JPH0365327A - スタンパの製造方法 - Google Patents
スタンパの製造方法Info
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- JPH0365327A JPH0365327A JP20168689A JP20168689A JPH0365327A JP H0365327 A JPH0365327 A JP H0365327A JP 20168689 A JP20168689 A JP 20168689A JP 20168689 A JP20168689 A JP 20168689A JP H0365327 A JPH0365327 A JP H0365327A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光デイスク用スタンパの製造方法に関し、特に
ゾルゲル法を用いた光デイスク用ガラス基板作製のため
のワークスタンパの製造方法に関する。
ゾルゲル法を用いた光デイスク用ガラス基板作製のため
のワークスタンパの製造方法に関する。
従来のゾルゲル法を用いた光デイスク用ガラス基板の作
製プロセスについて説明する。
製プロセスについて説明する。
まず、所望のデータに基づきガラス原盤にマスクライテ
ィングを行う。次に、ガラス原盤にＮｉのスパッタ及び
電鋳処理を施すことにより、Ｎｉスタンパ（マスタ〉を
おこす。次いで、Ｎｉスタンパ（マスタ〉を型にして再
度電鋳処理を行い、Ｎｉスタンパ（マザー）を作成する
。この様にして作成したＮｉスタンバ（マザー）を用い
て、射出成形あるいは２ＰＩｔ形により樹脂製のゾルゲ
ル用ワークスタンパを得る。
ィングを行う。次に、ガラス原盤にＮｉのスパッタ及び
電鋳処理を施すことにより、Ｎｉスタンパ（マスタ〉を
おこす。次いで、Ｎｉスタンパ（マスタ〉を型にして再
度電鋳処理を行い、Ｎｉスタンパ（マザー）を作成する
。この様にして作成したＮｉスタンバ（マザー）を用い
て、射出成形あるいは２ＰＩｔ形により樹脂製のゾルゲ
ル用ワークスタンパを得る。
次に、ガラス基板上に、スピンコード法により金属アル
コレート、ポリエチレングリコール、塩酸を含むアル゛
：７−・ル溶液（ゾルゲル溶液）を塗布し、ゾルゲル層
を形成する。先程のワークスタンパをこのゾルゲル面（
１こ押し当で、微細なバター〉・を転写する。重ね合り
せたまま一次焼成を行った後、ワークスタンパから離を
Ｌまた微細パターン付きガラス基板を更に二次焼成する
。このようなプロセスを経て、光デイスク用ガラス基板
を作製していた。
コレート、ポリエチレングリコール、塩酸を含むアル゛
：７−・ル溶液（ゾルゲル溶液）を塗布し、ゾルゲル層
を形成する。先程のワークスタンパをこのゾルゲル面（
１こ押し当で、微細なバター〉・を転写する。重ね合り
せたまま一次焼成を行った後、ワークスタンパから離を
Ｌまた微細パターン付きガラス基板を更に二次焼成する
。このようなプロセスを経て、光デイスク用ガラス基板
を作製していた。
先述［、たように、ゾルゲル用ワークスタンパを作製す
るには７．現状ではかなりのプロセスを必要どする。こ
れは、ゾルゲル用ワークスタンパとして、直接Ｎｉスタ
ンパ（マスタ〉が使用できないにとによる。ずなわち、
ゾルゲル パをそのまま密着さぜ゛７７ーヘ次焼戒を行・うと、離
型の際、ゾルゲル層の一部がＮｉスタンパ面に付着し、
正確なパターン転写かて゛きない。
るには７．現状ではかなりのプロセスを必要どする。こ
れは、ゾルゲル用ワークスタンパとして、直接Ｎｉスタ
ンパ（マスタ〉が使用できないにとによる。ずなわち、
ゾルゲル パをそのまま密着さぜ゛７７ーヘ次焼戒を行・うと、離
型の際、ゾルゲル層の一部がＮｉスタンパ面に付着し、
正確なパターン転写かて゛きない。
このノコめ、−Ｌ述し７ｔ′：ような長いプロセスを採
り入れているが、特に微細なパターンを比較的大面積に
渡って何度も転写するので、歩留り、コスＩ・の面で問
題となる。
り入れているが、特に微細なパターンを比較的大面積に
渡って何度も転写するので、歩留り、コスＩ・の面で問
題となる。
本発明は、いわゆる２Ｐ成形により、ガラス原盤から直
接ゾルゲル用ワークスタンパを製作することができるス
タンパの容易な製造方法を提供するものである。
接ゾルゲル用ワークスタンパを製作することができるス
タンパの容易な製造方法を提供するものである。
本発明によるスタンパの製造方法は、ガラス原盤上にレ
ジストを塗布する工程、レーザービームを用いて所望の
パターンを露光する工程、微細なパターンを有するレジ
スト・屑を形成するための現像工程、残存するレジス１
−層をマスクと１７でガラス原盤をエツチングする工程
、残存するレジスト・層を除去する工程、微細なパター
ンを有する前記ガラス原盤に透光性基板を押１〜当てこ
のガラス原盤ε透光性基板との間に紫外線硬化樹脂を充
填する工程、前記透光性基板を通して紫外線を照射する
工程、前記ガラス原盤から微細な凹１１）を有する紫外
線硬化樹脂層を設けた前記透光性基板を離型する工程と
を有する。
ジストを塗布する工程、レーザービームを用いて所望の
パターンを露光する工程、微細なパターンを有するレジ
スト・屑を形成するための現像工程、残存するレジス１
−層をマスクと１７でガラス原盤をエツチングする工程
、残存するレジスト・層を除去する工程、微細なパター
ンを有する前記ガラス原盤に透光性基板を押１〜当てこ
のガラス原盤ε透光性基板との間に紫外線硬化樹脂を充
填する工程、前記透光性基板を通して紫外線を照射する
工程、前記ガラス原盤から微細な凹１１）を有する紫外
線硬化樹脂層を設けた前記透光性基板を離型する工程と
を有する。
まず、鏡面に磨かれているガラス原盤上にホ）・ｌ／シ
ストをスビンコー・Ｉ・法により１０００へ一３０００
人塗布する。次いで、マスタライタでレーザービーム露
光を行い、専用の現像液を用いて現像する。次に、ホト
レジストをマスクと１７で、ＣＦ４などのガスを用いた
反応性イオンエッチ〉′グ法によりガラス原盤をエツチ
ングする。その後、アッシング装置を用いてレジスト・
層を除去する。このようにして微細なパターンを有する
ガラス原盤が作製できる。
ストをスビンコー・Ｉ・法により１０００へ一３０００
人塗布する。次いで、マスタライタでレーザービーム露
光を行い、専用の現像液を用いて現像する。次に、ホト
レジストをマスクと１７で、ＣＦ４などのガスを用いた
反応性イオンエッチ〉′グ法によりガラス原盤をエツチ
ングする。その後、アッシング装置を用いてレジスト・
層を除去する。このようにして微細なパターンを有する
ガラス原盤が作製できる。
このガラス原盤の上に、ディスベンザを用いて紫外線硬
化樹脂をリング状に吐出させる。次に、透光性のエポキ
シ基板を、紫外線硬化樹脂がエポキシ基板とガラス原盤
との間に充分展開するように、ガラス原盤に押し当てる
。その後、エポキシ基板側からＵＶ照射を行い、紫夕［
線硬化樹脂を硬化させる。硬化しまた紫外線硬化樹脂層
をガラス原盤から離型することにより、微細な凹凸を有
する紫外線硬化樹脂層をエポキシ基板」二に形成するこ
とができる。このようにしてゾルゲル用ワークスタンパ
が作製できる。
化樹脂をリング状に吐出させる。次に、透光性のエポキ
シ基板を、紫外線硬化樹脂がエポキシ基板とガラス原盤
との間に充分展開するように、ガラス原盤に押し当てる
。その後、エポキシ基板側からＵＶ照射を行い、紫夕［
線硬化樹脂を硬化させる。硬化しまた紫外線硬化樹脂層
をガラス原盤から離型することにより、微細な凹凸を有
する紫外線硬化樹脂層をエポキシ基板」二に形成するこ
とができる。このようにしてゾルゲル用ワークスタンパ
が作製できる。
次に、ゾルゲル法を用いたガラス基板の作製方法につい
て述べる。
て述べる。
ガラス基板上にテトう王トキシシラン、ポリ−”ｒ−チ
）／ングリコール、塩酸を含むヱチルアルコール溶液牙
スピンコード法により塗布し、ゾルゲル層を２０００−
３０００人形成した。次いで、先程のワークスタンパを
減圧下で重ね合わせて押圧する。そのままの状態で、１
００°Ｃ、ｌＯｍｉｎの一次焼成を行−）た。その後、
ガラス基板をワークスタンパより離型し、３５０°Ｃ，
ｌＯｍｉｎの二次焼成を行い、所望の微細パターンを
有するガラス基板を得た。
）／ングリコール、塩酸を含むヱチルアルコール溶液牙
スピンコード法により塗布し、ゾルゲル層を２０００−
３０００人形成した。次いで、先程のワークスタンパを
減圧下で重ね合わせて押圧する。そのままの状態で、１
００°Ｃ、ｌＯｍｉｎの一次焼成を行−）た。その後、
ガラス基板をワークスタンパより離型し、３５０°Ｃ，
ｌＯｍｉｎの二次焼成を行い、所望の微細パターンを
有するガラス基板を得た。
以」ユ述べてきたように、本発明によるスタンパの製造
方法は、従来の方法に比べて短い工程で済み、又、ゾル
ゲル用スタンパとしてＮｉスタンパを使用１−ないで済
むため、ゾルゲル層がスタンパに付着することもなくな
り、その工業上の意義は大きい。
方法は、従来の方法に比べて短い工程で済み、又、ゾル
ゲル用スタンパとしてＮｉスタンパを使用１−ないで済
むため、ゾルゲル層がスタンパに付着することもなくな
り、その工業上の意義は大きい。
Claims (1)
- ガラス原盤上にレジストを塗布する工程、レーザービー
ムを用いて所望のパターンを露光する工程、微細なパタ
ーンを有するレジスト層を形成するための現像工程、残
存するレジスト層をマスクとしてガラス原盤をエッチン
グする工程、残存するレジスト層を除去する工程、微細
なパターンを有する前記ガラス原盤に透光性基板を押し
当てこのガラス原盤と透光性基板との間に紫外線硬化樹
脂を充填する工程、前記透光性基板を通して紫外線を照
射する工程、前記ガラス原盤から微細な凹凸を有する紫
外線硬化樹脂層を設けた前記透光性基板を離型する工程
からなるスタンパの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1201686A JP2995755B2 (ja) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | スタンパの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1201686A JP2995755B2 (ja) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | スタンパの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0365327A true JPH0365327A (ja) | 1991-03-20 |
| JP2995755B2 JP2995755B2 (ja) | 1999-12-27 |
Family
ID=16445222
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1201686A Expired - Lifetime JP2995755B2 (ja) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | スタンパの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2995755B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101367662B1 (ko) | 2006-11-22 | 2014-03-03 | 엘아이지에이디피 주식회사 | 임프린트용 스탬프 제조 방법 |
-
1989
- 1989-08-02 JP JP1201686A patent/JP2995755B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2995755B2 (ja) | 1999-12-27 |
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