JPH0374676B2 - - Google Patents
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- JPH0374676B2 JPH0374676B2 JP61208337A JP20833786A JPH0374676B2 JP H0374676 B2 JPH0374676 B2 JP H0374676B2 JP 61208337 A JP61208337 A JP 61208337A JP 20833786 A JP20833786 A JP 20833786A JP H0374676 B2 JPH0374676 B2 JP H0374676B2
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- silicon
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Description
(産業上の利用分野)
本発明は立体障害の大きい、かさ高い置換基を
もつ(フエニルジメチルカルビニル)シラン化合
物の製造方法に関するものである。 (従来の技術と問題点) 従来、立体障害の大きい、かさ高い置換基をも
つたケイ素化合物としてt−ブチルジメチルクロ
ルシランが知られており、これはプロスタグラン
ジン(性ホルモン)、チエナマイシン(抗生物質)
などの医薬品合成に選択的特殊シリル化剤として
使用される有用な化合物である。このブチルジメ
チルクロロシランの合成法としては、t−ブチ
ルリチウムを利用する方法[J.Org.Chem.433649
(1978)、J.Am.Chem.Soc.761030(1954)]、グ
リニヤール反応を利用する方法があるが、は金
属リチウム、有機リチウムの取扱いが危険なため
工業的方法とは言えず、または中間体として水
素シラン化合物を経由するため工程が長くなる欠
点がありいずれも満足できるものではなかつた。 グリニヤール試薬による立体障害の大きい基の
導入についてはさらに別の試みもなされている
(「有機ケイ素化学」(1959)、槙書店、第99頁参
照)が、四フツ化ケイ素に対しては立体障害の大
きい、イソプロピル、シクロヘキシル、o−トリ
ルなどの基(これらは立体障害はある程度大きい
かもしれないが第三級炭化水素基ではない)をグ
リニヤール試薬で導入することができるものの、
四塩化ケイ素あるいはテトラエチルシリケートに
対してはうまくいかず、どうしてもリチウム化合
物の助けをからなければならないし、また、四塩
化ケイ素に対してはイソプロピル基が極めて低い
収率でしか導入されないという報告もある。さら
に第三級炭化水素基の場合、塩化t−ブチルマグ
ネシウムは四塩化ケイ素、四臭化ケイ素、四ヨウ
化ケイ素、テトラエチルシリケートなどに対して
相当過酷な条件下でも反応しないとされている。
このようにSi−F結合を除くSi−ハロゲン結合及
びSi−アルコキシル結合に対し、グリニヤール反
応により立体障害の大きい基を置換することは困
難であつた。特に第三級炭化水素基を置換するこ
とは、上記のとおり構造の最も簡単なt−ブチル
基でも従来極めて困難であり、第三級炭化水素基
の導入に関し、工業的に汎用され入手が容易な原
料を用い、しかも容易に反応が進行して高収率が
得られるグリニヤール法は提案されていなかつ
た。 (問題点を解決するための手段) 本発明者らはこれら従来の問題点を解決し、公
知のブチルジメチルクロロシラン化合物と同程度
もしくはそれ以上の機能をもつシリル化合物を容
易に高収率で得ることができる方法の開発を目的
に、種々検討した結果、工業的汎用原料であるメ
チルスチレンとハロゲン化水素から容易にフエニ
ルジメチルカルビニルハロゲナイドが得られ、こ
れと≡SX結合を有するケイ素化合物とをMg−有
機溶媒系に同時に添加して反応させることによ
り、(フエニルジメチルカルビニル)シラン化合
物が容易に高収率で得られることを見出し、本発
明を完成するに至つたものである。 本発明は(フエニルジメチルカルビニル)シラ
ン化合物を製造する方法の発明であつて、一般式 (式中Yはハロゲン原子を表わす) で示される(フエニルジメチルカルビニル)ハロ
ゲナイドと、 一般式 R1 nR2 oSiX4-n-o (式中R1,R2はメチル基、エチル基などのア
ルキル基、ビニル基、アリル基などのアルケニル
基、またはフエニル基、トリル基などのアリール
基、Xは塩素原子、またはメトキシ基、m,n=
0〜2、m+n≦2を表わす) で示されるケイ素化合物とをMg−有機溶媒系に
同時に添加して反応させることを特徴とする方法
である。 以下これを詳しく説明する。 本発明の方法ではまず不活性有機溶媒中に金属
マグネシウムを添加し、これにメチルスチレンと
ハロゲン化水素水溶液との加熱反応によつて得ら
れたフエニルジメチルカルビニルハロゲナイドと
一般式R1 nR2 oSiX4-n-oで示されるケイ素化合物と
の混合物を添加し、反応させる。この場合の反応
は、上記のハロゲナイドと金属マグネシウムとか
らまずグリニヤール試薬が生成し、さらに直ちに
次式によつて進行する。 この反応に用いられるフエニルジメチルカルビ
ニルハロゲナイドは熱的に不安定で、蒸留すると
かなりの割合で脱ハロゲン化してメチルスチレン
にもどつてしまうため、メチルスチレンとハロゲ
ン化水素水溶液とを加熱反応させて得られたフエ
ニルジメチルカルビニルハロゲナイドは直ちに水
層から分離する必要がある。 またフエニルジメチルカルビニルハロゲナイド
のグリニヤール試薬は有機溶媒中で次式で示すよ
うな 副反応を生じて溶媒中で濃度が高くなるので、
これを防ぎ、また生成されたグリニヤール試薬が
リアクタントであるシラン化合物と直ちに反応で
きるようにしなければならない。 本発明の方法における最も重要なポイントは、
Mg−有機溶媒系にフエニルジメチルカルビニル
ハロゲナイドとケイ素化合物とを同時に添加反応
させることであり、これによつてはじめて収率よ
く工業的生産が可能となる。 また、一般に第三級炭化水素基のケイ素原子へ
の導入はアルキルリチウム試薬でのみ反応が容易
に進行し、ハロゲン−ケイ素結合を有する化合物
に対してはグリニヤール試薬では進行しないのが
普通である。例えば、前記のとおり四フツ化ケイ
素に対してイソプロピル基などがグリニヤール試
薬で導入できるが、この第三級炭化水素基ではな
いイソプロピル基などでさえも四塩化ケイ素ある
いはテトラエチルシリケートに対してはうまくい
かず、どうしてもリチウム化合物の助けをからな
ければならないとか、あるいは四塩化ケイ素に対
してはイソプロピル基が極めて低い収率でしか導
入されないという報告があり、第三級炭化水素基
の導入にいたつては、塩化t−ブチルマグネシウ
ムが四塩化ケイ素、四臭化ケイ素、四ヨウ化ケイ
素、テトラエチルシリケートなどに対して相当過
酷な条件下でも反応しないとされている。一方、
グリニヤール試薬の場合はリアクタントであるケ
イ素原子上の置換基としてH基をもつたケイ素化
合物のみ反応が容易に進行すると言われている
が、本発明に係るシランのフエニルジメチルカル
ビニル基は第三級炭化水素基であるにも係らずグ
リニヤール試薬で、これまで第三級炭化水素基、
例えばt−ブチル基、の導入が極めて困難とされ
ていたようなハロゲン−ケイ素結合を有する化合
物についても、容易にケイ素原子に導入できるこ
とが判明した。このことは誰もが予想しなかつた
画期的な効果である。 本発明の方法で使用される前記一般式R1 nR2 o
SiX4-n-oのケイ素化合物としてはジメチルジク
ロロシラン、メチルトリクロロシラン、ビニルメ
チルジクロロシラン、フエニルトリクロロシラ
ン、ジフエニルジクロロシラン、メチルトリメト
キシシラン、クロロメチルメチルジクロロシラン
などが例示される。 有機溶媒としてはジエチルエーテル、テトラハ
イドロフランなどのエーテル系溶剤、ベンゼン、
トルエンなどの炭化水素溶剤が例示されるが、こ
れらは2種以上の混合溶剤として使用してもよ
い。 前記反応は10〜150℃、好ましくは30〜100℃の
温度範囲で行なうのがよい。またこの反応系に酸
素が存在すると、反応段階でグリニヤール試薬が
酸素と反応し、収率低下の原因となるので、窒
素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で反応さ
せるのがよい。 (発明の効果) 本発明によれば(フエニルジメチルカルビニ
ル)シラン化合物を容易に高収率で得ることがで
き、この方法により提供された(フエニルジメチ
ルカルビニル)シラン化合物は、分子内に立体
障害の大きい、かさ高い置換基を有しているた
め、立体選択性が高く、アルコールとの反応に
より得られたシリルエーテル結合が化学的に安定
であることからステロイド、プロスタグランジン
などの医薬品合成に有用な特称シリル化剤とし
て、また、立体規則性をもつたポリオレフインの
重合触媒、添加剤などの用途に有用性をもつもの
である。 実施例 1 テトラハイドロフラン600mlおよび金属マグネ
シウム12g(0.5モル)からなる混合物中に、ジ
メチルジクロルシラン64.5g(0.5モル)および
フエニルジメチルカルビニルクロライド77.3g
(0.5モル)の混合液をN2気流下、内温を40〜50
℃に維持しながら撹拌下に滴下した。滴下終了後
内温を50℃に昇温してその温度で1時間撹拌を続
けた。こうして得た反応液をろ過し、ろ液を濃縮
し、減圧蒸留し、減圧度2mmHgで留出温度74℃
の留分をとつたところ、90.3gの油状物が得られ
た。これはSE−30の15%coat2m・パツクドカラ
ムによるガスクロマトグラフイーで調べたところ
単一成分であつた。こうして得られた(フエニル
ジメチルカルビニル)ジメチルクロルシランの質
量スペクトル(MS)、核磁気共鳴(NMR)およ
び赤外吸収(IR)を測定したところ、 次の結果が得られた。 MS:m/e(スペクトル強度比) *212(16)*197(3)177(3)135(3)119(100) 118(56)*93(34)91(43)79(8)78(8) 77(11)65(8)41(18)39(8) *印は塩素Cl37の同位体元素ピークをともな
う。 NMR:δ(ppm) (a)0.22(s),(b)1.40(s),(c)6.80〜7.20(m
) IR:(cm-1) 3050,2970,2875,1600,1500,1475,1370,
1260,1040,920,840,810,790,700 実施例 2 (フエニルジメチルカルビニル)ジメチルクロル
シラン21.25g(0.1モル)をシクロヘキサノール
10g(0.1モル)、N,N−ジメチルフオルムアミ
ド100mlおよびトリエチルアミン10.1gの混合溶
液中に室温で滴下して反応させたのち、反応混合
物をろ過、濃縮、減圧蒸留して、シリルエーテル
化合物(A): 26gを得た。同様にして、t−ブチルジメチルク
ロルシランでシクロヘキサノールをシリル化し
て、シリルエーテル化合物(B):
もつ(フエニルジメチルカルビニル)シラン化合
物の製造方法に関するものである。 (従来の技術と問題点) 従来、立体障害の大きい、かさ高い置換基をも
つたケイ素化合物としてt−ブチルジメチルクロ
ルシランが知られており、これはプロスタグラン
ジン(性ホルモン)、チエナマイシン(抗生物質)
などの医薬品合成に選択的特殊シリル化剤として
使用される有用な化合物である。このブチルジメ
チルクロロシランの合成法としては、t−ブチ
ルリチウムを利用する方法[J.Org.Chem.433649
(1978)、J.Am.Chem.Soc.761030(1954)]、グ
リニヤール反応を利用する方法があるが、は金
属リチウム、有機リチウムの取扱いが危険なため
工業的方法とは言えず、または中間体として水
素シラン化合物を経由するため工程が長くなる欠
点がありいずれも満足できるものではなかつた。 グリニヤール試薬による立体障害の大きい基の
導入についてはさらに別の試みもなされている
(「有機ケイ素化学」(1959)、槙書店、第99頁参
照)が、四フツ化ケイ素に対しては立体障害の大
きい、イソプロピル、シクロヘキシル、o−トリ
ルなどの基(これらは立体障害はある程度大きい
かもしれないが第三級炭化水素基ではない)をグ
リニヤール試薬で導入することができるものの、
四塩化ケイ素あるいはテトラエチルシリケートに
対してはうまくいかず、どうしてもリチウム化合
物の助けをからなければならないし、また、四塩
化ケイ素に対してはイソプロピル基が極めて低い
収率でしか導入されないという報告もある。さら
に第三級炭化水素基の場合、塩化t−ブチルマグ
ネシウムは四塩化ケイ素、四臭化ケイ素、四ヨウ
化ケイ素、テトラエチルシリケートなどに対して
相当過酷な条件下でも反応しないとされている。
このようにSi−F結合を除くSi−ハロゲン結合及
びSi−アルコキシル結合に対し、グリニヤール反
応により立体障害の大きい基を置換することは困
難であつた。特に第三級炭化水素基を置換するこ
とは、上記のとおり構造の最も簡単なt−ブチル
基でも従来極めて困難であり、第三級炭化水素基
の導入に関し、工業的に汎用され入手が容易な原
料を用い、しかも容易に反応が進行して高収率が
得られるグリニヤール法は提案されていなかつ
た。 (問題点を解決するための手段) 本発明者らはこれら従来の問題点を解決し、公
知のブチルジメチルクロロシラン化合物と同程度
もしくはそれ以上の機能をもつシリル化合物を容
易に高収率で得ることができる方法の開発を目的
に、種々検討した結果、工業的汎用原料であるメ
チルスチレンとハロゲン化水素から容易にフエニ
ルジメチルカルビニルハロゲナイドが得られ、こ
れと≡SX結合を有するケイ素化合物とをMg−有
機溶媒系に同時に添加して反応させることによ
り、(フエニルジメチルカルビニル)シラン化合
物が容易に高収率で得られることを見出し、本発
明を完成するに至つたものである。 本発明は(フエニルジメチルカルビニル)シラ
ン化合物を製造する方法の発明であつて、一般式 (式中Yはハロゲン原子を表わす) で示される(フエニルジメチルカルビニル)ハロ
ゲナイドと、 一般式 R1 nR2 oSiX4-n-o (式中R1,R2はメチル基、エチル基などのア
ルキル基、ビニル基、アリル基などのアルケニル
基、またはフエニル基、トリル基などのアリール
基、Xは塩素原子、またはメトキシ基、m,n=
0〜2、m+n≦2を表わす) で示されるケイ素化合物とをMg−有機溶媒系に
同時に添加して反応させることを特徴とする方法
である。 以下これを詳しく説明する。 本発明の方法ではまず不活性有機溶媒中に金属
マグネシウムを添加し、これにメチルスチレンと
ハロゲン化水素水溶液との加熱反応によつて得ら
れたフエニルジメチルカルビニルハロゲナイドと
一般式R1 nR2 oSiX4-n-oで示されるケイ素化合物と
の混合物を添加し、反応させる。この場合の反応
は、上記のハロゲナイドと金属マグネシウムとか
らまずグリニヤール試薬が生成し、さらに直ちに
次式によつて進行する。 この反応に用いられるフエニルジメチルカルビ
ニルハロゲナイドは熱的に不安定で、蒸留すると
かなりの割合で脱ハロゲン化してメチルスチレン
にもどつてしまうため、メチルスチレンとハロゲ
ン化水素水溶液とを加熱反応させて得られたフエ
ニルジメチルカルビニルハロゲナイドは直ちに水
層から分離する必要がある。 またフエニルジメチルカルビニルハロゲナイド
のグリニヤール試薬は有機溶媒中で次式で示すよ
うな 副反応を生じて溶媒中で濃度が高くなるので、
これを防ぎ、また生成されたグリニヤール試薬が
リアクタントであるシラン化合物と直ちに反応で
きるようにしなければならない。 本発明の方法における最も重要なポイントは、
Mg−有機溶媒系にフエニルジメチルカルビニル
ハロゲナイドとケイ素化合物とを同時に添加反応
させることであり、これによつてはじめて収率よ
く工業的生産が可能となる。 また、一般に第三級炭化水素基のケイ素原子へ
の導入はアルキルリチウム試薬でのみ反応が容易
に進行し、ハロゲン−ケイ素結合を有する化合物
に対してはグリニヤール試薬では進行しないのが
普通である。例えば、前記のとおり四フツ化ケイ
素に対してイソプロピル基などがグリニヤール試
薬で導入できるが、この第三級炭化水素基ではな
いイソプロピル基などでさえも四塩化ケイ素ある
いはテトラエチルシリケートに対してはうまくい
かず、どうしてもリチウム化合物の助けをからな
ければならないとか、あるいは四塩化ケイ素に対
してはイソプロピル基が極めて低い収率でしか導
入されないという報告があり、第三級炭化水素基
の導入にいたつては、塩化t−ブチルマグネシウ
ムが四塩化ケイ素、四臭化ケイ素、四ヨウ化ケイ
素、テトラエチルシリケートなどに対して相当過
酷な条件下でも反応しないとされている。一方、
グリニヤール試薬の場合はリアクタントであるケ
イ素原子上の置換基としてH基をもつたケイ素化
合物のみ反応が容易に進行すると言われている
が、本発明に係るシランのフエニルジメチルカル
ビニル基は第三級炭化水素基であるにも係らずグ
リニヤール試薬で、これまで第三級炭化水素基、
例えばt−ブチル基、の導入が極めて困難とされ
ていたようなハロゲン−ケイ素結合を有する化合
物についても、容易にケイ素原子に導入できるこ
とが判明した。このことは誰もが予想しなかつた
画期的な効果である。 本発明の方法で使用される前記一般式R1 nR2 o
SiX4-n-oのケイ素化合物としてはジメチルジク
ロロシラン、メチルトリクロロシラン、ビニルメ
チルジクロロシラン、フエニルトリクロロシラ
ン、ジフエニルジクロロシラン、メチルトリメト
キシシラン、クロロメチルメチルジクロロシラン
などが例示される。 有機溶媒としてはジエチルエーテル、テトラハ
イドロフランなどのエーテル系溶剤、ベンゼン、
トルエンなどの炭化水素溶剤が例示されるが、こ
れらは2種以上の混合溶剤として使用してもよ
い。 前記反応は10〜150℃、好ましくは30〜100℃の
温度範囲で行なうのがよい。またこの反応系に酸
素が存在すると、反応段階でグリニヤール試薬が
酸素と反応し、収率低下の原因となるので、窒
素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で反応さ
せるのがよい。 (発明の効果) 本発明によれば(フエニルジメチルカルビニ
ル)シラン化合物を容易に高収率で得ることがで
き、この方法により提供された(フエニルジメチ
ルカルビニル)シラン化合物は、分子内に立体
障害の大きい、かさ高い置換基を有しているた
め、立体選択性が高く、アルコールとの反応に
より得られたシリルエーテル結合が化学的に安定
であることからステロイド、プロスタグランジン
などの医薬品合成に有用な特称シリル化剤とし
て、また、立体規則性をもつたポリオレフインの
重合触媒、添加剤などの用途に有用性をもつもの
である。 実施例 1 テトラハイドロフラン600mlおよび金属マグネ
シウム12g(0.5モル)からなる混合物中に、ジ
メチルジクロルシラン64.5g(0.5モル)および
フエニルジメチルカルビニルクロライド77.3g
(0.5モル)の混合液をN2気流下、内温を40〜50
℃に維持しながら撹拌下に滴下した。滴下終了後
内温を50℃に昇温してその温度で1時間撹拌を続
けた。こうして得た反応液をろ過し、ろ液を濃縮
し、減圧蒸留し、減圧度2mmHgで留出温度74℃
の留分をとつたところ、90.3gの油状物が得られ
た。これはSE−30の15%coat2m・パツクドカラ
ムによるガスクロマトグラフイーで調べたところ
単一成分であつた。こうして得られた(フエニル
ジメチルカルビニル)ジメチルクロルシランの質
量スペクトル(MS)、核磁気共鳴(NMR)およ
び赤外吸収(IR)を測定したところ、 次の結果が得られた。 MS:m/e(スペクトル強度比) *212(16)*197(3)177(3)135(3)119(100) 118(56)*93(34)91(43)79(8)78(8) 77(11)65(8)41(18)39(8) *印は塩素Cl37の同位体元素ピークをともな
う。 NMR:δ(ppm) (a)0.22(s),(b)1.40(s),(c)6.80〜7.20(m
) IR:(cm-1) 3050,2970,2875,1600,1500,1475,1370,
1260,1040,920,840,810,790,700 実施例 2 (フエニルジメチルカルビニル)ジメチルクロル
シラン21.25g(0.1モル)をシクロヘキサノール
10g(0.1モル)、N,N−ジメチルフオルムアミ
ド100mlおよびトリエチルアミン10.1gの混合溶
液中に室温で滴下して反応させたのち、反応混合
物をろ過、濃縮、減圧蒸留して、シリルエーテル
化合物(A): 26gを得た。同様にして、t−ブチルジメチルク
ロルシランでシクロヘキサノールをシリル化し
て、シリルエーテル化合物(B):
【式】を得た。
得られたシリルエーテル化合物(A)および(B)をそ
れぞれ1%conc HClaqを含有するエタノール溶
液に10%濃度となるように加えて室温で放置し
た。添加後10分経つた時点で、溶液中で分解消失
したシリルエーテル化合物の割合をGC分析によ
り調べたところ次の結果が得られた。
れぞれ1%conc HClaqを含有するエタノール溶
液に10%濃度となるように加えて室温で放置し
た。添加後10分経つた時点で、溶液中で分解消失
したシリルエーテル化合物の割合をGC分析によ
り調べたところ次の結果が得られた。
【表】
実施例 3
ジメチルクロルシランの代わりにメチルトリク
ロルシラン74.8g(0.5モル)を使用した他は実
施例1と同様に行なつたところ、沸点78℃/2mm
Hgの油状物86gが得られた。これはSE−30の15
%coat 2m・パツクドカラムによるガスクロマト
グラフイーで調べたところ単一成分であつた。こ
うして得られた(フエニルジメチルカルビニル)
メチルジクロルシランの質量スペクトル(MS)、
核磁気共鳴(NMR)および赤外吸収スペクトル
(IR)を測定したところ、次の結果が得られた。 MS:m/e(スペクトル強度比) *232(9)*217(0.5)*197(1)119(100)103(8) 91(41)79(8)78(8)77(9)65(4)*63(5) 51(5)41(8) *印は塩素Cl37の同位体元素ピークをともな
う。 NMR:δ(ppm) (a)0.54(s),(b)1.5(s),(c)6.90〜7.20(m) IR:(cm-1) 3050,2960,2870,1600,1500,1470,1450,
1370,1260,1135,1040,920,900,700, 実施例 4 ジメチルジクロルシランの代わりにフエニルメ
チルジクロルシラン95.5g(0.5モル)を、また
テトラハイドロフラン600mlの代わりにテトラハ
イドロフラン300mlおよびトルエン300mlの混合溶
剤を使用した他は実施例1と同様に行なつたとこ
ろ、沸点130℃/2mmHgの油状物96gが得られ
た。これはSe−30の15%coat2m・パツグドカラ
ムによるガスクロマトグラフイーで調べたところ
単一成分であつた。こうして得られた(フエニル
ジメチルカルビニル)フエニルメチルクロルシラ
ンの質量スペクトル(MS)、核磁気共鳴
(NMR)および赤外吸収スペクトル(IR)を測
定したところ、次の結果が得られた。 130℃/2mmHg MS:m/e(スペクトル強度比) *274(18)*155(100)119(36)118(51)103(6) 91(29)79(5)78(5)77(6)65(4)*63(10) 51(4)41(9) *印は塩素Cl37の同位体元素ピークをともな
う。 NMR:δ(ppm) (a)0.5(s),(b)1.4(w),(c)6.80〜7.05(m)(
d)
7.04〜7.30(m) J=6cps IR:(cm-1) 3050,2960,2870,1600,1500,1440,1370,
1260,1120,1040,920,700 実施例 5〜8 シラン化合物を種々代えた他は実施例4と同様
に行なつた結果を以下に示す。
ロルシラン74.8g(0.5モル)を使用した他は実
施例1と同様に行なつたところ、沸点78℃/2mm
Hgの油状物86gが得られた。これはSE−30の15
%coat 2m・パツクドカラムによるガスクロマト
グラフイーで調べたところ単一成分であつた。こ
うして得られた(フエニルジメチルカルビニル)
メチルジクロルシランの質量スペクトル(MS)、
核磁気共鳴(NMR)および赤外吸収スペクトル
(IR)を測定したところ、次の結果が得られた。 MS:m/e(スペクトル強度比) *232(9)*217(0.5)*197(1)119(100)103(8) 91(41)79(8)78(8)77(9)65(4)*63(5) 51(5)41(8) *印は塩素Cl37の同位体元素ピークをともな
う。 NMR:δ(ppm) (a)0.54(s),(b)1.5(s),(c)6.90〜7.20(m) IR:(cm-1) 3050,2960,2870,1600,1500,1470,1450,
1370,1260,1135,1040,920,900,700, 実施例 4 ジメチルジクロルシランの代わりにフエニルメ
チルジクロルシラン95.5g(0.5モル)を、また
テトラハイドロフラン600mlの代わりにテトラハ
イドロフラン300mlおよびトルエン300mlの混合溶
剤を使用した他は実施例1と同様に行なつたとこ
ろ、沸点130℃/2mmHgの油状物96gが得られ
た。これはSe−30の15%coat2m・パツグドカラ
ムによるガスクロマトグラフイーで調べたところ
単一成分であつた。こうして得られた(フエニル
ジメチルカルビニル)フエニルメチルクロルシラ
ンの質量スペクトル(MS)、核磁気共鳴
(NMR)および赤外吸収スペクトル(IR)を測
定したところ、次の結果が得られた。 130℃/2mmHg MS:m/e(スペクトル強度比) *274(18)*155(100)119(36)118(51)103(6) 91(29)79(5)78(5)77(6)65(4)*63(10) 51(4)41(9) *印は塩素Cl37の同位体元素ピークをともな
う。 NMR:δ(ppm) (a)0.5(s),(b)1.4(w),(c)6.80〜7.05(m)(
d)
7.04〜7.30(m) J=6cps IR:(cm-1) 3050,2960,2870,1600,1500,1440,1370,
1260,1120,1040,920,700 実施例 5〜8 シラン化合物を種々代えた他は実施例4と同様
に行なつた結果を以下に示す。
【表】
【表】
NMR:δ(ppm)
(a)1.50(s),(b)6.95〜6.75(m),(c)7.35〜7.0
5
(m)
5
(m)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中Yはハロゲン原子を表わす) で示されるフエニルジメチルカルビニルハロゲナ
イドと、 一般式 R1 nR2 oSiX4-n-o (式中、R1,R2はメチル基、エチル基などの
アルキル基、ビニル基、アリル基などのアルケニ
ル基、またはフエニル基、トリル基などのアリー
ル基、Xは塩素原子、またはメトキシ基、m,n
=0〜2、m+n≦2を表わす) で示されるケイ素化合物とをMg−有機溶媒系に
同時に添加して反応させることを特徴とする一般
式 (式中l=1〜2、m,n,R1,R2,Xは前記
に同じ) で示される(フエニルジメチルカルビニル)シラ
ン化合物の製造方法。
Priority Applications (4)
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|---|---|---|---|
| JP61208337A JPS6363683A (ja) | 1986-09-04 | 1986-09-04 | (フェニルジメチルカルビニル)シラン化合物の製造方法 |
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61208337A JPS6363683A (ja) | 1986-09-04 | 1986-09-04 | (フェニルジメチルカルビニル)シラン化合物の製造方法 |
Related Child Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP1135103A Division JPH0242088A (ja) | 1989-05-29 | 1989-05-29 | (フェニルジメチルカルビニル)シラン化合物 |
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| Publication Number | Publication Date |
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