JPH0370178B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0370178B2 JPH0370178B2 JP10933085A JP10933085A JPH0370178B2 JP H0370178 B2 JPH0370178 B2 JP H0370178B2 JP 10933085 A JP10933085 A JP 10933085A JP 10933085 A JP10933085 A JP 10933085A JP H0370178 B2 JPH0370178 B2 JP H0370178B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- area
- transmitted light
- optical axis
- laser beam
- pinhole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/89—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
- G01N21/892—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles characterised by the flaw, defect or object feature examined
- G01N21/894—Pinholes
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/89—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
- G01N21/8901—Optical details; Scanning details
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Pathology (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、薄板状の被検査物にレーザビームを
投射し、その透過光を検出して表面欠陥や異物付
着の有無を検査する装置に関するものである。
投射し、その透過光を検出して表面欠陥や異物付
着の有無を検査する装置に関するものである。
この種のレーザ式の検査装置は、例えば半導体
部品の製造工程におけるマスク基板の表面検査な
どに用いられている。
部品の製造工程におけるマスク基板の表面検査な
どに用いられている。
第２図および第３図は、被検査面上をレーザビ
ームで走査して、その前面側から出射するレーザ
光を検出して電気信号に変換した場合の信号電圧
を示した図表で、横軸は時間軸、縦軸は電圧であ
る。
ームで走査して、その前面側から出射するレーザ
光を検出して電気信号に変換した場合の信号電圧
を示した図表で、横軸は時間軸、縦軸は電圧であ
る。
時間軸上に示した時点t1は走査スポツトがピン
ホールを通過した時を示し、時点t2は微小な付着
異物を通過した時を示す。
ホールを通過した時を示し、時点t2は微小な付着
異物を通過した時を示す。
第２図に示したカーブ１は、狭義の透過光（前
面散乱光を除いた透過光の検出カーブである。ピ
ンホールを通過する時t1には光が強くなり、異物
を通過する時t2には光が弱くなることが表わされ
ている。
面散乱光を除いた透過光の検出カーブである。ピ
ンホールを通過する時t1には光が強くなり、異物
を通過する時t2には光が弱くなることが表わされ
ている。
第３図のカーブ３は、前記のカーブ１と同２と
の合計出力カーブである。
の合計出力カーブである。
このようにして表面検査を行なつた場合、次の
ような不具合が有る。
ような不具合が有る。
(i) ピンホールの径が微小であるときは、ピンホ
ールによるレーザ光の回折による拡がり角が大
きくなり、無欠陥部分と比較してＳ／Ｎ比が小
さくなる。
ールによるレーザ光の回折による拡がり角が大
きくなり、無欠陥部分と比較してＳ／Ｎ比が小
さくなる。
(ii) ピンホールの径が大きいと、ピンホールによ
る回折の拡がり角度が小さくなり、該ピンホー
ルを透過する光が著しく強くなり、信号が飽和
してしまう。
る回折の拡がり角度が小さくなり、該ピンホー
ルを透過する光が著しく強くなり、信号が飽和
してしまう。
本発明は上述の不具合を解消すべく為され、微
小なピンホールも高感度で検出することができ、
しかも、大きいピンホールによつても信号が飽和
しない（即ちダイナミツクレンジが大きい）レー
ザ式の透過光形表面検査装置を提供しようとする
ものである。
小なピンホールも高感度で検出することができ、
しかも、大きいピンホールによつても信号が飽和
しない（即ちダイナミツクレンジが大きい）レー
ザ式の透過光形表面検査装置を提供しようとする
ものである。
上記の目的を達成するために創作した本発明の
基本的な原理について次に略述する。
基本的な原理について次に略述する。
前述如く、ピンホールが小さいときは、回折の
拡がり角が大きいので、広範囲の拡散光を補集す
る必要がある。
拡がり角が大きいので、広範囲の拡散光を補集す
る必要がある。
また、ピンホールが大きいときは回折の拡がり
角が小さいので、信号を飽和させない為には光軸
に近い個所においてレーザ光の通過を制限、又は
減衰させれば良い。
角が小さいので、信号を飽和させない為には光軸
に近い個所においてレーザ光の通過を制限、又は
減衰させれば良い。
上述の原理に基づいて前記の目的を達成するた
め、本発明の透過光形検査装置は、被検査物を透
過してからレーザ光の検出手段に至る間の光軸上
にミラー及び集光レンズを設置し、かつ、上記の
ミラーの反射面を、(a)光軸と交わる点を含む近傍
の区域と、(b)それ以外の区域とに区分すると共
に、上記の光軸と交わる点を含む近傍の区域の反
射率を低下させるように構成したことを特徴とす
る。
め、本発明の透過光形検査装置は、被検査物を透
過してからレーザ光の検出手段に至る間の光軸上
にミラー及び集光レンズを設置し、かつ、上記の
ミラーの反射面を、(a)光軸と交わる点を含む近傍
の区域と、(b)それ以外の区域とに区分すると共
に、上記の光軸と交わる点を含む近傍の区域の反
射率を低下させるように構成したことを特徴とす
る。
次に、本発明の一実施例を第１図について説明
する。
する。
被検査物４にレーザビーム５を集束せしめて走
査する。
査する。
狭義の透過光６は鎖線で示したように、小さい
ビーム径をなし、前方散乱光７は破線で示したよ
うに比較的広く拡散する。
ビーム径をなし、前方散乱光７は破線で示したよ
うに比較的広く拡散する。
上記の透過光６及び散乱光７をほぼ直角に曲げ
るようにミラー８を設け、反射光をレンズ９で集
光して受光素子１０で検出するように構成する。
るようにミラー８を設け、反射光をレンズ９で集
光して受光素子１０で検出するように構成する。
前記ミラー８の表面を、(a)光軸と交わる点を含
む近傍の区域（平行斜線を付して示す）８ａと、
(b)それ以外の区域８ｂ，８ｃとに区分し、上記の
光軸を含む近傍の区域８ａの反射率を、その他の
区域８ｂ，８ｃに比して数分の１程度に低くす
る。本発明を実施する場合、30％以下にすると好
結果を得やすい。
む近傍の区域（平行斜線を付して示す）８ａと、
(b)それ以外の区域８ｂ，８ｃとに区分し、上記の
光軸を含む近傍の区域８ａの反射率を、その他の
区域８ｂ，８ｃに比して数分の１程度に低くす
る。本発明を実施する場合、30％以下にすると好
結果を得やすい。
以上のように構成した検査装置（第１図）にお
ける透過光の検出カーブ１′及び散乱光の検出カ
ーブ２′を第４図に示す。
ける透過光の検出カーブ１′及び散乱光の検出カ
ーブ２′を第４図に示す。
第１図から容易に理解できるように、透過光６
は低反射率の区域８ａで反射されるので、本例に
おける透過光検出カーブ１′は前述の透過光検出
カーブ１（第２図）に比して、全般的に一定の比
率で低くなつている。
は低反射率の区域８ａで反射されるので、本例に
おける透過光検出カーブ１′は前述の透過光検出
カーブ１（第２図）に比して、全般的に一定の比
率で低くなつている。
また、第１図に表わされているように、散乱光
７は比較的広く拡散され、低反射率の区域８ａの
みでなく、高反射率の区域８ｂ，８ｃによつても
反射されるので、本例における散乱光検出カーブ
２′は前述の散乱光検出カーブ２（第２図）に比
して余り低下しない。更に詳しくは、ピンホール
の大小に従つて次の如くなる。
７は比較的広く拡散され、低反射率の区域８ａの
みでなく、高反射率の区域８ｂ，８ｃによつても
反射されるので、本例における散乱光検出カーブ
２′は前述の散乱光検出カーブ２（第２図）に比
して余り低下しない。更に詳しくは、ピンホール
の大小に従つて次の如くなる。
ピンホールが比較的大きいときは回折の拡がり
角度が小さいので高反射率の区域８ｂ，８ｃで反
射される部分が比較的小さく、大部分が低反射率
の区域８ａで反射されるので、信号が飽和する虞
れが無い。
角度が小さいので高反射率の区域８ｂ，８ｃで反
射される部分が比較的小さく、大部分が低反射率
の区域８ａで反射されるので、信号が飽和する虞
れが無い。
ピンホールが比較的小さいときは回折の拡がり
が大きいので、大部分が高反射率の区域８ｂ，８
ｃで反射される。このため、検出感度が高い。
が大きいので、大部分が高反射率の区域８ｂ，８
ｃで反射される。このため、検出感度が高い。
第５図は、本例における透過光検出カーブ１′
と散乱光検出カーブ２′との合計出力カーブ３′を
示す。
と散乱光検出カーブ２′との合計出力カーブ３′を
示す。
以上詳述したように、本発明を適用すると、微
小なピンホールも高感度で検出することができ、
しかも、大きいピンホールによつても信号が飽和
しない（即ちダイナミツクレンジが大きい）レー
ザ式の透過光形表面検査装置を構成することがで
きるという優れた実用的効果を奏する。
小なピンホールも高感度で検出することができ、
しかも、大きいピンホールによつても信号が飽和
しない（即ちダイナミツクレンジが大きい）レー
ザ式の透過光形表面検査装置を構成することがで
きるという優れた実用的効果を奏する。
第１図は本発明の検査装置の一実施例を模式的
に描いた斜視図である。第２図及び第３図は従来
のレーザ式表面検査装置における検出信号電圧を
示す図表である。第４図及び第５図は前記実施例
における検出信号電圧を示す図表である。 １，１′…狭義の透過光の検出カーブ、２，
２′…散乱光の検出カーブ、３，３′…合計出力カ
ーブ、４…被検査物、５…レーザビーム、６…狭
義の透過光、７…前方散乱光、８…ミラー、８ａ
…光軸と交わる点を含む近傍の区域、８ｂ，８ｃ
…上記以外の区域、９…集光用のレンズ、１０…
受光素子。
に描いた斜視図である。第２図及び第３図は従来
のレーザ式表面検査装置における検出信号電圧を
示す図表である。第４図及び第５図は前記実施例
における検出信号電圧を示す図表である。 １，１′…狭義の透過光の検出カーブ、２，
２′…散乱光の検出カーブ、３，３′…合計出力カ
ーブ、４…被検査物、５…レーザビーム、６…狭
義の透過光、７…前方散乱光、８…ミラー、８ａ
…光軸と交わる点を含む近傍の区域、８ｂ，８ｃ
…上記以外の区域、９…集光用のレンズ、１０…
受光素子。
Claims (1)
- １ 薄板状の被検査物にレーザビームを投射し、
その透過光を検出して被検査物の表面欠陥および
異物付着を検査する装置において、被検査物を透
過してからレーザ光の検出手段に至る間の光軸上
にミラー及び集光レンズを設置し、かつ、上記の
ミラーの反射面を、(a)光軸と交わる点を含む近傍
の区域と、(b)それ以外の区域とに区分すると共
に、上記の光軸と交わる点を含む近傍の区域の反
射率を低下させるように構成したことを特徴とす
るレーザ式の透過光形表面検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10933085A JPS61269045A (ja) | 1985-05-23 | 1985-05-23 | レ−ザ式の透過光形表面検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10933085A JPS61269045A (ja) | 1985-05-23 | 1985-05-23 | レ−ザ式の透過光形表面検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61269045A JPS61269045A (ja) | 1986-11-28 |
| JPH0370178B2 true JPH0370178B2 (ja) | 1991-11-06 |
Family
ID=14507486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10933085A Granted JPS61269045A (ja) | 1985-05-23 | 1985-05-23 | レ−ザ式の透過光形表面検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61269045A (ja) |
-
1985
- 1985-05-23 JP JP10933085A patent/JPS61269045A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61269045A (ja) | 1986-11-28 |
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