンのわりに1
.10−ジブロモデカンを、p−ヒドロアリルアルコー
ル2.0gをTHF50mlに溶解させた。そこへ、6
0%水素化ナトリウム(水素化ナトリウムと鉱油との混
合物であり、水素化ナトリウムの含有量が60重量%の
もの)2.5gを少しずつ加えた。室温で30分間攪拌
してから、1.10−ジョードデカン33.0g及びT
HFlomlからなる溶液を滴下した。反応後、少量の
水を加えて残存する水素化ナトリウムを分解させた。次
いで、THFを減圧留去してから、ジクロロメタンと水
を加え、振り混ぜた。ジクロロメタン層を集め、硫酸マ
グネシウム上で乾燥させた。減圧濃縮を行なった後、残
渣をカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とす
るω−ハロアルキルアリルエーテル8.2gを得た。(
収率53%) 4、■で得られた10−ヨードデシルオキシアリルエー
テル8.2g、4’ −ヒドロキシビフェニル−4−カ
ルボン酸4.8g、及び水酸化カリウム3.3g及び水
5.Ogをメタノール50m1中で24時間還流して反
応させた後、500m1の水を加えてから塩酸を滴下し
、pH=2とした。
沈殿物を集め、減圧乾燥した。粗生成物を酢酸から再結
晶し、目的とするカルボン酸体4.3gを得た。(収率
53%) 4、■で得られたカルボン酸体4.3gにピリジン2滴
及び塩化チオニル5.Ogを加え、90℃にて4時間攪
拌した。反応後、過剰の塩化チオニルを減圧留去し、酸
クロリド体を得た。p−ヒドロキシ安息香酸n−ブチル
エステル2.0g及びピリジン0.9gを含むトルエン
溶液に上記酸クロリド体のトルエン溶液を滴下し、室温
で1日攪拌した。反応後、水洗し、硫酸マグネシウム上
で乾燥し、溶媒を減圧留去した。残渣をメタノールから
再結晶し、目的とするフェニルビフェニルカルボキシレ
ート体を得た。(収率85%)4、■玉里土上北 4、■で得られたフェニルビフェニルカルボキシレート
体5.2gをジクロロメタンに溶解させ、系をアルゴン
置換した。m−クロロ過安息香酸2゜3gを加えて室温
で7時間反応させた。反応後、炭酸カリウム水溶液で洗
浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、溶媒を減圧留去
し、上記の構造で表されるエポキシ化合物であるモノマ
ー4.8gを得た。得られた生成物につき、これ以上の
精製は行なわずに、次の反応に用いた。
[重合] 1、■で得られたモノマー4.8gをジクロロメタンに
溶解させ、系をアルゴン置換した。そこへ、塩化第二ス
ズ46μI (モノマーの5モル%)を加えた。室温で
3日間重合させた。反応後、反応液を濃縮し、カラムク
ロマトグラフィーにより精製し、目的とする下記式で表
される繰り返し単位を有する高分子3.3gを得た。
この高分子の”HNMR,(CD Cl g)のチャー
トを第2図に示し、δ(ppm)を下記に示す。
また分子量、相転移挙動を第1表に示す。
δ(ppm)  o、8−2.  O(m、 23H)
、3、 4−3. 7 (m、 7H) 、3. 8 
(t、 2H)、4.1 (t、2H) 、6.8 (
d、2H) 、7゜1 (d、2H) 、7.6 (2
d、4H) 、8.1(2d、4H) 実施例5 [モノマーの合成〕 8−ブロモオクチルアリルエーテル5.Og。
4.4′ −ジフェノール12g及び水酸化カリウム9
.0gをエタノール中で20時間還流した。
反応後、無機物を熱濾過により除いた。エタノールを減
圧留去してから、残留物を水:アセトン混合溶媒に溶解
させた。得られた溶液に希塩酸を加えpH=2とした。
次いでこの溶液を加熱してアセトンを蒸発させ、不溶物
を熱時濾過して集め、次いでエタノールから再結晶し、
目的とするビフェニル誘導体3.5gを得た。(収率4
9%)戎 5、■で得たビフェニル誘導体1.5g及びペンタン酸
0.4gをジクロロメタンに溶解させた。
得られた溶液にジシクロへキシルカルボジイミド1.3
g及び4−ピロリジノピリジン0.1gを加え、室温で
1日攪拌した。反応後、不溶物を濾過によって除いてか
ら水洗した。硫酸マグネシウム上で乾燥させてから溶媒
を減圧留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーによ
って精製し、目的とするビフェニル誘導体1.5gを得
た。(収率82%) 5、■エポキシi 5、■で得られたビフェニル誘導体1.5gをジクロロ
メタンに溶解させ、系をアルゴン置換した。m−クロロ
過安息香酸0.9gを加えて室温で1日反応させた。反
応後、炭酸カリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウム
上で乾燥させ、溶媒を減圧留去し、上記の構造で表され
るエポキシ化合物であるモノマー1.5gを得た。得ら
れた生成物につき、これ以上の精製は行なわずに、次の
反応に用いた。
[重合] 5、■で得られたモノマー1.5gをジクロロメタンに
溶解させ、系をアルゴン置換した。そこへ、塩化第二ス
ズ19μl (モノマーの5モル%)を加えた。室温で
3日間重合させた。反応後、反応液を濃縮し、カラムク
ロマ!・グラフィーにより精製し、目的とする下記式で
表される繰り返し単位を有する高分子0.9gを得た。
この高分子の’H−NMR(CDCIりのδ(ppm)
を下記に示す。また分子量、相転移挙動を第1表に示す
δ(ppm)  o、8−1. 9 (m、 19I−
I)、2、 1 (t、 2H) 、3. 3−3.7
 (m、 7I−()、4、 1 (t、 2H) 、
6. 8−7. 4 (rn、 8H)実施例6 [モノマーの合成] 8−ブロモオクチルアリルエーテル7、Og。
ビフェニル−4,4′−ジオール11.Og及び水酸化
カリウム8.0gをメタノール中で20時間還流した。
メタノールを減圧留去してからアセトンを加え、塩酸を
滴下(7たつ不溶物を濾過によって除いてから、溶媒を
減圧留去した。残渣をエタノールから再結晶し、目的と
するフェノール体を得た。(収率 72%) 4−ブトキシ安息香酸3.9gに塩化チオニル8、Og
を加え、80℃にて3時間加熱攪拌した。
反応後、過剰の塩化チオニルを減圧留去し、酸クロリド
体を得た。
6、■で得たフェノール体7.1g及びトリエチルアミ
ン2.0gのTHF溶液に上記酸クロリド体のTHF溶
液を滴下し、室温で1日攪拌した。
次いでエーテルを加え水洗し、硫酸マグネシウム上で乾
燥し、溶媒を減圧留去した。残渣をメタノール再結晶し
、目的とするエステル体9.Ogを得た。(収率85%
) 6、■ とヱ土2北 6、■で得られたエステル体9.Ogをジクロロメタン
に溶解させ、系をアルゴン置換した。次いでm−クロロ
過安息香酸4.4gを加え、室温で7時間攪拌した。反
応後、反応液を炭酸カリウム水溶液で洗浄した。硫酸マ
グネシウム上で乾燥させてから、溶媒を減圧留去し、目
的とする上記の構造式で表されるエポキシ化合物である
モノマー8.6gを得た。
[重合コ ロ、■で得られたモノマー8.6gをジクロロメタンに
溶解させ、系をアルゴン置換した。そこへ、塩化第二ス
ズ92μl(モノマーの5モル%)を加えた。室温で3
0時間重合させた。反応後、反応液を濃縮し、カラムク
ロマトグラフィーにより精製し、目的とする下記式で表
される繰り返し2単位を有する高分子4.8gを得た。
この高分子の’H−NMR(CDCis)のδ(ppm
)を下記に示す。また分子量、相転移挙動を第1表に示
す。
δ  (ppm)      0 、  8−2 、 
 0   (m、   19H)   、3.4−3.
6 (m、7H) 、3.8 (t、2H)、3.9 
(t、2H) 、6.8 (2d、4H) 、73 (
rn、 6H) 、8. 0 (d、 2H)実施例7 [モノマーの合成重 アリルアルコール2.Og、60%水素化ナトリウム1
.7g、1.14−ジブロモテトラデカン30gを用い
て、実施例4の4.■と同様の反応、操作を行ない、目
的とするω−ハロアルキルアリールエーテル体7.9g
を得た。(収率 69%) 7、■ 4− 工4−アリルオキシテトラデンル土土之
Σ支7」在研9C戴 7、■で得たアリルエーテル体7.9gXp−ヒドロキ
シ安息香酸メチルエステル3.6g及び水酸化カリウム
1.6gを用いて実施例1の1゜■と同様の反応、操作
を行ない、目的とするカルボン酸体6.8gを得た。(
収率 74%)4−(14−アリルオキシテトラデシル
オキシ)安息香酸6.8g、ピリジン3滴及び塩化チオ
ニル6.2gを、80℃にて3時間加熱攪拌した。
反応後、過剰の塩化チオニルを減圧留去し、酸クロリド
体を得た。
4−へキシルオキシフェノール3.4g及びトリエチル
アミン1.8gを含むトルエン溶液に上記酸クロリド体
のトルエン溶液を滴下し、室温で8時間攪拌した。次い
で水洗し、硫酸マグネシウム上で乾燥j7、溶媒を減圧
留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにより精製
し、目的とするエステル体7.1gを得た。(収率72
%)7、■ ±吏土之札 7、■で得られたエステル体7.1gをジクロロメタン
に溶解させ、系を窒素置換した。次いでm−クロロ過安
息香酸3.2gを加え、室温で7時間攪拌した。反応後
、反応液を炭酸カリウム水溶液で洗浄した。硫酸マグネ
シウム上で乾燥させてから、溶媒を減圧留去し、目的と
する上記の構造式で表されるエポキシ化合物であるモノ
マー6゜7gを得た。(収率92%) [重合] 7、■で得られたモノマー6.7gをジクロロメタンに
溶解させ、系をアルゴン置換した。そこへ、塩化第二ス
ズ67μlを加えた。室温で30時間重合させた。反応
後、反応液を濃縮し、カラムクロマトグラフィーにより
精製し、目的とする下記式で表される繰り返し単位を有
する高分子3゜8gを得た。
:ノAii分子ノ”H−NMR(CDCla)ノδ(p
pm)を下記に示す。また分子量、相転移挙動を第1表
に示す。
δ(ppm)  0. 8−2、O(m、35I()、
3.4 (m、7H) 、3.8 (t、2H) 、3
゜9 (t、2H) 、6.9 (m、6H) 、8.
0(d、2H) 実施例8 より合成することができる。得られた高分子の’H−N
MR,(CDC1g)のδ(pp[11)を下記に示す
。また分子量、相転移挙動を第1表に示す。
δ(ppm)  0. 8−2. 1 (m、 23H
)、3、 2−3. 7 (m、 9H) 、3. 8
 (t、 2H)、4.1 (t、2H) 、6.8 
(d、2H) 、7゜1 (d、2H) 、7.7 (
2d、4H) 、8.1(2d、4H) 実施例9 実施例1においてアリルアルコールの代わりに3−ブテ
ン−1−オールを、1,6−ジブロムヘキサンの代わり
に1,10−ジブロモデカンを、p−ヒドロキシ安息香
酸2−メチルブチルエステルの代わりに、4−ヒドロキ
シビフェニル−4′−カルボン酸n−ブチルエステルを
用いることにの合成 実施例1のモノマー1.9gと実施例3のモノマー3.
6gとをジクロロエタンに溶解させ、系をアルゴン置換
した。そこへ3フツ化ホウ素(モノマーの1モル%)を
加え、室温で8時間重合させた。反応後カラムクロマト
グラフィ・−により精製し、上記の共重合体3.9gを
得た。(収率70%)得られた高分子のδ(ppm)値
とピーク強度比を下記に示す。また分子量、相転移挙動
を第1表に示す。
δ(ppm) 0、 8−2. 1 3 2−3 7 3、 7−4.1 6、 8−8. 1 ピーク強度比 5、 0 1.8 2.6 実施例1O (Mn=1700) [実施例1の高分子コ 物の応答速度は測定温度5℃で210μsecで、(B
)単独の応答速度は測定温度5℃で200μsecであ
った。
また、この液晶組成物の相転移挙動は下記の通りであっ
た。
SmC” ←−−SmA 10℃ 上記混合系で低分子液晶性化合物(B)の含有量が20
モル%以上でSmC“相を有する液晶組成物が得られた
。応答時間を調べたところ、低分子液晶性化合物の含有
量が70モル%以上の組成では、応答速度は低分子液晶
性化合物単独での応答速度とほぼ同じであった。
すなわち(A)と(B)のモル比が3:7の組成但し、
ここでの応答速度の測定は次のようにして行なった。
すなわち、2枚のITOガラス基板間に液晶をはさみ、
シアリング法により厚み約2μmの配向セルを作製した
。更にクロスニコル下で±20MV/mの電界を引加し
てそのときの光透過率の変化量が0〜90%に達するの
に要する時間を測定した。
実施例11 実施例10に示(7た混合系の液晶を50℃の溶融状態
で15μmのフィルムを形威し、表面速度の異なる2つ
のローラ一対に(前:3m/min、後:2m10+i
n)に2枚のPETフィルム(厚さ100μm)を介し
てはさみ、−軸延伸(5倍)を行ない、SmA相から5
℃/minで徐冷したところ、偏光顕微鏡による観察で
、良好な配向フィルムが得られていることが確認された
200μsecであった。
また、この液晶組成物の相転移挙動は下記の通であった
相転移挙動 比較例1 (Mn=1800) 上記混合系で低分子液晶性化合物(B)の含有量が70
モル%のときの応答時間と相転移挙動をを調べたところ
、(A)と(B)のモル比が3:7の組成物の応答速度
は測定温度5℃で270μsecで、(B)単独の応答
速度は測定温度5℃でなお、比較例1の化合物Aの合或
は次のようにして行なった。
4−(9−デセニルオキシ)安息香酸30ミリモル(8
,3g)及び塩化チオニル60ミリモルフ、4gのトル
エン50m1溶液を80℃で3時間攪拌後減圧濃縮し、
酸クロリド体を得た。4−ヒドロキシ安息香酸ブチルエ
ステル25ミリモル(4,6g)及びトリエチルアミン
5mlのTHF50ml溶液に酸クロリド体のTHF5
ml溶液を滴下後、室温で5時間攪拌した。反応液を濃
縮後、水を加えてエーテル抽出した。抽出液を乾燥、濃
縮後、カラムクロマトグラフィーにより精製し、モノマ
ー、前駆体io、:tg(収率90%)を得た。
モノマー前駆体10ミリモル(4,5g)及びm−クロ
口過安息香酸15ミリモル(2,6g)の塩化メチレン
50m1溶液をアルゴン置換後、室温で5時間攪拌した
。反応液を炭酸カリウム水溶液及び水で洗浄後、乾燥、
濾過した。濾液をアルゴン置換後、塩化第二スズ0.5
ミリモルを加えて室温で4日間反応させた。反応液を濃
縮後、カラムクロマトグラフィーにより精製し目的とす
る高分子を得た。
実施例12 通りである。
3 Cryst ←→Is。
上記混合系で非液晶性光学活性物質(B)の含有量が5
〜20モル%のときSmC”相を有する液晶組成物が得
られた。(B)の含有量が10モル%のときの応答時間
を調べたところ、応答速度は測定温度25℃で2m5e
cであった。
また、この液晶組成物の相転移挙動は下記の通であった
相転移挙動 [実施例2の化合物コ 比較例2 BはMo1. Cryst、 Liq、 Cryst、
、 1985.129゜61−74 J、  P、  
Le Pe5ant、  J、  N、 Perbet
、  B、 Monrey、 M、 Hareng、 
G、 Decobert、 J、 C,Duboisに
従って合成した。この化合物の相転移挙動は次の(Mn
=1700) 上記混合系で非液晶性光学活性物質(B)の含有量が5
〜20モル%のときSmC”相を有する液晶組成物が得
られた。(B)の含有量が10モル%のときの応答時間
を調べたところ、応答速度は測定温度25℃で3m5e
cであった。
また、この液晶組成物の相転移挙動は下記の通であった
相転移挙動 なお、(A)の高分子は4−ヒドロキシ−4′−ビフェ
ニルカルボン酸n−ブチルエステルを9=デセニルブロ
マイドとウィリアムソン反応条件下で反応させて得られ
た化合物4−(9−デセニルオキシ)−4′−ビフェニ
ルカルボン酸n−ブチルエステルを比較例1の化合物(
A)の合成で示した手法に従ってエポキシ化し、さらに
重合することによって得た。相転移挙動は以下の通りで
あった。
[発明の効果コ 本発明により得られた液晶性高分子は、低分子強誘電性
液晶化合物あるいは非液晶性光学活性物質といった光学
活性化合物とブレンドすることにより、室温域を含む広
い温度範囲で強誘電性を示し、さらに得られた強誘電性
液晶材料は、製膜性、電界に対する高速応答性に優れた
ものであり、その工業的価値は極めて大である。
また、本発明の中間体は上記の液晶性高分子の製造に好
適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は実施例3及び実施例4で得られた高
分子のNMRチャートである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、下記一般式からなる繰り返し単位を有する液晶性高
    分子。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、kは2〜30の整数でありlは0〜10の整数
    であり、 R^1は▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、
    化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼又は ▲数式、化学式、表等があります▼であり、 Xは−COO−又は−OCO−であり、 R^2は−COOR^3、−OCOR^3、−OR^3
    又はR^3であり、R^3は不斉炭素を有していないア
    ルキル基である。) 2、下記一般式からなる構造を有するエポキシ化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、kは2〜30の整数でありlは0〜10の整数
    であり、 R^1は▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、
    化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼又は ▲数式、化学式、表等があります▼であり、 Xは−COO−又は−OCO−であり、 R^2は−COOR−、−OCOR^3、−OR^3又
    はR^3であり、R^3は不斉炭素を有していないアル
    キル基である。)
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