JPH0381391A - 液晶共重合体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は液晶共重合体に関するものである。

さらに詳しくいえば、本発明はオプトエレクトロニクス
分野、特に電卓、時計などの表示素子、電子光学シャッ
ター、電子光学絞り、光変調器、光通信光路切替スイッ
チ、メモリー、液晶プリンターヘッド、焦点距離可変レ
ンズなどの種々の電子光学デバイスとして有用な液晶共
重合体に関するものである。

［従来の技術］ 従来、低分子液晶を用いた表示素子は電卓、時計などの
デジタル表示に広く使用されている。この利用分野では
、従来の低分子液晶は間隔をミクロンオーダーで制御し
た２枚のガラス基板の間に挟んで使用されている。しか
しながら、このような間隙の調整は大型画面や屈曲画面
では実現が不可能であった。この難点を解決する１つの
手段として、液晶を高分子化し、それ自体を成形可能な
らしめることが試みられている。例えば特開平１−１３
１２３４号公報には、無色で常温付近でも強誘電性を示
す上に、電界に対して高速応答性を示す高分子液晶とし
て、特定の構造を有するポリエーテル型強誘電性高分子
液晶が開示されているが、このものは電界に対して高速
応答性を示すが、螺旋ピッチが短いため双安定状態を得
にくいという問題点があった。

また、メソーゲンに２環骨格を有するポリマーはＳｍＣ
”相（強誘電性）温度領域が低く、３環骨格を有するポ
リマーはこれが高いため、室温付近での使用が困難であ
った。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明の目的は、高速応答性の液晶ポリマーのＳｍＣ”
相温度領域及び螺旋ピッチ長を他の液晶モノマー又は非
液晶モノマーと共重合させることにより改良し、室温付
近での電界応答速度が速く、螺旋ピッチの長い（すなわ
ち、双安定状態を得やすい）液晶ポリマーを提供するこ
とにある。

［課題を解決するための手段］ 本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討を重
ねた結果、特定な繰り返し単位を有する特定なポリエー
テル型重合体に特定な七ツマ−を共重合させて得られる
共重合体が単独重合体と比較して室温付近で強誘電性を
示すようになり、また、螺旋ピッチが長くなることを見
出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は下記一般式（１）及び（ＩＩ）で表
される繰り返し単位を有し、（１）と（ＩＩ）のモル比
ｍ：ｎが９９：１〜１：９９である液晶共重合体を提供
するものである。

［式中、 で表される基であり、 Ｒ″は で表される基であり、 Ｒ３及びＲ６は であり、 Ｒ４、Ｒ５、Ｒ’及ヒＲ”ハＣＨａ、ＣＦ、、ＣＮ又ハ
ハロケン基であり、 Ｘｌ、ｘ２、Ｙｌ及びＹ２！；Ｌ−ＣＯＯ−１−ＯＣＯ
−１−〇−又は単結合であり、 ｚｌ及びＺ’バーＣＯＯ−１−ＯＣＯ−又ハー〇−テア
リ、ａ及びｄは１〜３０の整数であり、 Ｃ及びｉはＯ〜１０の整数であり、 ｅはＯ〜５の整数であり、 ｂ、　ｆＳｇ、　ｈ及びｊはＯ又は１であり、ｈ＝ｊ＝
１か一’）Ｚ’＝Ｚ”（７）ときＲ”　＋　Ｒ’テある
。］また、本発明は下記一般式（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び
（ＩＶ）で表される繰り返し単位を有し、（１）と（Ｉ
ＩＩ）と（ＩＶ）のモル比ｓ：ｔ：ｕが９８：１：１〜
１：９８：１〜１：１：９８である液晶共重合体を提供
するものである。

［式中、 で表される基であり、 １ は −（−ＣＨ，チ、Ｈ で表される基であり、 Ｒ１０は で表される基であり、 Ｒ３、Ｒ６及の１１は であり、 Ｒ４、Ｒ１１，Ｒ７、Ｒ″及ヒＲ”ハｃＨ８、ＣＦ、、
ＣＮ又ハハロゲン基であり、 ｘｌ、Ｘ２、Ｘ８．　Ｙｌ、Ｙ２及びｙ”バーｃｏｏ−
１−ＯＣＯ−１−０−又は単結合であり、 ｚｌ、Ｚ２及びｚ３は−ＣＯＯ−１−ＯＣＯ−又ハーｏ
−テあり、ａ、、ｄ及びｋは１〜３０の整数であり、ｃ
、　ｉ及びｒはＯ〜１０の整数であり、ｅ及び１はＯ〜
５の整数であり、 ｂ、　ｆＳｇＳｈ、　ｊ及びｑは０又は１であり、ｈ＝
１かツＺ’＝Ｚ”ｒ７）とキＲ５−１！−Ｒ６テアリ、
ｈ：０カツｊ＝１のとき（ｅ＋ｉ）≠（１＋ｒ）である
。］本発明の共重合体の数平均分子量は、好ましくは１
，０００〜５００，０００である。１，０００未満であ
ると該共重合体のフィルム、塗膜としての成形性に支障
を生じる場合があり、一方５０ｏ、ｏｏｏを超えると応
答速度が遅いなどの好ましくない効果が現れることがあ
る。そして数平均分子量の好ましい範囲は１，０００〜
１００．　０００である。

ａ、ｄ及びｋは１〜３０の整数であり、より好ましくは
６〜１２の整数である。また、ｍ：ｎは好ましくは９０
：１０〜１０　：　９０であり、ｓ：ｔ：Ｕは好ましく
は９０：５：！５〜５：９０：５〜５：５：９０である
。

本発明の液晶共重合体は、 ハ ＨＩＣ−ＣＢ−Ｒ”　　　　　　（Ｉ　’　）■＊Ｃ−
ＣＨ−Ｒ”　　　　　　（ＩＩ　’　）ハ ＨＩＣ−ＣＨ−Ｒ’　　　　　　（ＩＩＩ’　　）ハ ＨＩＣ−ＣＨ−Ｒ”　　　　　（ＩＶ’　）で表される
エポキシ化合物（式中のＲ１、Ｒ２、Ｒ１１゜ＲＩＯは
前記と同じ意味を表す。）を適宜組合せて共重合させる
ことにより得られる。本発明においでは高速応答性を有
する液晶ポリマーに他のエポキシ化合物を共重合させる
ことにより、該液晶ポリマーのＳｍＣ”相温度領域が室
温付近となるよう調節し、かつ螺旋ピッチを長くして双
安定状態を得やすいようにしたものである。

本発明の共重合体の台底に用いられるエポキシ化合物に
ついて説明すると、エポキシ化合物（Ｉ′）は重合して
液晶共重合体の母体となる化合物で、スペーサーとメソ
ゲン基と光学活性基からなる置換基Ｒ１を有している。

エポキシ化合物（■′）はエポキシ化合物（■′）と異
なるエポキシ化合物であるが、置換基Ｒ２はエポキシ化
合物（Ｉ′）の置換基Ｒ１と異なる限りエポキシ化合物
（Ｉ′）と同様、スペーサー及び末端に光学活性基を有
するメソゲン基からなるものであってもよく、また、メ
ソゲン基が末端光学活性基を持たないものであってもよ
く、さらには、スベサー及びメソゲン基を持たないもの
、すなわち、水素、メチル基等のアルキル基であっても
よい。

エポキシ化合物（■′）はエポキシ化合物（Ｉ′）と異
なるエポキシ化合物であり、置換基Ｒ＠はスペーサー及
び末端に光学活性基を持たないメソゲン基からなるもの
であってもよく、またエポキシ化合物（Ｉ′）の置換基
Ｒ１と異なる限り、スペサー及び末端に光学活性基を有
するメソゲン基からなるものであってもよい。

エポキシ化合物（■′）はエポキシ化合物（Ｉ′）とも
エポキシ化合物（■′）とも異なる化合物であるが、置
換基Ｒ１０は（１′）及び（■′）と同様、スペーサー
及びメソゲン基からなるものであってもよく、またさら
にそのメソゲン基が光生活性基を有していてもよく、一
方、スペサー及びメソゲン基を持たないもの、すなわち
、水素メチル基等のアルキル基であってもよい。

エポキシ化合物（１′）の合成例を中心に以下説明する
。他のエポキシ化合物もこれに準じて合成する。

（１）Ｒ１が である場合 下記の反応式で示されるように、アルテノール（Ｖ）を
ピリジンの存在下、塩化チオニル等のハロゲン化剤でハ
ロゲン化し、アルケンハライド（Ｖｌ）を得る。アルケ
ンハライド（ＶＩ）と化合物（■）とを、炭酸カリウム
等のアルカリの存在下、２−ブタノン等の適当な溶媒中
で反応させてエーテル体（■）を得る。次いで、このエ
ーテル体（■）をジクロロメタン等の適当な溶媒中で、
ｍ−クロロ過安息香酸等の過酸でエポキシ化することに
より、目的とするエポキシ化合物（ＩＸ）を得る。

ＨＩＣ＝ＣＨ（ＣＨ２）、ＯＨ−＋　Ｈ２Ｃ，ＣＨ（Ｃ
Ｈ２）、Ｙ（Ｖ）　　　　　　　　　（Ｖｌ） （■）　　　　　　　（■） （■） （ＩＸ） （式中Ｙはハロゲンである。） アルテノール（Ｖ）としては、例えば、９−ゾセンー１
−オール、１１−ドデセン−１−オール、７−オクテン
−１−オール、５−ヘキセン−１−オールなどが好まし
い。

ここで上記化合物（■）　Ｈ（）−＠−＠−Ａは、下記
の如くして合成することができる。

下記反応式に示す如く、４′−ヒドロキシビフェニル−
４−カルボン酸とアルコール（Ｘ）とを、適当な溶媒、
例えばベンゼンなどの溶媒中において、エステル化触媒
、例えば濃硫酸やｐ−トルエンスルホン酸などの存在下
に所望の温度で反応させることにより、このエステル化
合物（ＸＩ）を得る。

（Ｘ）　　　　　　（ＸＩ） アルコール（Ｘ）として、例えば、２−ヒドロキシプロ
ピオン酸アルキルエステル（乳酸アルチル）、２−クロ
ロ−３−ヒドロキシブタン酸アルキルエステル、３−ヒ
ドロキシ−２−メチル−４゜４．４−トリフルオロブタ
ン酸アルキルエステル、ω−（２−メチルブトキシ）−
１−アルカノール、２−アルコキシ−１−プロパツール
、２−フルオロ−２−メチル−３−ヒドロキシプロピオ
ン酸アルキルエステル、３−ヒドロキシ−４，４，４−
トリフルオロブタン酸アルキルエステル、ω−（２−ア
ルコキシプロピルオキシ）−１−アルカノール、ω−（
２−クロロプロピルオキシ）−１−アルカノール、２，
３−ジメトキシ−１−ペンタノール、２−アルコキシ−
１−メチルエタノールなどの光学活性アルコールが用い
られる。

エポキシ化合物（■′）、（■′）又は（■′）の合成
において光学活性基を導入する場合には、上記光学活性
アルコールの他に例えば、（＋）−２−メチルブタノー
ル、（−）−２−メチルブタノール、（＋）−２−クロ
ルブタノール、（−）−２−クロルペンタノール、（＋
）−２−メチルペンタノール、（−）−２−メチルペン
タノール、（＋）−３−メチルペンタノール、（−）−
３−メチルペンタノール、（＋）−４−メチルヘキサノ
ール、（−）　−４−メチルヘキサノール、（＋）−２
−クロルプロパツール、（−）−２−クロルプロパツー
ル、（＋）−１−メチルヘプタツール、（−）−１−メ
チルヘプタツール、（＋）−６−メチルオクタツール、
（−）−６−メチルオクタノール、（＋）−２−シアノ
ブタノール、（−）−２−シアノブタノール、（＋）−
２−ブタノール、（−）−２−ブタノール、（＋）−２
−ペンタノール、（−）−２−ペンタノール、（＋）−
２−オクタツール、（−）−２−オクタツール、（＋）
−２−フルオロオクタツール、（−）−２−フルオロオ
クタノール、（＋）−２−フルオロヘキサノール、（−
）−２−フルオロヘキサノール、（＋）−２−フルオロ
ノナノール、（−）−２−フルオロノナノール、（＋）
−２−クロロ−３−メチルペンタノール、（−）−２−
クロロ−３−メチルペンタノールなどが用いられる。こ
れらの中で、好ましくは、（−）−２−メチルブタノー
ル、（＋）−２−ブタノール、（−）　−２−ペンタノ
ール、（−）−２−オクタツール、（−）−２−フルオ
ロオクタツール、及び（−）−２−クロロ−３−メチル
ペンタノールなどが用いられる。

エポキシ化合物（■′）、（■′）、（■′）の合成に
おいて、Ｒ２、Ｒ１、Ｒｈｏが光学活性基を有しない場
合には光学活性アルコールに代えて、光学活性基を有し
ないアルコールを用いる。このようなアルコールとして
は、例えば、ｎ−ブチルアルコール、ｈ−ペンチルアル
コール、ｎ−ヘキシルアルコール、シクロヘキシルアル
コール、ｎ−ヘプチルアルコール、ｎ−オクチルアルコ
ール、ｎ−ノニルアルコール、５ｅＣ−ブチルアルコー
ル、ｔ−ブチルアルコールなどが用いられる。

下記反応式に示す如く、ビフェニル−４，４′−ジオー
ルとカルボン酸（ｘ　ｎ）を反応させることにより、こ
のエステル化合物（ｘｍ）を得る。

（ｘｎ）　　　　　　　（ｘｍ） カルボン酸（ｘ　ｍ）としては、２−アルコキシプロピ
オン酸などの光学活性カルボン酸が用いられる。

エポキシ化合物（■′）、（■′）又は（■′）の合成
において光学活性基を導入する場合には、上記光学活性
カルボン酸の他に例えば、（＋）−２−メチルブタン酸
、（−）−２−メチルブタン酸、（＋）　−２−クロル
ブタン酸、（−）−２−クロルブタン酸、（＋）−２−
メチルペンタン酸、（−）−２−メチルペンタン酸、（
＋）−３−メチルペンタン酸、（−）−３−メチルペン
タン酸、（＋）−４−メチルヘキサン酸、（−）−４−
メチルへ牛サン酸、（＋）−２−クロルプロパン酸、（
−）−２−クロルプロパン酸、（＋）−６−メチルオク
タン酸、（−）−６−メチルオクタン酸、（＋）−２−
シアノブタン酸、（−）−２−シアノブタン酸、（＋）
−２−フルオロオクタン酸、（−）−２−フルオロオク
タン酸、（＋）−２−フルオロヘキサン酸、（−）−２
−フルオロヘキサン酸、（＋）−２−フルオロノナン酸
、（−）−２−フルオロノナン酸、（＋）−２−クロロ
−３−メチルペンタン酸、（−）−２−クロロ−３−メ
チルペンタン酸などが用いられる。

エポキシ化合物の置換基が光学活性基を有しない場合に
は、光学活性カルボン酸に代えて光学活性基を有しない
カルボン酸を用いる。このようなカルボン酸としては、
例えば、ｎ−ブタン酸、ｎ−ペンタン酸、ｎ−へキサン
酸などが用いられる。

下記反応式に示す如く、前記アルコール（Ｘ）をトシル
化し、これにビフェニル−４，４′−ジオールを反応さ
せてこのエーテル体（ＸｒＶ）を得る。

ＲＯＨ−＋ＲＯｓｓ（（ン０３ （Ｘ） （ＸｒＶ） （２）　　Ｒ’カー＋ＧＨＱ）−ｒ−（）−（ＤＣＯＯ
＋Ｃ）−Ａである場合 下記反応式で示す如く、アルケンハライド（Ｖｌ）とｐ
−ヒドロキシ安息香酸エチルエステルとを、アセトン等
の適当な溶媒中で炭酸カリウム等のアルカリの存在下で
反応させ、エーテル体を得る。

次いで、このエーテル体におけるカルボキシル基の保護
基を水酸化カリウム水溶液、塩酸等により脱離させ、カ
ルボン酸体とする。このカルボン酸体に塩化チオニル等
のハロゲン化剤を加え、トルエン等の溶媒中で加熱し、
酸ハライドとする。次いで、この酸ハライドと前記化合
物（■）とをトルエン等の溶媒中でピリジンの存在下に
反応させ、エステル体（ＸＶ）を得た後、ジクロロメタ
ン等の適当な溶媒中でｍ−クロロ過安息香酸等の過酸を
用いてエポキシ化することにより、目的とするエポキシ
化合物（ｘｖｉ）を得る。

Ｈ２Ｃ＝ＣＨ＋ｃＨ２＋ｒ−Ｙ　＋８Ｏ−Ｃ）（：０Ｏ
ＣＪｓ（ＶＩ） ←Ｈ２Ｃ−ＣＨ＋ｃＨ２＋Ｔｏ−ｏ−ｃｏＯＨ（■） （ＸＶ） （ＸＶＩ） 下記反応式で示す如く、アルケンハライド（Ｖｌ）とハ
イドロキノンとを炭酸カリウム等のアルカリの存在下で
反応させ、エーテル体（Ｘ■）を得る。

下記化合物（Ｘ■）を塩化チオニル等により酸クロリド
化する。得られた酸クロリドとエーテル体（Ｘ■）とを
ピリジンの存在下反応させ、エステル体（ＸｔＸ）を得
る。以後は（１）の場合と同様にエポキシ化を行ない、
目的とするエポキシ化合物（ＸＸ） を得る。

（Ｖｌ） （Ｘ■） （Ｘ■） ここで、上記化合物（Ｘ■） （ＸＸ） ＨＯＯＣ−◎べ）Ａ は下記の如くして得られる。

アルコール （ＩＸ） とビフェニル−４゜ ４′ 一ン カルボン酸をトルエン等の溶媒中でエステル化触媒の存
在下反応させ、 を得る。

上記エステル体 （ＸＸＩ） 一一一→ ｕｏｏｃ−＠、−優トｏｏＲ （ＸＸＩ） カルボン酸（ＸＩ）を塩化チオニル等により酸クロリド
化した後、４′−ヒドロキシビフェニル−４−カルボン
酸とピリジンの存在下反応させ、上記エステル体（ｘｘ
ｎ）を得る。

Ｒα℃１ ＋ Ｈｏｏｃ−１ｏＨ −ＨｏＯＣ−＄ＯＲ（ＸＸ　Ｉｆ　） ４′−ヒドロキシビフェニル−４−カルボン酸エチルエ
ステルとアルコール（ＩＸ）をトシル化して得たｐ−ト
ルエンスルホン酸エステルとを炭酸カリウム等の存在下
反応させ、エーテル体を得る。

このエーテル体をアルカリ水溶液等と反応させ、保護基
のエステルを加水分解し、上記化合物（Ｘｘｍ）を得る
。

−〉 ｏｏｏｃ（ｃン＠冶Ｒ （ｘｘｍ） （４）　　Ｒ’が（−ＣＨ，＋ゴ→イ富□ｃｏｏ−＜Σ
トＡである場合前記（２〉のＲ１が−（ＣＨ＊チｒ（）
に００ｅＡであるエポキシ化合物の合成法において、化
合物（■）Ｈ（）−＠べφンＡ　の代わりに化合物（ｘ
ｘｒｖ）ＨＤ−ｅＡを用い、その他は同様にして反応さ
せ、下記の目的とするエポキシ化合物（ＸＸＶ）を得る
。

（ＸＸＶ） ここで上記化合物（ＸＸＩＶ）は下記の如くして得られ
る。

上記（１）における化合物（ＸＩ）の合成において、４
′−ヒドロキシビフェニル−４−カルボン酸の代わりに
ｐ−ヒドロキシ安息香酸を用いて、同様の反応を行ない
、上記エステル体（ＸＸＶＩ）を得る。

上記（１）における化合物 で、ビフェニル−４，４′ ハイドロキノンを用いて、 上記エステル体（ＸＸ■） （ｘｍ）の合成におい 一ジオールの代わりに 同様の反応を行ない、 を得る。

上記〈１〉における化合物 で、ビフェニル−４，４′ ハイドロキノンを用いて、 上記エステル体（ＸＸ■） （ｘｒｖ）の合成におい 一ジオールの代わりに 同様の反応を行ない、 を得る。

（５）　　Ｒ’が一＋ＣＨ２＋ＴＯべΦΣ区ｏ−（ｇΣ
トＡである場合下記反応式で示す如く、上記（３）のＲ
１がであるエポキシ化合物の合成において、化合物（Ｘ
■）Ｈωト（シイ富ΣＡ （７）代ワリｊ；：化合物（ＸＸＩＸ）　ＨＯＯＣ−＠
−Ａを用いて同様の反応を行ない、目的とする下記−般
式のエポキシ化合物（ＸＸＸ） を得る。

（ＸＸＩＸ） （ＸＸＸ） ここで上記化合物（ＸＸ■） 得られる。

は下記の如くして 上記（３）における化合物（ＸＸＩ）の合成において、
ビフェニル−４，４′−ジカルボン酸の代わりにテレフ
タル酸を用いて同様の反応を行ない、上記エステル体（
ＸＸＸＩ）を得る。

（ＸＸＸＩ） 上記（３）における化合物（ｘｘｎ）の合成において、
４′−ヒドロキシビフェニル−４−カルボン酸の代わり
にｐ−ヒドロキシ安息香酸を用いて同様の反応を行ない
、上記エステル体（ＸＸＸＩ［）を得る。

ＲＣＯＯＨ−＋ＲＣＯＣＩ （ＸＩ） （ｘｘｘｎ） ［Ｈω←（）→Ｒの合成］ 上記（３）における化合物（ｘｘｍ）の合成において、
４′−ヒドロキシビフェニル−４−カルボン酸エチルエ
ステルの代わりにｐ−ヒドロキシ安息香酸エチルエステ
ルを用いて同様の反応を行ない、上記エーテル体（ｘｘ
ｘｍ）を得る。

ＲＯＨ→Ｒｏ、ｓ（ｃ訃０３ （６） （Ｘ　Ｘ　Ｘ　ＩＩＩ） Ｒ１が子α２ナテ→べζ）【〉ンＣω−（ミドＡである
場合である場合のエポキシ化合物の合成において、ｐ−
ヒドロキシ安息香酸エチルエステルの代りに４−ヒドロ
キシビフェニル−４−カルボン酸エチルエステルを用い
、 の代りに前記化合物 （ＸＸｒＶ）Ｈのく〉ンＡを用い て同様の反応を行ない、目的とする下記一般式のエポキ
シ化合物（ｘｘｘｒｖ）を得る。

（ＸＸＸＩＶ） である場合 上記（３）のＲ１が一％ＣＨ，チＴ−（）−＠−０ＣＯ
−＠−＠−Ａであるエポキシ化合物の合成において、ハ
イドロキノンの代りにビフェニル−４，４−ジオールを
用い、 化合物（ＸＸ■）ＨｏｏＣ−ｏ−Ａを用いて同様の反応
を行ない、目的とする下記一般式のエポキシ化合物（ｘ
ｘｘｖ）を得る。

（ＸＸＸＶ）。

次に、このようにして得られた２種又は３種以上のモノ
マーを重合して、本発明の液晶性高分子を合成するが、
この際重合方法として公知のカチオン重合法などを採用
することができる。

カチオン重合の触媒として、各種のものが知られている
が、硫酸、リン酸、過塩素酸のようなプロトン酸、三フ
ッ化ホウ素、塩化アルミニウム、四塩化チタン、塩化第
二スズのようなルイス酸、三フッ化ホウ素エーテラート
などが挙げられ、この中で塩化第二スズが好適に用いら
れる。

また、有機アルミニウム錯体等を用いた配位重合を行な
うことも可能である。この場合には、数平均分子、１１
３０．０００以上の液晶性高分子が得られる。

重合方法としては、塊状重合、スラリー重合、溶液重合
などの種々の方式が知られており、これらのいずれの方
式を用いてもよいが、溶液重合が好ましい。

重合温度は、触媒の種類に依存し、−様ではないが、通
常、０〜３０℃が適当である。

重合時間は重合温度など他の要因によって異なるが、通
常数時間〜６日間である。

分子量の調節は、公知の分子量調節剤の添加及び／又は
モノマーに対する触媒の濃度の調節によって行なうこと
ができる。

塊状重合方式においては、前記モノマーと開始剤とを十
分に混合し、その混合物を十分に脱気し、２枚の基板、
例えばガラス基板の間に導入し、加熱することによって
液晶性高分子を基板間に密着した状態で直接に固定化す
ることもできる。

スラリー重合、溶液重合方式の場合の溶媒としては、公
知の不活性溶媒を用いることができ、なかでもヘキサン
、ジクロロメタン、又はベンゼン、トルエン、キシレン
などの芳香族系の溶媒が好適に用いられる。

また、重合反応及び前記エポキシ化の反応においては、
必須ではないが、アルゴン、窒素等の不活性ガスで系を
置換して行なうことが好ましい。

このようにして得られた液晶性高分子は、光学活性な化
合物をブレンドし、公知の製膜法、例えばキャスティン
グ法、Ｔダイ法、インフレーション法、カレンダー法、
延伸法などによってフィルムに底形して用いることがで
きる。　フィルム状の液晶性高分子は、２枚の通常のガ
ラス基板はもとより、大型のガラス基板、曲面状のガラ
ス基板、ポリエステルフィルム等の間に挟んで、液晶デ
イスプレー、電子光学シャッター、電子光学絞りなどの
種々のオプトエレクトロニクスの分野に利用することが
できる。

また、適当な溶媒に溶解した高分子溶液をガラス基板な
どの基板面に塗布し、溶媒を蒸発させることによって、
直接基板面上に密着した状態でフィルム化することもで
きる。

本発明の液晶共重合体は、室温附近を含む広い温度範囲
で強誘電性を示すことが確認された。また、電界に対す
る応答速度が速いことも確認された。

また、本発明の液晶共重合体は製膜性に優れているので
、インテグレーテッドオプティクス、オプトエレクトロ
ニクス、情報記憶の分野に数多くの応用可能性がある。

例えば、種々の形状のディジタル表示デイスプレィなど
の液晶デイスプレィ、電子光学シャッター、光通信用光
路切換スイッチなどの電子光学スイッチ、電子光学絞り
、メモリー素子、光変調器、液晶プリンターヘッド、焦
点距離可変レンズなどの種々の電子光学デバイスとして
使用することができる。

［実施例］ 以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本
発明はこれに限定されるものではない。

なお、得られたポリマーの構造は、ＮＭＲスペクトルに
より決定した。但しエポキシアルカンを共重合させた実
施例４〜７のエポキシアルカンの組成比はＮＭＲスペク
トルから決定できないため仕込み比を用いた。また、平
均分子ｉＭｎは、ＧＰＣにより求めたポリスチレン換算
値である。

相転移温度の測定及び相の確認は、それぞれＤＳＣ及び
偏光顕微鏡により行った。実施例１〜７で得られた液晶
共重合体のＮＭＲチャートを第１図〜第７図に示す。

また、液晶共重合体の相転移挙動、螺旋ピッチの長さ、
電界応答速度を第１表に示す。（ｇニガラス状態、Ｃｒ
ｙ：結晶状態、ＳｍＣ＊：カイラルスメクチックＣ相、
ＳｍＡ：スメクチックＡ相、Ｎ：ネマチック相、Ｎ＊：
カイラルネマチック相、Ｉｓｏ：等吉相、相転移挙動の
数字は相変化温度を℃で表したものである。

電界応答速度は次のようにして測定した。

風見息盃速度史捌２ ２０Ｘ１０ｍｍのＩＴＯ基板２枚の間にポリマ−をはさ
み、スペーサーで厚さを２５μｍに調整し、交流電場Ｅ
＝２Ｘ１０’Ｖ／ｍをかけ、その際の透過光量の変化（
Ｏ→９０％）の応答時間を測定した。

また、螺旋ピッチの長さは、ＳｍＣ’で観察される扇状
組織上の縞模様の間隔より求めた（測定温度：ＳｍＡ−
８ｍＣ”相転移温度の１０℃低温側、Ｔｃ−Ｔ＝１０℃
） 実施例１ ［Ｉ］　　（Ｓ）−４−［４’　−（４’　−（９，１
０−エポキシデシルオキシ）フェニル）ベンゾイルオキ
シ］安息香酸１′−エトキシカルボニルエチルエステル
（モノマーＡ）の合成 ■４−　（４−（９−デセニルオキシ）フェニル）ベン
ゾニトリルの合成 １０−ヨード−１−デセン２０ミリモル（５゜４ｇ）、
４−（４−ヒドロキシフェニル）ベンゾニトリル２０ミ
リモル（３，９ｇ）及び無水炭酸カリウム８０ミリモル
（１１ｇ）の２−ブタノン１００ｍｆｆ懸濁液を２０時
間攪拌した。反応液を濾過、濃縮後、カラムクロマトグ
ラフィーにより精製し、ニトリル体４．０ｇ（収率６０
％）を得た。

■４−　（４’　−（９−デセニルオキシ）フェニル）
安息香酸の合成 ■で得たニトリル体１０ミリモル（３，３ｇ）、水酸化
カリウム４０ミリモル（１，３ｇ）、エタノール１０ｍ
１７及び水２ｒｎ１の混合物を５時間還流攪拌後、希塩
酸を加えて酸性溶液にした。水を加えて塩化メチレン抽
出後、乾燥、濃縮し、カルボン酸体３，２ｇ（収率９１
％）を得た。

■４−［４’　−（４’　−（９−デセニルオキシ）フ
ェニル）ベンゾイルオキシ安息香酸１′−エトキシカル
ボニルエチルエステルの合成 ■で得たカルボン酸体８ミリモル（２，８ｇ）及び塩化
チオニル２４ミリモル（２，９ｇ）のトルエン３０ｍ＋
溶液を８０℃で２時間攪拌後、減圧濃縮して酸クロライ
ド体を得た。４−ヒドロキシ安息香酸１′−エトキシカ
ルボニルエチルエステル４ミリモル（０，９５ｇ）及び
トリエチルアミン１′ｍｌのＴＨＦ１０′ｍｌ溶液に上
記酸クロライド体のＴＨＦ３Ｔｎｌ溶液を滴下後、１０
時間攪拌した。

反応液を濃縮後、水を加えてエーテル抽出した。

抽出液を濃縮後、カラムクロマトグラフィーにより精製
し、目的とするエステル体１．３ｇ　（収率５８％）を
得た。

■エポキシ化 ■で得たエステル体１．０ミリモル（５７０ｍｇ）及び
ｍ−クロロ過安息香酸１．５ミリモル（２６０ｍｇ）の
塩化メチレン１０Ｔｒｆ２溶液をアルゴン置換後、室温
で５時間攪拌し、−晩装置した。反応液を炭酸カリウム
水溶液、水で洗浄後、乾燥、濃縮し、目的とするモノマ
ーＡ（収率９４％）を得た。

［Ｉ［］　　（Ｓ）−４−（４’　−（９，１０−エポ
キシデシルオキシ）ベンゾイルオキシ）安息香酸１−メ
チルブチルエステル（モノマーＢ）の合成■４−ヒドロ
キシ安息香酸１−メチルブチルエステルの合成 ｐ−アセトキシ安息香酸２５ｇに塩化チオニル２５ｇを
滴下した。混合物を８０℃に加熱して３時間反応させた
。反応後、過剰の塩化チオニルを減圧留去し、酸クロリ
ド体を得た。この酸クロリドをトルエンに溶解させ、水
冷した。そこへ、（Ｓ）　−（＋）−１−ペンタノール
１０．２ｇ。

ピリジンｌ１ｇを含むトルエン溶液を滴下した。

次いで、室温で１晩攪拌した。反応後、溶液を水洗、乾
燥、減圧濃縮し、残渣をエーテルに溶解させた。そこへ
、ベンジルアミン１８ｇを滴下した。

混合物を１時間室温で攪拌した。反応後、生成物を水洗
、乾燥及び減圧濃縮した。残渣をカラムクロマトグラフ
ィーによって精製し、目的とするエステル体［室温で液
体、［α］Ｄ＝＋３１．４゜（ＣＨＣＩＩ）コ２０．３
ｇを得た。（収率８６％）■４−　［４’　−（９−デ
セニルオキシ）ベンゾイルオキシ］安息香酸１−メチル
ブチルエステルの合成 ｐ−（９−デセニルオキシ）安息香酸１２．７ｇにトル
エンを加え、氷冷した。そこへ塩化チオニル８．２ｇを
滴下した。８０℃にて７時間反応を行った。反応後、反
応液を濃縮し、酸クロリド体を得た。一方、■で得た４
−ヒドロキシ安息香酸１−メチルブチルエステル１０．
０ｇ及びピリジン３．８ｇをトルエンに溶解させ、水冷
した。

そこへ、上記の酸クロリド体のトルエン溶液を滴下した
。５０℃にて５時間反応を行った。反応後、生成物を水
洗し、硫酸マグネシウム上で乾燥した後、溶媒を減圧留
去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにより精製し
、目的とするエステル体１５、Ｉｇを得た。（収率７１
％） ■エポキシ化 ■で得たエステル体１５．１ｇに対し、［■コの■と同
様の操作を行い目的とするモノマーＢを１４．７ｇを得
た（収率９４％） ［■コポリマーの合成 ［Ｉ］で得たモノマーＡ０，４ミリモル（２３５■）及
び［Ｉ［］で得たモノマー８０．６２９モル（２８９■
）の混合物の塩化メチレン１０ゴ溶液をアルゴン置換後
、塩化第二スズ０．０５ミリモルを加えて室温で５日間
攪拌した。反応液を濃縮後、カラムクロマトグラフィー
により精製し、目的とする共重合体４９５■（収率９４
％、Ｍｎ＝２８００．共重合比ｍ：ｎ＝３８：６２）を
得た。

実施例２ ［Ｉ］　　（Ｓ）　−４−（４’　−（９，１０−エポ
キシデシルオキシ）ベンゾイルオキシ）安息香酸１−エ
トキシ力ルポニルエチルエステル（モノマーＣ）の合成 ■４−アセトキシ安息香酸１′−エトキシカルボニルエ
チルエステルの合成 ４−アセトキシ安息香酸３０ミリモル（５，４ｇ）及び
塩化チオニル９０ミリモル（１０，８ｇ）のトルエン５
０ｍ１溶液を８０℃で２時間攪拌後、減圧濃縮して酸ク
ロリド体を得た。Ｌ−乳酸エチル２０ミリモル（２，４
ｇ）及びトリエチルアミン５ゼのＴＨＦ　３０′ｍｌ溶
液に上記酸クロリド体のＴＨＦ溶液を滴下後、１０時間
攪拌した。反応液を濃縮後、水を加えてエーテル抽出し
た。抽出液の濃縮物をカラムクロマトグラフィーにより
精製し、アセトキシ体８．９ｇ（収率６３％）を得た。

■４−ヒドロキシ安息香酸１′−エトキシカルボニルエ
チルエステルの合成 ■で得たアセトキシ体１２．５ミリモル（３゜５ｇ）の
エーテル２００Ｔｎ１溶液にベンジルアミン７０ミリモ
ル（６，４ｇ）を加えて５時間攪拌した。反応液を水洗
後、カラムクロマトグラフィーにより精製し、ヒドロキ
シ体１．２ｇ（収率４２％）を得た。

■４−　（４−（９−デセニルオキシ）ベンゾイルオキ
シ）安息香酸　１′−エトキシカルボニルエチルエステ
ルの合成 １０−クロロ−１−デセン１０．Ｏｇとヨウ化ナトリウ
ム２５ｇとを２−ブタノン中で８０℃で１０時間反応さ
せ、ヨード化した。水洗、乾燥、溶媒除去を行った後、
ｐ−ヒドロキシ安息香酸エチルエステル１１．５ｇ、炭
酸カリウム９．６ｇを加え、無水エタノール中で１５時
間還流した。

水酸化カリウム水溶液（水酸化カリウム４．０ｇを含む
）を加え、さらに５時間８０℃で加熱した。

反応後、塩酸酸性としてから、減圧濃縮した。残渣に水
を加えて懸濁させ、不溶物を集めて乾燥し、４−（９−
デセニルオキシ）安息香酸９．５ｇを得た。（収率６０
％） 次に、４−　（９−デセニルオキシ）安息香酸６ミリモ
ル（１，７ｇ）及び塩化チオニル１８ミリモル（２，２
ｇ）のトルエン３０ゴ溶液を８０℃で３時間攪拌後、減
圧濃縮し、酸クロリド体を得た。次に、■で得たヒドロ
キシ体４ミリモル（１゜０ｇ）及びトリエチルアミン１
榴のＴＨＦ　１　ｏｍｃ溶液中へ、上記酸クロリド体の
ＴＨＦ５７ｄ溶液を滴下後、室温で１０時間攪拌した。

反応液を濃縮後、水を加えてエーテル抽出した。抽出液
を乾燥、濃縮後、カラムクロマトグラフィーにより精製
し、目的とするエステル体１．８５ｇ（収率９３％）を
得た。

■エポキシ化 ■で得たエステル体１．０ミリモル（５００ｍｇ）及び
ｍ−クロロ過安息香酸１゜５ミリモル（２６０■）の塩
化メチレン１０７Ｍ溶液をアルゴン置換後、室温で５時
間攪拌し、−晩装置した。反応液を炭酸カリウム水溶液
、水で洗浄後、乾燥、濃縮し、目的とするモノマーＣ４
４０■（収率８６％）を得た。

［ｍ］　　（Ｓ）−４−（４−（９，１０−エポキシデ
シルオキシ）ベンゾイルオキシ）安息香酸３−メチルペ
ンチルエステル（モノマーＤ）の合成■（Ｓ）−４−ヒ
ドロキシ安息香酸３−メチルペンチルエステルの合成 ４−ヒドロキシ安息香酸３０ミリモル（４，１ｇ）、（
Ｓ）−（十）−３−メチルペンタノール、３０ミリモル
（３，Ｉｇ）及び濃硫酸０．２ｍｌのトルエン３０Ｔｎ
１溶液を２０時間還流攪拌後、減圧濃縮し、目的とする
エステル体６．５ｇ（収率９８％、［α］Ｄ　＝＋７．
８°　（ＣＨＣＩｓ）　）を得た。

■（Ｓ）−４−（４−（９−デセニルオキシ）ベンゾイ
ルオキシ）安息香酸　３−メチルペンチルエステルの合
成 ４−（９−デセニルオキシ）安息香酸３０ミリモル（８
，３ｇ）及び塩化チオニル６０ミリモルのトルエン５０
配溶液を２時間還流攪拌後、減圧濃縮して酸クロリド体
を得た。次に■で得られたエステル体２５ミリモル（５
，６ｇ）及びトリエチルアミン５ｙｎｉ７のＴＨＦ５０
７１ｍｉ７溶液中に、上記酸クロリド体のＴＨＦ１０ｍ
＆溶液を滴下後、室温で１０時間攪拌した。反応液を濃
縮後、カラムクロマトグラフィーにより精製し、目的と
するエステル体１０．３ｇ（収率８６％、［αコ、＝４
，４゜（ＣＨＣＩｓ）　）を得た。

■エポキシ化 ■で得られたエステル体１ミリモル（５００ｍｇ）及び
ｍ−クロロ過安息香ｖ１１．５ミリモルの塩化メチレン
溶液をアルゴン置換後、室温で５時間攪拌し、１晩放置
した。反応液を炭酸カリウム水溶液、水で洗浄後、乾燥
、濃縮し、目的とするモノｖ−Ｄ４４０ｍｇ（収率８８
％）を得た。

［ＩＩ［］ポリマーの合成 ［ＩＩで得たモノマーＣ０，３ミリモル（１３４■）、
実施例１の［ＩＩで得たモノマーＡ０゜４ミリモル（２
３５ｍｇ）及び［Ｉ［］で得たモノマーＤ０．３ミリモ
ル（１４９ｍｇ）の混合物を用いて実施例１の［ＩＩＩ
］と同様に合成し、目的とする共重合体４５０ｍｇ（収
率８７％、Ｍｎ＝２６００゜共重合比 ｓ：　ｔ　：ｕ＝２８：４８：２４）を得た。

実施例３ ［Ｉ］　４−　（９，１０−エポキシデシルオキシ）ベ
ンゾイルオキシ）安息香酸ヘキシルエステル（モノマー
Ｅ）の合或 ■４−（４−（９−デセニルオキシ）ベンゾイルオキシ
）安息香酸ヘキシルエステルの合成４−（９−デセニル
オキシ）安息香酸３０ミリモル（８，３ｇ）及び４−へ
キシルオキシフエノール２５ミリモル（４，９ｇ）を用
いて実施例２の［ＩＩ］と同様に合成した。（収量１０
．９ｇ。

収率８６％） ■エポキシ化 ■で得られたエステル体１ミリモル（４７９ｍｇ）を用
いて実施例２　［Ｉ［］の■と同様にして目的とするモ
ノマーＥを合成した。（収量４８０ｍｇ、定量的） ［ＩＩ］ポリマーの合成 実施例２の［Ｉ］で得たモノマーＣ０，３ミリモル（１
５３ｍｇ）、実施例２の［２コで得たモノマーＤ０．４
ミリモル（２００■）及び［１コで得たモノマーＥＯ１
３ミリモル（１４０■）の混合物を用いて実施例１の［
Ｉ［Ｉ］と同様に合或し、目的とする共重合体３８０ｍ
ｇ（収率７７％、Ｍｎ＝２６００、共重合比ｓ：ｔ：ｕ
＝３３：４５：２２）を得た。

実施例４ ＋ｃ、Ｈ２ｃｕ！ｃｌ。

［Ｉ］ポリマーの合成 実施例１の［１コで得たモノマーＡ０．８ミリモル（４
７０■）及びエチレンオキシド０．２ミリモル（９ｍｇ
）を用いて実施例１の［ＩＩ！］と同様に合威し、目的
とする共重合体３７０ｍｇ（収率７７％、Ｍｎ＝３００
０．共重合比ｍ＋ｎ＝８０：２０）を得た。

実施例５ ［Ｉ］ポリマーの合成 実施例１の［Ｉ］で得たモノマーＡ０．５ミリモ／Ｌ、
（２９４■）、実施例１の［ＩＩ］で得たモノマーＢ０
．４ミリモル（１９３■）及びプロピレンオキシド０．
１ミリモル（６■）を用いて実施例１の［Ｉ［Ｉ］と同
様に合成し、目的とする共重合体４００ｍｇ（収率８１
％、Ｍｎ＝２９００．共重合比ｓ：ｔ：ｕは５３：３７
：１０）を得た。

実施例６ （ＣＨ，ＣＨ２０−）−ｎ ［Ｉコ　（２Ｓ、　　３８）−４’　　−［４’　　−
（４−（９，１０−エポキシデシルオキシ）フェニル）
ベンゾイルオキシ］安息香酸２′−エトキシカルボニル
−１′−トリフルオロメチルプロピルエステル（モノマ
ーＦ）の合成 ■４−アセトキシ安息香酸２−エトキシカルボニル−１
−（トリフルオロメチル）プロピルエステルの合成 ４−アセトキシ安息香酸１０ミリモル（１，７ｇ）及び
塩化チオニル３０ミリモル（３，６ｇ）のトルエン２０
′ｍｌ溶液を８０℃で２時間攪拌した後、減圧濃縮して
酸クロリド体を得た。（２Ｓ。

３Ｒ）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシ−
２−メチル酪酸エチルエステル２．５ミリモル（５００
■）及びトリエチルアミン１ゴのＴＨＦ１０ｍ＆溶液に
上記酸クロリド体のＴＨＦ５Ｔｎ１溶液を滴下した後、
１０時間攪拌した。反応液を濃縮した後、水を加えてエ
ーテル抽出した。抽出液の濃縮物をカラムクロマトグラ
フィーにより精製し、所望のエステル体８６０■（収率
９５％）を得た。

■４−ヒドロキシ安息香酸２−エトキシカルボニル−１
−（トリフルオロメチル）プロピルエステルの合成 ■で得たエステル体２．４ミリモル（８６０ｍｇ）のエ
ーテル１００ｍｆｆ溶液にベンジルアミン２５ミリモル
（２，７ｇ）を加えて１０時間攪拌した。

反応液を水洗した後、カラムクロマトグラフィーにより
精製し、目的とするヒドロキシ体６８０ｍｇ（収率８８
％）を得た。（液状：減圧蒸留できないため沸点は不明
、［αコ、＝−１３．３°　（ＣＨＣｌ、）ｃ＝２．７
） ■４−　［４’　−（９−デセニルオキシ）−４′−ビ
フエニリルカルボニルオキシコ安息香酸２−エトキシカ
ルボニル−１−（トリフルオロメチル）プロピルエステ
ルの合成 ４’　−（９−デセニルオキシ）ビフェニル−４−カル
ボン酸２ミリモル（７００ｍｇ）のトルエン１０対溶液
に塩化チオニル６ミリ を加えて３時間還流攪拌した後、減圧濃縮して酸クロリ
ド体を得た。■で得たヒドロキシ体１ミリモル（３２０
ｍｇ）をトリエチルアミン０，　　５ゴのＴＨＦ５′ｍ
ｌ溶液に酸クロリド体のＴＨＦ溶液を滴下した後、室温
で１０時間攪拌した。反応液を濃縮した後、水を加えて
エーテル抽出した。抽出液の濃縮物をカラムクロマトグ
ラフィーにより精製し、目的とする不飽和エステル体４
２０■（収率６、７％）を得た。

■エポキシ化 ■で得られたエステル体０．６ミリモル（３９０ｍｇ）
を用いて実施例２の［ＩＩｔ］と同様にして目的とする
モノマーＦを合成した。（収ｉ４００ｍｇ。

定量的） ［■コポリマーの合成 ［Ｉ］で得たモノマーＦ０．９ミリモル（６０３■）及
びエチレンオキシド０，１ミリモル（４ｍｇ）を用いて
実施例１の［Ｉ［［］と同様に合成し、目的とする共重
合体を４３０ｍｇ（収率７１％、Ｍｎ＝２４００、共重
合比ｍ：　ｎ＝９０　：　１０）を得た。

実施例７ （ＣＨ．Ｏ（　２０−１−ｆｉ ［１］　４−　［４’　−４’　−　（９．１０−エポ
キシデシルオキシ）フェニル）ベンゾイルオキシ］安息
香酸２′ーエトキシカルボニル−２′−クロロ−１′−
メチルエチルエステル（モノマーＧ）の合成 ■（＋）−４−ヒドロキシ安息香酸２′−クロロ−２７
−ニトキシカルボニルー１−メチルエステルの合成 ４−アセトキシ安息香酸９ミリモル（１．６ｇ）及び塩
化チオニル１８ミリモル（２．１ｇ）のトルエン３０吋
溶液を２時間還流攪拌後、減圧濃縮して酸クロリド体を
得た。次に３−アセトキシ−２−クロロブタン酸エチル
エステルの不斉加水分解により合成した（＋）−３−ヒ
ドロキシ−２−クロロブタン酸エチルエステル２．９ミ
リモル（４８０ｍｇ）及びトリエチルアミン１７１１ｉ
７のＴＨＦ１０′ｍｌ溶液に上記酸クロリド体のＴＨＦ
５ｍｆｆ溶液を滴下後、室温で５時間攪拌した。減圧濃
縮後、水を加えてエーテル抽出した。乾燥後、エーテル
を追加して１００ｍ＆溶液とした後、ベンジルアミン２
０ミリモルを加えて、３時間攪拌した。水洗、乾燥、濃
縮後、カラムクロマトグラフィーにより精製し、ヒドロ
キシ体６３０■（収率７６％、［α］Ｄ＝＋３５．６°
　（ＣＨＣＩｇ）　）を得た。

■４−　［４’　−４’　−　（９−デセニルオキシ）
フェニル）ペンゾイルオキシコ安息香酸２′ークロロ−
２′−エトキシカルボニル−１−メチルエチルエステル
の合成 （４−　（９−デセニルオキシ）フェニル）安息香酸２
ミリモル（７０４■）のエーテル２０ｍｐ懸濁液に５塩
化リン２．２ミリモルを加えて２時間攪拌後、濾過、濃
縮した。濃縮物にヘキサンを加えて７０℃まで加熱し、
固形物を溶解後、静置して結晶を析出させた。結晶を濾
別後、乾燥して酸クロリド体を得た。■で得られたヒド
ロキシ体１ミリモル（２８７■）及びトリエチルアミン
１ゼのＴＨＦ５ｍｉ７溶液に上記酸クロリド体のＴＨＦ
２璽溶液を滴下後、室温で５時間攪拌した。減圧濃縮後
、カラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする
エステル体４７０■（収率７６％、［αコ。＝＋１４．
８°　（ＣＨＣＩｍ）　’）を得た。

［■−］エポキシ化 ■で得られたエステル体０．２９ミリモル（１８０■）
及びｍ−クロロ過安息香酸０．４３ミリモル（１１０■
）の塩化メチレン１０ｍｆ溶液をアルゴン置換後、室温
で５時間攪拌した。反応液を炭酸カリウム水溶液で洗浄
後、乾燥、濃縮し、目的とするモノマー６１７５■（収
率９５％）を得た。

［■コポリマーの合成 ［Ｉ［１］で得たモノマーＧＯ１８ミリモル（５１０ｍ
ｇ）及びエチレンオキシド０．２ミリモル（９■）を用
いて実施例１の［ＩＩ［］と同様に合成し、目的とする
共重合体３５０■（収率６７％、Ｍｎ＝２２００．共重
合比ｍ：　ｎ＝８０　：　２０）を得た。

比較例１ ポリマーの台底 実施例１で用いたモノマーＡ０．９４ミリモル（５５０
■）を用い実施例１と同様にして目的とするポリマー５
０５■を得た。（転化率９２％、Ｍｎ＝２９００） 比較例２ ポリマーの合成 実施例６で得たモノマーＦ３２０■の塩化メチレン１０
ｍｆ溶液を、アルゴン置換後、塩化第二スズ０．０５ミ
リモル（１３ｍｇ）を加えて室温で４日間放置した。濃
縮物をカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的と
するポリマー２７０■（収率８４％）を得た。（Ｍｎ＝
２６００）実施例及び比較例で得られたポリマーの相転
移挙動、螺旋ピッチの長さ、応答時間（測定温度２５℃
）を表にまとめて示す。

［発明の効果コ 本発明によれば、液晶ポリマーを共重合体とすることに
より、液晶ポリマーのＳｍＣ”相温度を室温付近にする
ことができ、また螺旋ピッチを長くすることができる。

その結果、電界変化に対する高速応答性を有し、ＳｍＣ
”相を室温付近で示すとともに、双安定性に優れた液晶
ポリマーを得ることができ、その工業的価値は極めて大
である。

【図面の簡単な説明】

第１〜７図は実施例１〜７で得られた共重合体のＮＭＲ
チャートである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記一般式（ I ）及び（II）で表される繰り返し
   単位を有し、（ I ）と（II）のモル比ｍ：ｎが９９：
   １〜１：９９である液晶共重合体。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ［式中、 Ｒ＾１は▲数式、化学式、表等があります▼ で表される基であり、 Ｒ＾２は ▲数式、化学式、表等があります▼ で表される基であり、 Ｒ＾３及びＲ＾６は ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
   、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
   、表等があります▼ であり、 Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾７及びＲ＾８はＣＨ＿３、ＣＦ＿
   ３、ＣＮ又はハロゲン基であり、ｘ＾１、Ｘ＾２、Ｙ＾
   １及びＹ＾２は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−又は単
   結合であり、 Ｚ＾１及びＺ＾２は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−Ｏ−
   であり、ａ及びｄは１〜３０の整数であり、 ｃ及びｉは０〜１０の整数であり、 ｅは０〜５の整数であり、 ｂ、ｆ、ｇ、ｈ及びｊは０又は１であり、 ｈ＝ｊ＝１かつＺ＾１＝Ｚ＾２のときＲ＾３≠Ｒ＾６で
   ある。］２、下記一般式（ I ）、（II）及び（IV）で
   表される繰り返し単位を有し、（ I ）と（III）と（I
   V）のモル比ｓ：ｔ：ｕが９８：１：１〜１：９８：１
   〜１：１：９８である液晶共重合体。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） ［式中、 Ｒ＾１は▲数式、化学式、表等があります▼ で表される基であり、 Ｒ＾９は ▲数式、化学式、表等があります▼ で表される基であり、 Ｒ＾１＾０は ▲数式、化学式、表等があります▼ で表される基であり、 Ｒ＾３、Ｒ＾６及びＲ＾１＾１は ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
   、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
   、表等があります▼ であり、 Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾７、Ｒ＾８及びＲ＾１＾２は−Ｃ
   Ｈ＿３、ＣＦ＿３、−ＣＮ又はハロゲン基であり、 Ｘ＾１、Ｘ＾２、Ｘ＾３、Ｙ＾１、Ｙ＾２及びＹ＾３は
   −ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−又は単結合であり、 Ｚ＾１、Ｚ＾２及びＺ＾３は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又
   は−Ｏ−であり、ａ、ｄ及びｋは１〜３０の整数であり
   、 ｃ、ｉ及びｒは０〜１０の整数であり、 ｅ及び１は０〜５の整数であり、 ｂ、ｆ、ｇ、ｈ、ｊ及びｑは０又は１であり、ｈ＝１か
   つＺ＾１＝Ｚ＾２のときＲ＾３≠Ｒ＾６であり、ｈ＝０
   かつｊ＝１のとき（ｅ＋ｉ）≠（１＋ｒ）である。］