JPH0372442A - トリシクロ［３．３．０．０↑２’↑８］オクタン―３―オンの純エナンチオマーの製法 - Google Patents
トリシクロ［３．３．０．０↑２’↑８］オクタン―３―オンの純エナンチオマーの製法Info
- Publication number
- JPH0372442A JPH0372442A JP2206675A JP20667590A JPH0372442A JP H0372442 A JPH0372442 A JP H0372442A JP 2206675 A JP2206675 A JP 2206675A JP 20667590 A JP20667590 A JP 20667590A JP H0372442 A JPH0372442 A JP H0372442A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- alkyl group
- groups
- formula
- tricyclo
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- RHLVCLIPMVJYKS-UHFFFAOYSA-N 3-octanone Chemical compound CCCCCC(=O)CC RHLVCLIPMVJYKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 13
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 3
- HBAQYPYDRFILMT-UHFFFAOYSA-N 8-[3-(1-cyclopropylpyrazol-4-yl)-1H-pyrazolo[4,3-d]pyrimidin-5-yl]-3-methyl-3,8-diazabicyclo[3.2.1]octan-2-one Chemical class C1(CC1)N1N=CC(=C1)C1=NNC2=C1N=C(N=C2)N1C2C(N(CC1CC2)C)=O HBAQYPYDRFILMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 4
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 10
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 6
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 2
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 3
- 125000004191 (C1-C6) alkoxy group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims 1
- UJVGEBBKXJLFPB-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.2]oct-2-en-5-one Chemical class C1CC2C(=O)CC1C=C2 UJVGEBBKXJLFPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- JWZZKOKVBUJMES-UHFFFAOYSA-N (+-)-Isoprenaline Chemical compound CC(C)NCC(O)C1=CC=C(O)C(O)=C1 JWZZKOKVBUJMES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006528 (C2-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- LZWKDAMVYOAKLT-UHFFFAOYSA-N bicyclo[4.2.0]oct-5-ene Chemical compound C1CCC2CCC2=C1 LZWKDAMVYOAKLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
- C07C49/587—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring
- C07C49/647—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring having unsaturation outside the ring
- C07C49/653—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring having unsaturation outside the ring polycyclic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/51—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition
- C07C45/516—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition involving transformation of nitrogen-containing compounds to >C = O groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
- C07C45/67—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/78—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/78—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C45/79—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by solid-liquid treatment; by chemisorption
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
- C07C49/385—Saturated compounds containing a keto group being part of a ring
- C07C49/417—Saturated compounds containing a keto group being part of a ring polycyclic
- C07C49/423—Saturated compounds containing a keto group being part of a ring polycyclic a keto group being part of a condensed ring system
- C07C49/453—Saturated compounds containing a keto group being part of a ring polycyclic a keto group being part of a condensed ring system having three rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
- C07C49/587—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring
- C07C49/613—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring polycyclic
- C07C49/617—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring polycyclic a keto group being part of a condensed ring system
- C07C49/623—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring polycyclic a keto group being part of a condensed ring system having two rings
- C07C49/633—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring polycyclic a keto group being part of a condensed ring system having two rings the condensed ring system containing eight or nine carbon atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
- Medicines Containing Plant Substances (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は、トリシクロ［３，３，０，０””］］オクタ
ンー３−オンの純エナンチオマーの製法に関する。
ンー３−オンの純エナンチオマーの製法に関する。
［従来の技術］
ビシクロ［２、２、２］］オクトー５−エンー２〜オの
ラセミ体を光化学変換によりラセミ体トリシクロ［３、
３、０、０” ”］］オクタンー３−オまたはビシクロ
［４、２、０］オオクテンに変換することがＲ，Ｓ、
Ｇｉｖｅｎｓ、 Ｗ、 Ｆ、 ０ｅｔｔｌｅ、 Ｒ，Ｌ
。
ラセミ体を光化学変換によりラセミ体トリシクロ［３、
３、０、０” ”］］オクタンー３−オまたはビシクロ
［４、２、０］オオクテンに変換することがＲ，Ｓ、
Ｇｉｖｅｎｓ、 Ｗ、 Ｆ、 ０ｅｔｔｌｅ、 Ｒ，Ｌ
。
Ｃｏｆｆ１ｎおよびＲ，Ｇ、 Ｃａｒｌｓｏｎ、 Ｊ
、 Ａ＋＋＋。
、 Ａ＋＋＋。
Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、、９３，３９５７（１９７１）に記
載されている。ビシクロ［２，２，２］オクト−５−エ
ン−２−オンのラセミ体の光化学変換はＣ１Ｃａｒｔｅ
ｒ、 Ｓ、 Ｃｈａｎｄｒａｓｅｋｈａｒ、 Ｍ、 Ｄ
ｅｍｕｔｈ、 ＫＮａｋａｎｏおよびＫ 、 Ｓ ｈａ
ｆＴｎｅｒによりＩ ＵＰＡＣ■／ １９８０ （Ｓｅ
ｅｆｅｌｄ、 Ａｕ５ｔｒｉａ）のＣｏｎｔｒｉｂｕｔ
ｅｄ Ｐａｐｅｒ Ｎｏ、 ３９にも報告されてい
る。
載されている。ビシクロ［２，２，２］オクト−５−エ
ン−２−オンのラセミ体の光化学変換はＣ１Ｃａｒｔｅ
ｒ、 Ｓ、 Ｃｈａｎｄｒａｓｅｋｈａｒ、 Ｍ、 Ｄ
ｅｍｕｔｈ、 ＫＮａｋａｎｏおよびＫ 、 Ｓ ｈａ
ｆＴｎｅｒによりＩ ＵＰＡＣ■／ １９８０ （Ｓｅ
ｅｆｅｌｄ、 Ａｕ５ｔｒｉａ）のＣｏｎｔｒｉｂｕｔ
ｅｄ Ｐａｐｅｒ Ｎｏ、 ３９にも報告されてい
る。
［発明が解決しようとする課題］
本発明の目的は、トリシクロ［３、３、０、０” ”コ
オクタノン類の純エナンチオマーの製法を提供すること
にある。
オクタノン類の純エナンチオマーの製法を提供すること
にある。
［課題を解決するための手段］
本発明の要旨は、式：
で示されるトリシクロ［３゜３ 、 Ｏ、Ｏ” ’］オ
クタンー３−オンまたはその置換体の純エナンチオマー
の製法であって、式： ［式中、Ｒ１、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ８は水
素、Ｃ３〜Ｃ８アルキル基、Ｃ３〜Ｃ，アルコキン基ま
たは水酸基および／またはカルボニル基含有Ｃ１〜Ｃ６
アルキル基（これらの基は１またはそれ以上の二重結合
および／または三重結合を有していてもよい。）、塩素
、臭素、フッ素、ンアノ基、カルボキシル基もしくはそ
のエステル基または−Ｃ−Ｒ（ここで、Ｒは水素、Ｃ３
〜Ｃ，アルキル１ 基、ｃ、−ｃｍアルコキシ基または水酸基および／また
はカルボニル基含有Ｃ３〜Ｃ，アルキル基であり、これ
らの基は１またはそれ以上の二重結合および／または三
重結合を有していてもよく、さらにカルボニル基はアセ
タール化またはケタール化されていてもよい。）、Ｒ７
およびＲ１１は水素、Ｃ〜Ｃ１ｌアルキル基、Ｃ３〜Ｃ
ｓアルコキシ基または水酸基および／またはカルボニル
基含有Ｃ３〜Ｃ。
クタンー３−オンまたはその置換体の純エナンチオマー
の製法であって、式： ［式中、Ｒ１、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ８は水
素、Ｃ３〜Ｃ８アルキル基、Ｃ３〜Ｃ，アルコキン基ま
たは水酸基および／またはカルボニル基含有Ｃ１〜Ｃ６
アルキル基（これらの基は１またはそれ以上の二重結合
および／または三重結合を有していてもよい。）、塩素
、臭素、フッ素、ンアノ基、カルボキシル基もしくはそ
のエステル基または−Ｃ−Ｒ（ここで、Ｒは水素、Ｃ３
〜Ｃ，アルキル１ 基、ｃ、−ｃｍアルコキシ基または水酸基および／また
はカルボニル基含有Ｃ３〜Ｃ，アルキル基であり、これ
らの基は１またはそれ以上の二重結合および／または三
重結合を有していてもよく、さらにカルボニル基はアセ
タール化またはケタール化されていてもよい。）、Ｒ７
およびＲ１１は水素、Ｃ〜Ｃ１ｌアルキル基、Ｃ３〜Ｃ
ｓアルコキシ基または水酸基および／またはカルボニル
基含有Ｃ３〜Ｃ。
アルキル基（これらの基は１またはそれ以上の二重結合
および／または三重結合を有していてもよい。）を表わ
す］ で示されるビシクロ［２，２，２］オクト−５−エン−
２−オン化合物の純エナンチオマーを増感光反応に付す
ことから成る方法に存する。
および／または三重結合を有していてもよい。）を表わ
す］ で示されるビシクロ［２，２，２］オクト−５−エン−
２−オン化合物の純エナンチオマーを増感光反応に付す
ことから成る方法に存する。
Ｃｉ ”’−Ｃ＊アルキル基、ＣＩ−Ｃｓアルコキシ基
および水酸基および／またはカルボニル基含有０１〜Ｃ
，アルキル基は直鎖または分枝状の基であってよい。
および水酸基および／またはカルボニル基含有０１〜Ｃ
，アルキル基は直鎖または分枝状の基であってよい。
Ｒ＋ −Ｒ、およびＲに含まれる０１〜Ｃ８の基の例と
しては、メチル、エチル、イソおよびｎ−プロピル、ｎ
−１−ブチル、ｎ−２−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチ
ルなどが挙げられ、Ｃ１〜Ｃ１のアルキル基、アルコキ
シ基および水酸基および／またはカルボニル基含有アル
キル基として好ましいものは、ｎ−アルキル基および２
−ならびに３−メチルアルキル基である。Ｃ２〜Ｃ６ア
ルキル基、アルコキシ基および水酸基および／またはカ
ルボニル基含有アルキル基の二重結合、三重結合、水酸
基およびカルボニル基は１１？または３位に存在するの
が好ましい。
しては、メチル、エチル、イソおよびｎ−プロピル、ｎ
−１−ブチル、ｎ−２−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチ
ルなどが挙げられ、Ｃ１〜Ｃ１のアルキル基、アルコキ
シ基および水酸基および／またはカルボニル基含有アル
キル基として好ましいものは、ｎ−アルキル基および２
−ならびに３−メチルアルキル基である。Ｃ２〜Ｃ６ア
ルキル基、アルコキシ基および水酸基および／またはカ
ルボニル基含有アルキル基の二重結合、三重結合、水酸
基およびカルボニル基は１１？または３位に存在するの
が好ましい。
ビシクロ［２、２、２コオクト−５−エン−２−オン化
合物（ＩＩ）の純エナンチオマーを増感剤（たとえばア
セトフェノン、アセトン、ベンゾフェノンまたはベンゼ
ン）の存在下、特に波長２５４〜４００ｎｉｎの範囲で
照射すると、選択的に対応するトリシクロ［３、３、０
、０１＠］オクタン−３−オン（１）またはその置換体
の純エナンチオマーが得られる。この商業的に重要な化
合物（Ｉ）が、化合物（ＩＩ）の純エナンチオマーを用
いることにより、初めて光学的に純粋な形で合成するこ
とが可能になった。
合物（ＩＩ）の純エナンチオマーを増感剤（たとえばア
セトフェノン、アセトン、ベンゾフェノンまたはベンゼ
ン）の存在下、特に波長２５４〜４００ｎｉｎの範囲で
照射すると、選択的に対応するトリシクロ［３、３、０
、０１＠］オクタン−３−オン（１）またはその置換体
の純エナンチオマーが得られる。この商業的に重要な化
合物（Ｉ）が、化合物（ＩＩ）の純エナンチオマーを用
いることにより、初めて光学的に純粋な形で合成するこ
とが可能になった。
次に実施例を示し、本発明を具体的に説明する。
［実施例］
実施例Ｉ
（−）−１−メチル−ビシクロ［２、２、２コオクトー
５−エン−２−オンのアセトン溶液（１％、Ｉｇ）を水
冷石英容器に入れ、アルゴンで置換し、３０００人の光
を照射した。７２時間後、転化率は９６％であった。ア
セトンを留去し、残渣をシリカゲル（１５ｇ）クロマト
グラフィに付した。出発物質はベンゼンにより回収され
、（＋）−８−メチルトリシクロ［３、３、０、０”
”コオクタンー３−オン０．８６ｇがベンゼン／エーテ
ル（９：１）により得られた。
５−エン−２−オンのアセトン溶液（１％、Ｉｇ）を水
冷石英容器に入れ、アルゴンで置換し、３０００人の光
を照射した。７２時間後、転化率は９６％であった。ア
セトンを留去し、残渣をシリカゲル（１５ｇ）クロマト
グラフィに付した。出発物質はベンゼンにより回収され
、（＋）−８−メチルトリシクロ［３、３、０、０”
”コオクタンー３−オン０．８６ｇがベンゼン／エーテ
ル（９：１）により得られた。
元素分析、計算値： Ｃ，７９，４１％、Ｈ，８゜８２
％、０．１１．７６％、実測値： Ｃ，７９，５％、Ｈ
，８，８％＋０．１１．６％。
％、０．１１．７６％、実測値： Ｃ，７９，５％、Ｈ
，８，８％＋０．１１．６％。
実施例２
（＋）−１−ブチル−ビシクロ［２，２，２］オクト−
５−エン−２−オン（１、５ｇ）のシクロヘキサン４％
溶液をパイレックス容器に入れ、アルゴン雰囲気中、ア
セトフェノン２００ａ＋ｇの存在下、２５０Ｗ中圧水銀
灯で照射した。５０時間後、転化率は９８％であった。
５−エン−２−オン（１、５ｇ）のシクロヘキサン４％
溶液をパイレックス容器に入れ、アルゴン雰囲気中、ア
セトフェノン２００ａ＋ｇの存在下、２５０Ｗ中圧水銀
灯で照射した。５０時間後、転化率は９８％であった。
溶液を蒸発濃縮し、残渣をシリカゲル（７０〜１００メ
ツシユ、１００ｇ）クロマトグラフィに付した。アセト
フェノンはトルエンにより除去され、純（−）−８−ブ
チル−トリシクロ［３，３，Ｑ、Ｏ”’］オクタンー３
−オンはトルエン／１％ジエチルエーテルにより得た。
ツシユ、１００ｇ）クロマトグラフィに付した。アセト
フェノンはトルエンにより除去され、純（−）−８−ブ
チル−トリシクロ［３，３，Ｑ、Ｏ”’］オクタンー３
−オンはトルエン／１％ジエチルエーテルにより得た。
元素分析、計算値： Ｃ，８０，９％、Ｈ，１０゜１１
％、０，８．９９％、実測値＋ Ｃ，８０，９％；Ｈ，
１０，０％、０，８．８％。
％、０，８．９９％、実測値＋ Ｃ，８０，９％；Ｈ，
１０，０％、０，８．８％。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、式： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） で示されるトリシクロ［３，３，０，０＾２＾′＾６］
オクタン−３−オンまたはその置換体の純エナンチオマ
ーの製法であって、式： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ［式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５およ
びＲ＿６は水素、Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキル基、Ｃ＿１〜
Ｃ＿６アルコキシ基または水酸基および／またはカルボ
ニル基含有Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキル基（これらの基は１
またはそれ以上の二重結合および／または三重結合を有
していてもよい。）、塩素、臭素、フッ素、シアノ基、
カルボキシル基もしくはそのエステル基または▲数式、
化学式、表等があります▼（ここで、Ｒは水素、Ｃ＿１
〜Ｃ＿６アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルコキシ基また
は水酸基および／またはカルボニル基含有Ｃ＿１〜Ｃ＿
６アルキル基であり、これらの基は１またはそれ以上の
二重結合および／または三重結合を有していてもよく、
さらにカルボニル基はアセタール化またはケタール化さ
れていてもよい。）、Ｒ＿７およびＲ＿８は水素、Ｃ＿
１〜Ｃ＿６アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルコキシ基ま
たは水酸基および／またはカルボニル基含有Ｃ＿１〜Ｃ
＿６アルキル基（これらの基は１またはそれ以上の二重
結合および／または三重結合を有していてもよい。）を
表わす］ で示されるビシクロ［２，２，２］オクト−５−エン−
２−オン化合物の純エナンチオマーを増感光反応に付す
ことから成る方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19803046106 DE3046106A1 (de) | 1980-12-06 | 1980-12-06 | Optisch reine bicyclo(2.2.2)oct-5-en-2.one, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
| DE3046106.4 | 1980-12-06 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56197573A Division JPS57122038A (en) | 1980-12-06 | 1981-12-07 | Pure enanthiomer of bicyclo(2,2,2)oct-5- ene-2-one, manufacture and use |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0372442A true JPH0372442A (ja) | 1991-03-27 |
| JPH0417933B2 JPH0417933B2 (ja) | 1992-03-26 |
Family
ID=6118538
Family Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56197573A Granted JPS57122038A (en) | 1980-12-06 | 1981-12-07 | Pure enanthiomer of bicyclo(2,2,2)oct-5- ene-2-one, manufacture and use |
| JP2206676A Granted JPH0372443A (ja) | 1980-12-06 | 1990-08-02 | ビシクロ〔４．２．０〕オクト―２―エン―８―オンの純（−）―エナンチオマーの製法 |
| JP2206675A Granted JPH0372442A (ja) | 1980-12-06 | 1990-08-02 | トリシクロ［３．３．０．０↑２’↑８］オクタン―３―オンの純エナンチオマーの製法 |
Family Applications Before (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56197573A Granted JPS57122038A (en) | 1980-12-06 | 1981-12-07 | Pure enanthiomer of bicyclo(2,2,2)oct-5- ene-2-one, manufacture and use |
| JP2206676A Granted JPH0372443A (ja) | 1980-12-06 | 1990-08-02 | ビシクロ〔４．２．０〕オクト―２―エン―８―オンの純（−）―エナンチオマーの製法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US4415756A (ja) |
| EP (1) | EP0053823B1 (ja) |
| JP (3) | JPS57122038A (ja) |
| AT (1) | ATE12624T1 (ja) |
| CA (1) | CA1199332A (ja) |
| DE (2) | DE3046106A1 (ja) |
| DK (3) | DK532881A (ja) |
| IE (1) | IE52005B1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20040024180A (ko) * | 2002-09-13 | 2004-03-20 | 현대모비스 주식회사 | 자동차용 확장형 선바이저 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2589251B2 (ja) * | 1992-08-27 | 1997-03-12 | 株式会社日本製鋼所 | 混練押し出し方法 |
| US5767305A (en) * | 1997-04-03 | 1998-06-16 | International Flavors & Fragrances Inc. | Cyclopropyl carboxylic acid esters and uses thereof in imparting, augmenting and enhancing aromas |
| JP4511809B2 (ja) * | 2003-06-19 | 2010-07-28 | 川口薬品株式会社 | ムスコンのアセタール付加体、その調製方法、並びに（±）−ムスコンの光学分割方法 |
| EP2630111B1 (en) | 2010-10-20 | 2015-02-25 | Actelion Pharmaceuticals Ltd. | Preparation of bicyclo[2.2.2]octan-2-one compounds |
| CN103097369B (zh) * | 2011-08-10 | 2014-09-17 | 杨震 | 化学合成安卓幸的方法及其抑制非小细胞肺癌的应用 |
| TWI417289B (zh) * | 2011-10-17 | 2013-12-01 | Deyew Biotech Corp | 製備具光學活性安卓幸之製程 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3748242A (en) * | 1972-06-12 | 1973-07-24 | Ibm | Preparation of cyclobutanones from glutaric anhydrides |
| US3914322A (en) * | 1973-10-01 | 1975-10-21 | Int Flavors & Fragrances Inc | Bicyclic fragrance materials and processes therefor |
-
1980
- 1980-12-06 DE DE19803046106 patent/DE3046106A1/de not_active Withdrawn
-
1981
- 1981-12-01 DK DK532881A patent/DK532881A/da not_active Application Discontinuation
- 1981-12-02 US US06/326,644 patent/US4415756A/en not_active Expired - Fee Related
- 1981-12-04 CA CA000391554A patent/CA1199332A/en not_active Expired
- 1981-12-04 DE DE8181110167T patent/DE3169900D1/de not_active Expired
- 1981-12-04 IE IE2849/81A patent/IE52005B1/en not_active IP Right Cessation
- 1981-12-04 EP EP81110167A patent/EP0053823B1/de not_active Expired
- 1981-12-04 AT AT81110167T patent/ATE12624T1/de not_active IP Right Cessation
- 1981-12-07 JP JP56197573A patent/JPS57122038A/ja active Granted
-
1982
- 1982-07-26 US US06/401,479 patent/US4454352A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-07-26 US US06/401,462 patent/US4461687A/en not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-05-26 DK DK259689A patent/DK159651C/da not_active IP Right Cessation
-
1990
- 1990-03-09 DK DK063090A patent/DK160710C/da not_active IP Right Cessation
- 1990-08-02 JP JP2206676A patent/JPH0372443A/ja active Granted
- 1990-08-02 JP JP2206675A patent/JPH0372442A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20040024180A (ko) * | 2002-09-13 | 2004-03-20 | 현대모비스 주식회사 | 자동차용 확장형 선바이저 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DK63090A (da) | 1990-03-09 |
| US4415756A (en) | 1983-11-15 |
| DK63090D0 (da) | 1990-03-09 |
| DK259689D0 (da) | 1989-05-26 |
| JPH0417935B2 (ja) | 1992-03-26 |
| DE3169900D1 (en) | 1985-05-15 |
| DK259689A (da) | 1989-05-26 |
| CA1199332A (en) | 1986-01-14 |
| US4454352A (en) | 1984-06-12 |
| IE52005B1 (en) | 1987-05-13 |
| JPH0417933B2 (ja) | 1992-03-26 |
| DK160710B (da) | 1991-04-08 |
| EP0053823A1 (de) | 1982-06-16 |
| US4461687A (en) | 1984-07-24 |
| DK160710C (da) | 1991-09-16 |
| DK532881A (da) | 1982-06-07 |
| DK159651C (da) | 1991-04-08 |
| EP0053823B1 (de) | 1985-04-10 |
| JPH0319214B2 (ja) | 1991-03-14 |
| DE3046106A1 (de) | 1982-07-15 |
| IE812849L (en) | 1982-06-06 |
| DK159651B (da) | 1990-11-12 |
| ATE12624T1 (de) | 1985-04-15 |
| JPH0372443A (ja) | 1991-03-27 |
| JPS57122038A (en) | 1982-07-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH01299267A (ja) | 光学活性β−ラクタム誘導体の製造法 | |
| JPH02218642A (ja) | プロスタグランジン | |
| Majchrzak et al. | Photolysis of 2-alkoxy-. DELTA. 3-1, 3, 4-oxadiazolines. A new route to diazoalkanes | |
| Mochida et al. | Photochemistry of aryl-substituted trigermanes. Generation and mechanism of formation of germylenes | |
| Koch et al. | Photochemical reactivity of keto imino ethers. IV. Type I and type II reactions | |
| Nebe et al. | Photolysis of cis, cis-1, 3-cyclooctadiene | |
| Posner et al. | Enantiocontrolled Synthesis of (R)‐3‐Substituted Cyclohexanones Using (S)‐2‐(p‐Tolylsulfinyl)‐2‐cyclohexenone and Various Organometallic Reagents in 2, 5‐Dimethyltetrahydrofuran | |
| Baldwin et al. | Cobalt-mediated cyclization of amino acid derivatives. Application to the kainoids | |
| JPH0372443A (ja) | ビシクロ〔４．２．０〕オクト―２―エン―８―オンの純（−）―エナンチオマーの製法 | |
| Ruppert et al. | Tricyclo [5.3. 0.01, 6] decan-5-one and tricyclo [5.4. 0.01, 6] undecan-5-one. Synthesis and selective transformation to spiro and fused bicyclic systems | |
| JPH01117898A (ja) | 新規な１４−アジドステロイド誘導体およびその製造方法 | |
| CN109956935B (zh) | 一类单组份长波长光引发剂及其制备方法 | |
| Jones et al. | Photolyses of trienes. II. Selective photoreactions of 2, 7, 7-trimethylcycloheptatriene | |
| Gillespie Jr et al. | New synthesis of 3-substituted 1-methylnaphthalenes via ring expansion of 1-methylindenes | |
| Chatterjee et al. | Visible Light Mediated Photoclick Reactions of Diazoenals: Direct Access to Bicyclo [4.1. 0] heptane-Fused Polycycles with Potential Application as Insulin Aggregation Inhibitors | |
| JPS608230A (ja) | ７−置換クワドリシクレン類−シクロデキストリン包接化合物の製造方法 | |
| US4502930A (en) | Method for manufacture of 7-substituted quadricyclene-cyclodextrin inclusion compound | |
| Kumar et al. | A novel photorearrangement of a bridgehead-disubstituted dibenzobarrelene. Steady state and laser flash photolysis studies of a 9-hydroxymethyl-10-methyl-dibenzobarrelene | |
| JPS63501564A (ja) | ラセミ・ノルジヒドログアヤレチン酸および中間体 | |
| Tonnis et al. | Adamantanes and related compounds. VIII. Behavior of endo-7-aminomethylbicyclo [3.3. 1] nonan-3-one under reducing conditions | |
| Kaban | Interaction of alkali metals with unsaturated heterocyclic compounds. The reductive metalation of 1, 4‐diphenylphthalazine | |
| JPS608232A (ja) | ７−置換クワドリシクレン類−シクロデキストリン包接化合物の製造方法 | |
| Rozing et al. | Synthesis and stereochemistry of some 1, 2, 3, 4‐tetrasubstituted pyrrolidines | |
| JPS61205290A (ja) | 新規ジ（９−アントリル）ジメチルゲルマン系化合物およびその製造方法 | |
| Pavlovich et al. | Absorption and fluorescence of 9, 10-diiodoanthracene in undegassed solutions |