JPH0375327A - Ni―Fe系高透磁率磁性合金 - Google Patents

Ni―Fe系高透磁率磁性合金

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JPH0375327A
JPH0375327A JP1256383A JP25638389A JPH0375327A JP H0375327 A JPH0375327 A JP H0375327A JP 1256383 A JP1256383 A JP 1256383A JP 25638389 A JP25638389 A JP 25638389A JP H0375327 A JPH0375327 A JP H0375327A
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Tadashi Inoue
正 井上
Masayuki Kinoshita
木下 正行
Tomoyoshi Okita
大北 智良
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Nippon Kokan Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「発明の目的」 (産業上の利用分野) 本発明は、Ni−Fe系高透磁率磁性合金に係り、その
磁気特性を改良し、特に直流での初透磁率の優れた該磁
性合金に関するものである。
(従来の技術) JIS PC相当のNi−Fe系磁性合金は、現在磁気
ヘンドケースおよび各種コア、変成磁心、各種磁気シー
ルド材などのようにその利用範囲が極めて広い磁性材料
である。即ちこのようなPCパーマロイは高透磁率で、
低保磁力であることが特徴であり、今日実用化されてい
るものは、80%Ni−5%Mo−Fe(スーパーマロ
イ)や、77%Ni−5%Cu −4%Mo−Fe (
N0% CLIパーマロイ)などであり、それら合金で
通常得られるi3磁率のレベルは、初透磁率(以下μi
という)が150,000 、最大透磁率(以下μmと
いう)が300.000程度である。
ところが昨今におけるエレクトロニクスの発達から各種
機器の小型高性能化が進み、上記したような磁性合金の
特性についてもより一層の向上が望まれている。即ちこ
のような要求に対して上記成分系の磁性合金における磁
気特性を不純物元素の低減およびCrの添加により向上
させた特開昭62227053および特開昭62−22
7054が開発されている。
又特開昭63−149361では上記成分系の合金に製
造時の熱間加工性を改善するためBを添加した材料にお
いて、磁性焼鈍時に脱Bを行い磁性特性を改善すること
が発表されている。
一方、上記成分系ではNiが約80w t%程度含まれ
ていて高価なため、成分系を根本的に見直し、Niを低
減し、代りにNiより安価なCu、Mnを添加して高い
初透磁率を達成した特公昭62−13420、更にはこ
の特公昭62−13420の技術に加えて適量のAl添
加を行い酸化物系介在物を減少し磁気特性を高めるとい
う特開昭63−247336および特開昭63−247
339の技術も開発されている。特にこれら特開昭63
−247336および特開昭63−247339の提案
による合金のμiは最高で426,000という高いレ
ベルである。
上述のような磁気特性向上の要望に加え、最近では所要
の特性をより低コストで製造することも求められており
、この観点からは、特開平1100232の技術も提案
されている。すなわち、この技術は通常のMoスス−−
マロイにSiを1〜4 wt、!添加し、磁気焼鈍温度
を約1030℃以下というような比較的低い温度によっ
ても充分に満足する透磁率を得ることを特徴としている
(発明が解決しようとする課題) 前記した特開昭62−227053および同22705
4で特徴としている不純物低減、Cr添加によっても最
終の水素雰囲気での熱処理(1100℃×3時間)後の
直tJL磁気特性は、例えばμiで高々ioo、ooo
であり、それ以上の磁気特性が要求される用途に対して
は不適とならざるを得ない。
また特開昭62−227054の提案では、通常のNi
Fe −Mo系またはNi−Fe−Mo−Cu系の成分
に新たにCrを添加するためコスト高となる。一方特開
昭62227053の提案ではこのCr添加によりコス
ト高に加え、Mnを通常レベルより高くする(1.2〜
1〇−1%とする)ため熱間加工性が極めて悪くなると
いう製造上の問題も有している。
なお上記した2つの提案では何れもBの添加が行われて
いるが、この場合のB添加は熱間加工性および打抜き性
を改善するためのもので、これらの提案で意図するBの
添加だけでは磁気特性の明かな向上は見られず、逆に劣
化するケースも認められる。
更に、特開昭63−149361では磁気特性を脱B処
理により改善するものであるが、この処理の後で得られ
る磁気特性はμiで高々75,000であり、このレベ
ルは通常のNi−Fe−Mo−Cu系合金で得られるレ
ベルである。従ってこの技術ではそれ以上の磁気特性が
要求される用途に対しては不適とならざるを得ない。
一方特公昭62−13420、特開昭63−24733
6および同247339の技術によっては高μiのパー
マロイを提供し得るが、Mns Cuを高めるため製造
時の熱間加工性が本質的に低くなるという製造上の問題
点を有している。又この提案で得られる合金の飽和磁束
密度は、例えばB+o(10エルステソドでの磁束密度
)で見ると、高々5000ガウスであり、スーパーマロ
イやMo、 CuパーマロイにおけるB、。の7000
〜8000ガウスに比較すると低い。このことは、この
合金がスーパーマロイやMO% Cuパーマロイに比し
低い外部磁場で材料内の磁束が飽和してしまうことを意
味し、シールド材料として用いる場合は外部磁場が比較
的高い場所での使用は不適とならざるを得ない。
また、特開平1−100232の技術では、Stを多く
添加するため、加工性が劣化し、製造性が悪くなるとい
う問題を有している。また、この技術では5011zの
シールド性能は、所要のレベルを有してはいるが、直流
でのシールド性能がやや劣るという欠点を有していた。
「発明の構成」 (課題を解決するための手段) 本発明は上記したような従来のものにおける問照点を解
決するように検討を重ねて創案されたものであって、直
流及び低周波域での透磁率などの磁気特性及びシールド
性能を本質的に向上せしめ、さらには、従来と同じレベ
ルの要求特性を得るのに磁気焼鈍を従来よりも100℃
程度低温化することも可能とすることを目的として、磁
気特性に対するNi、 Mo、 Cu、 Feなとの主
要成分による影響を更に検討し、そこで得られた特性と
成分の関係をB添加系にまで拡大して実験、研究を行っ
た結果、本発明を完成した。即ち本発明は以下の如くで
ある。
(1)  Ni : 77.5〜79.5wt%、Mo
 : 0.1〜1.10wt%、Cu : 1.8〜2
.5 wt%、Mn : 0.010wt%、P : 
0.010 wt%以下、S : 0.0020wt%
以下、0 : 0.0030wt%以下、N : 0.
0010匈t%以下、C: 0.020 wt%以下 を含有し、かつBを、 4 の範囲内で含有し、残部は基本的にPeからなり、しか
もNi、 Mo、 Cu、 Mn、 Feが、(但し〔
〕内は−t%) を満たす範囲でそれぞれ含有されたことを特徴とするN
i−Fe系高透磁率磁性合金。
(2)前項に記載の成分組成を有し、かつ磁気焼鈍後で
オーステナイト粒界およびその近傍でのB量が10〜5
0atm%であることを特徴とするNi−Fe系高透磁
率磁性合金。
(作用) 本発明によるものは、不純物元素の適正制御のもとで、
Ni、 Mo、 Cu、 Mn、 FeおよびBの各添
加量を適正化し、かつ基量の成分バランスを特定範囲内
に制御することにより従来の同系統によるMO1Cuパ
ーマロイやスーパーマロイで見られなかった高い透磁率
及びシールド性を遠戚し、かつ従来と同じレベルの要求
特性を得るのに磁気焼鈍温度を従来よりも100℃程度
低温化することも可能とするものである。
即ち、先ず本発明で意図する磁気特性の向上は合金中不
純物レベルの制御のもとで遠戚され、P。
S、O,N、Cの限度理由は−t%(以下単に%という
)で以下の如くである。
Pは、本発明の対象とする高Ni−Fe合金の熱間加工
性に有害であり、かつ最終の素焼鈍時における立方体集
合組織の形成傾向を弱める元素であって、このPが0.
010Xを越えると透磁率が劣化し、又熱間加工性も悪
くなるため、上限を0.010%とした。なお下限は溶
製上の経済性から好ましくは0.0010%である。
Sは、熱間加工性に有害であり、かつ硫化物の形成を通
じて最終の水素焼鈍時における粒成長を阻害し、焼鈍後
の粒径が小さくなるため透磁率が向上しないという理由
から磁気特性に対しては極めて有害な元素である。この
B量が0.0020%を超えると、以下に示すようなN
i、 Mo、 Cu、 Fe、  B量の適正化を計っ
ても本発明で目的とするような磁気特性の向上が計れず
、又熱間加工性が著しく悪くなるため0.0020%を
上限とすることが必要である。なお磁気特性向上のため
には0.0005%以下がより望ましい。
Oは、本発明で対象とする合金の中では酸化物系介在物
として存在し、その量が多いと最終の水素焼鈍時におけ
る粒成長を阻害し、焼鈍後の粒径が小さいため透磁率が
向上しないことから磁気特性に対し極めて有害な元素で
ある。即ちこの0量が0.0030%を超えると上記同
様にNi、 Mo、 Cu、 Pe。
Biの適正化を図っても本発明で意図する磁気特性向上
が計れないため0.0030%を上限と定めた。
なお、磁気特性向上のためには0.0010%以下がよ
り好ましい。
Nは、B添加を基本とした合金においては、Bと容易に
結合しBNを形成するため有効B量が低下する。また形
成されたBNにより磁気特性が著しく劣化せしめられる
などの理由より合金中に多く含有されると悪影響を及ぼ
す。即ちこのNが0.0010%を越えると上記のよう
な理由から磁気特性劣化が著しくなるのでo、ooio
%を上限とした。
なお、磁気特性向上のためには0.0005%以下がよ
り好ましい。
Cは、本発明の対象合金の中では侵入型元素として存在
し、その量が多いと透磁率が低下するので磁気特性に対
して有害な元素であり、0.020%を越えるとこのよ
うな理由により磁気特性劣化が著しくなるため、0.0
20%を上限と定めた。
さて、本発明では上記のような不純物元素の制御下にお
いて、Ni、 Mo、 Cu、 FeおよびBの各添加
量を適正化し、又多量の成分バランスを特定範囲内とし
て始めてその目的が達威され、これらについては以下の
如くである。
Niは、77.5〜79.5%の範囲では本発明の意図
するような高い磁気特性及び高いシールド特性を得しめ
る。このNiが77.5%未満または79.5%を越え
ると何れの場合においても透磁率が低下するので77.
5%を下限とし、79.5%を上限とした。
Moは、0.1〜1.10%の範囲内のときに本発明の
目的とする高い磁気特性及び高いシールド特性を達成し
得る。即ちMoが3.8%未満または4.6%を越える
と透磁率向上が達成されないので、0.1〜1.10%
とすることが必要である。
Cuは、本発明の規定内にある合金において、後述する
Bの共存のもとて直流磁気特性を飛躍的に向上させ、か
つ、交流の実効透磁率も向上させ、かつ交流(50Hz
)での角型性(Br/B+w)も向上させる効果を有す
る。このようなCuの効果はNi77.5〜79.5%
、 Mo: 0.1〜1.10%の時あられれ、最適の
Cu量は、1.8〜2.5%である。なお、Cuが1.
8%未満ではこのようなCuによる特性向上が計れず、
一方Cuが2.5%を超えると逆に特性が劣化するため
、Cuの範囲は1.8〜2.5%と定めた。
Mnは、上記したMO% Cuと同様に本発明対象合金
の磁性に影響を及ぼす元素であり、このMnが1.10
%以下でも本発明で目的とする高透磁率を達威し得るが
、1.10%を超えると斯うした透磁率向上が達成され
ないので1.10%を上限とする。一方Mnが0.10
%未満では熱間加工性が劣化し、好ましくないので0.
10%を下限とした。
ためには必唄の7c索である。[[J −−[N)(〔
B〕、(N)はそれぞれB、Nの合金中添加量、%)が
、o、ooos〜0.0070%の範囲では本発明の目
的を有効に達威し得るが、o、ooos%未満では透磁
率が向上せず、一方0.0070%を超えると透磁4 ぞれ0.0005%、0.0070%と定めた。
次に、上記した各成分の添加量の適正化のもとでNi、
 Mo、 Cu、 FeおよびBの成分バランスの適正
化を図ることが本発明で意図する特性向上のためには必
要で、第1図から第4図はそれぞれこれらの成分バラン
スを規定するパラメータ(このパラメータをXとし、 とする)を横軸、B添加量を縦軸とした場合の各供試材
で得られる初透磁率、遮蔽度、l kHzでの実効透磁
率、50Hzでの角型性を示しているが、この第1図中
の供試材はすべてNi、 Mo、 Cu、 Mn、  
B。
P、S、O,N、C量が本発明範囲内のものであって、
熱間加工後、冷延、焼鈍を繰返して作成した板厚0.5
Nの薄板サンプルより外径45tm、内径33關のJI
Sリングを打抜いて試料とし、それらをパラジウム膜i
3遇させ精製した高純度水素気流中雰囲気下で、■10
0℃×3時間の熱処理を行い、1ioo℃から650℃
までの間を100℃/hrで冷却し、その後は炉冷した
ものである。遮蔽度は上記と同じ製造履歴を経た、板厚
0.5s+m、直径50+l1m、長さ200mmの円
筒にヘルムホルツコイルにて外部磁場(Ho)、500
ξリガウスを円筒の軸方向に対して直角方向にかけた場
合の円筒内側中央部での内部磁場Hlを測定することに
より求めた。図中の数字(遮蔽度)はHa/H+の値で
ある。なお、測定に際しては、地磁気の影響が十分無視
できるレベルまで磁気シールドしたボックス内にて行っ
た。
(K” )zの実効透磁率は上記と同じ磁気焼鈍を経た
板厚0.35mmのリングサンプルを用い、5ミリエル
ステツドでのインダクタンス透磁率を測定することによ
り求め、50H2での角型性は実効透磁率を測定したの
と同じリングサンプルを用いて、磁場0.1エルステツ
ドでのBrとBmの比から求めた。
内で初透磁率Niが350,000以上と高い値を示し
ているのに対し、Xが3.3未満または3.8を超える
場合ではNiが200,000未満と低いレベルにあ4 は逆にμjは低下している。また第2図より遮蔽度も本
発明範囲にて300以上の高い値を示し、本発明範囲以
外の材料での遮蔽度より高い値を示している。
第3図は実効透磁率についてのものであるが、本発明範
囲にて6500以上と高い値を示し、本発明以外の材料
より高い値を示している。又第4図は50Hzでの角型
性においても本発明範囲にて0.90以上と高い値を示
し、本発明以外の材料より高い値を示している。これら
のことより本発明では高いNi及び高い遮蔽度、高い実
効透磁率、高い角型性が得られる成分バランスとしてN
i、 Mo、 Cu、 Mn。
Bを上記のような本発明範囲とし、しかもパラメータX
を3.3〜3.8の範囲内と規定した。
ところで本発明者等は上記のような本発明合金を用いて
磁気特性を更に高めるための検討を重ねた結果、最終の
磁性を高めるための熱処理後で合金のオーステナイト結
晶粒界およびその近傍でのB量が特定範囲のときに初透
磁率Ni及び遮蔽度が更に向上する事実を確認した。即
ち第5図(al〜+d)は本発明成分範囲の合金(後述
する実施例1の発明合金3)の Niとオーステナイト
粒界およびその近傍でのB量の関係を示すもので、Ni
は上記合金と熱間加工後、冷延、焼鈍を繰返して作製し
た板厚0.5 n+の薄板サンプルより外径45tm、
内径33mのJISリングを打抜き、これを試料として
パラジウム膜を透過させ精製した高純度水素気流中雰囲
気下で1100℃で3時間の熱処理を行い、1100℃
から650℃までの間を50〜b囲内における一定冷却
速度で冷却し、その後は炉冷したサンプルによりNiを
測定した結果をオーステナイト粒界およびその近傍での
Blとの関係で整理して示す。即ちオーステナイト粒界
およびその近傍でのB量はNiを測定した薄板サンプル
と同し熱加工履歴を経たサンプルよりオージェ観察用ス
テージに取付は可能なノツチ入り試験片を切出しカソー
ド電解法により電解水素を添加し、粒界脆化処理を施し
て粒界破壊を真空中で行い、顕われた粒界破面の成分分
析をオージェ分光法により異る10点について実施し、
平均したものを求めたもので、単位はatm%である。
遮蔽度は上記と同じ製造履歴を経た板厚0.5 n+、
直径50問、長さ200mmの円筒にヘルムホルツコイ
ルにて外部磁場(Ho)、500ミリガウスを円筒軸方
向にかけた場合の円筒内側中央部での内部磁場HIを測
定することにり求めた。遮蔽度(=H,/H1)の測定
に際しては、地磁気の影響が十分無視できるレベルまで
磁気シールドしたボックス内にて行った。I KHzの
実効透磁率は上記と同じ磁気焼鈍を経た板厚0.35w
のリングサンプルを用い、5ミリエルステツドでのイン
ダクタンス透磁率を測定することにより求め、50Hz
での角型性は実効透磁率を測定したと同じリングサンプ
ルを用いて磁場0.1エルステツドでのBrとBmの比
から求めた。
第5図(a)のNiは、オーステナイト粒界およびその
近傍でのB量が10〜50a tmXの範囲内で向上し
ていることは明かであり、特に15〜40a tmXの
範囲内では480.000以上である。このようなNi
の向上原因は明かでないが、粒界およびその近傍で適量
のBが存在することにより粒界部分の性状を変え、この
変化が磁気特性、特に初透磁率といった磁壁の移動のし
やすさ、又は回転磁化のしやすさが求められる特性値に
対して良い影響を与えているものと推察される。このよ
うな結果から本発明成分範囲の合金で、より高いNi及
び高い遮蔽度と比較的高い実効透磁率、比較的高い角型
性を合わせ持つ条件として磁気焼鈍後のオーステナイト
粒界およびその近傍でのBtを10〜50a tmXと
することを定めた。
なお本発明で対象とするNi−Fe合金では、熱間加工
性が劣っている。この加工性を改良する方法としては微
量のB添加とLitのCa添加を組合わせることがしば
しば行われるが、斯うした微量Ca添加を行っても上述
したような本発明の構成要件を満せば本発明の目的とす
る初透磁率の向上は達成される。又本発明においては上
記したような成分組成の他、鉄合金とする場合に不可避
的に含まれるSi、^iについても、詳しく言及しない
が、例えばSi:0.3%以下、A/:0.03%以下
の範囲内での含有が許容される。
(実施例) 本発明によるものの具体的な実施例について説明すると
、以下の如くである。
実施例】。
次の第1表に示すような化学成分を有する高NiFe合
金の本発明合金および比較合金を真空溶解にて溶製し、
これを熱間加工、脱スケールを施し、冷延素材を準備し
た。Si含有量はいずれの供試材でも0.05〜0.1
5%範囲内である。又これらの素材は次いで冷延加工、
焼鈍して0.5 amの薄板サンプルとし、これらより
外径が45mmで内径33nのJISリングを打抜き試
料とした。又磁気特性をこれらの試料について、パラジ
ウム膜を透過させ精製した高純度水素気流中雰囲気下に
おいて1100℃で3時間の熱処理を行い、1100℃
〜650℃の間は400”C/hrにて冷却し、その後
は炉冷させて測定し、μiを0.005エルステソドで
の透磁率として求めた結果及び遮蔽度、実効透磁率、5
0Hzでの角型性、保磁力、磁束密度の結果を併せて第
1表に示した。
遮蔽度は上記と同じ製造履歴を経た板厚0.5關、直径
som、長さ200 w*の円筒にヘルムホルツコイル
にて外部磁場(Ho)、500ミリガウスを円筒の軸方
向に対して直角方向にかけた場合の円筒内側中央部での
内部磁場H8を測定することにより求めた。遮蔽度(−
HO/Hl )  の測定に際しては、地磁気の影響が
十分無視できるレヘルまで磁気シールドしたボックス内
にて行った。
l kHzの実効透磁率は上記と同じ磁気焼鈍を経た板
厚0.35mmのリングサンプルを用い、5ミリエルス
テツドでのインダクタンス透磁率を測定することにより
求め、5Hzでの角型性は実効透磁率を測定したと同じ
サンプルリングを用いて磁場0.1エルステソドでのB
rとBmの比から求めた。
なお、磁束密度及び保磁力は、初透磁率を求めたと同し
サンプルリングにて測定した。磁束密度はBIOo。は
100OA/mの外部磁界を加えた時の磁束密度であり
、保磁力は1000A#+の外部磁場を加え次に反転し
、磁束密度をOとする磁界の強さである。
即ち合金階1と隘2の各村は、c、p、s、 ○。
N、  B、 Ni、門o、 CuおよびMn量が何れ
も本発明成分範囲内のもので、μiは350 、000
以上と高い透磁率を示しており、遮蔽度も約300以上
と高い値を示している。又、実効透磁率、50Hzでの
角型性、保磁力も比較例に比べて優れたレベルとなって
いる。
又、合金Nn3と隘4はC,P、  S、 O,N、 
B。
Ni、 Mo、 CuおよびMn1lが本発明範囲内の
合金であって、かつ熱間加工性の向上を意図して微量の
Ca添加を行った合金であるが、この場合においても各
特性値は上記した合金阻1および阻2と略同じレベルに
ある。即ちこのように1iica添加が行われた合金に
おいても本発明の効果は十分に発揮されることが確認さ
れた。
また、合金Nn5材ではC,S、 O,Nがより好まし
いレベルまで低減されており、各特性値は狙1−414
の各村よりさらに高くなっている。
これに対し、合金IVk16および阻7の各村はNi量
がそれぞれ上限を越え、あるいは下限未満のものであり
、又合金ぬ8および狙9の各村はM4が上限を越えたも
の、あるいは下限未満のものであって、合金ll&11
0および阻11はCu量がそれぞれ上限を越え、あるい
は下限未満のものである。更に合金1m12はMn量が
上限を越えたものであり、代13はそれぞれが下限未満
のものであり、合金IVkl14とIh15のものはそ
れぞれBiが上限を越え、あるいは下限未満のものであ
って、更に合金11h16〜m20の各村はそれぞれC
,P、S、O,Nの何れかが本発明成分範囲を超えるも
の、又合金11h2L l1h22はそれぞれパラメー
タXが本発明で規定した上限を超えるものと、下限未満
のものであるが、これらの供試付磁6〜11&121は
1t13以外が何れも本発明に比べて低いレベルにある
。なお合金胞13はMnlが本発明で規定した下限未満
であることは上記の如くで、各特性値レベルは本発明と
同じレベルで高い値を示しているが、サンプル作製時の
熱間加工性は著しく悪いものであった。
即ち本発明によるものは、C,P、S、O,Nの不純物
元素低減のもとで、Ni、 Mo、 Cu、 Mn、 
 B。
Feをそれらの単独量およびバランスが厳密に規定され
た範囲とすることにより優れた初透磁率、遮断度、実効
透磁率、50 Hzでの角型性、保磁力を初めて達成す
ることができる。なお本発明において所要の特性を得る
ためには熱処理に使用するガスは、この実施例で示した
ような高純度のH2ガスで可能であるが、同様な特性は
JISに規定されているような通常のH2雰囲気、すな
わち露点40°C以下の11□ガス気流中で熱処理を行
うことによっても得られる。
実施例2゜ 前記した実施例1の本発明合金ml−11h4について
冷延、焼鈍を経た0、5mmの薄板サンプルより外径4
5目、内径33mmのJISリングを打抜きによって作
製し、試料とした。またオージェ観察用ステージに取付
は可能なノツチ入り試験片も同様のサンプルより切出し
た。
上記のようにして得られたサンプルは、次の第2表に示
すような種々の雰囲気下で、1100℃×3時間の熱処
理を行い、1100℃〜650℃の間をそれぞれに異っ
た冷却速度で冷却し、その後は炉冷したサンプルにより
磁気特性及び遮蔽度を測定した。
またオーステナイト粒界およびその近傍でのBiは、上
記熱処理の後に、カソード電解法により電解水素を添加
して粒界脆化処理を施し、粒界破壊を真空中で行い、顕
われた粒界破面の成分分析をオージェ分光法により異る
10点について行い平均して求めた。これら結果は第2
表に併せて示す如くである。
即ち本発明合金1klを用いたものにおいて供試材11
hl〜4は、そのオーステナイト粒界およびその近傍で
のB量が本発明規定内であり、μi及び遮蔽度はオース
テナイト粒界およびその近傍でのB量が本発明規定外の
供試材11h6のものより高くなっている。又本発明合
金ぬ2を用いた場合では、供試材11m24の各村にお
けるオーステナイト粒界およびその近傍でのB量は本発
明規定内であり、そのμi・及び遮蔽度はオーステナイ
ト粒界およびその近傍でのB量が本発明の規定外である
供試材N7、旭12の各村のものより高くなっている。
本発明合金Il&13を用いたものでは、供試材Na1
4〜11h16の各村におけるオーステナイト粒界およ
びその近傍でのB量は本発明規定内であって、そのμi
及び遮蔽度はオーステナイト粒界およびその近傍のBl
が本発明規定外の供試材11h13および魚18のもの
より高くなっている。
更に本発明合金11h4を用いた場合にあっては、供試
材m19.20.22および23の各村におけるオース
テナイト粒界およびその近傍でのBilは本発明規定内
であり、それらのμi及び遮蔽度はそれが規定外である
供試材11m24のものより高くなっている。なお、オ
ーステナイト粒界及びその近傍でのBilが本発明規定
内の供試材弘1−N14.N18〜馳11. N114
〜N116. 弘19. 阻20. 弘22. Na2
3では優れた初透磁率及び遮蔽度を有し且つ比較的高い
実効透磁率及び50Hzでの角型性をも合わせ持ってい
る。
また、供試材1m2.磁14. N115.患18. 
Na19ではより高い初透磁率を有しており、これらの
材料ではより近い保磁力を有している。
なお、第2表における供試材11m5.17および21
の各村は1100℃X3hrの雰囲気保持中におけるH
8の露点が一40℃より高い場合であり、このような条
件で熱処理されたサンプルのμiは200.000程度
と明かに低く遮蔽度も100前後と他の発明例に比べて
低い。即ち本発明の効果はJISで規定されている露点
−40℃以下のH2で熱処理を行うことにより適切に発
揮される。またI X 10−’Torrというような
高真空下の熱処理でも本発明の効果は発揮し得る。
(実施例3〉 前記した実施例1の本発明規定外4及び表3に示すよう
な成分を有する比較合金弘23について実施例2と同様
の製作条件にてサンプルを作威しそれぞれ、表4に示す
ような磁気焼鈍条件にて熱処理を行い、磁気特性及び遮
蔽度を実施例2と同様の方法にて行った。結果を表4に
示す。
なお、この比較合金ヌ23は、Ni、 Cuが本発明規
定外であり、その他の成分は本発明規定内のものである
発明合金恥4を用いて、1000℃×1時間の磁気焼鈍
後で得られる磁気性質とほぼ同じレベルかやや高い値を
示している。即ち、本発明によれば、比較合金と同じ特
性を得るのに磁気焼鈍温度を約100℃低温化すること
が出来ることがわかる。
本発明は、実施例の製造方法のみでなく、溶解・溶製し
、薄鋳板に鋳造し、鋳造のまま又は熱間加工後および又
は脱スケールし、冷延加工、焼鈍しても良い。
熱間加工に代えて又は冷延加工の高能率化のために温間
加工を施しても良い。
但し表面性状、板厚形状、寸法精度が要求される場合は
、最終溶製の前に冷延加工を施した方が良い。
更に、1回の冷延加工に代えて冷延加工、再結晶焼鈍(
例えば800℃以上)、冷延加工を繰りかえしても良い
以上のような製造方法であっても、本発明の範囲内であ
ればほぼ同等のものが得られる。
「発明の効果」 以上説明したような本発明によるときは、Ni −Fe
系の高透磁率磁性合金における磁気特性を適切に改善し
、特に直流及び低周波域での透磁率などの磁気特性、及
びシールド性能が従来のPCパーマロイの如きに比し飛
躍的に優れた高透磁率磁性合金を提供せしめ、従来にお
けるより更にシールド特性の要求される各種磁器シール
ド材や磁気ヘッドケース、コア、さらには磁気増幅器、
パルス変圧器などの非線形応用に用いる材料類などに広
く採用せしめ得、さらには従来と同じレベルの要求特性
を得るのに磁気焼鈍温度を従来よりも100℃程度低減
化することも可能とし、かつ歪みによる特性劣化も小さ
く、シールドルームのような構造部品とした際でも所要
の磁気特性を発揮することができ、近時におけるエレク
トロニクス産業の要請に対して適切に即応し得るもので
あるから工業的にその効果の大きい発明である。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の技術的内容を示すものであって、第1図
は初透磁率μiとパラメータX、4 第3図は交流の実効透磁率とパラメータX、第1図 4 第5図は初透磁率μ、とオーステナイト粒界およびその
近傍でのBtの関係を示した図表である。 パラメータX 第2図 第5図 (a+ 0 0 040 060 0 0 0 オーステナイト粒界およびその近傍でのBl(a−υ第
3図 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0  10  20  30  40  50 60 
 70  80  90オ一ステナイト粒界およζ〈そ
の近傍でのBl(a山υ第4図 平底 1年12月15日 繍庁長官吉田文毅殿 1、事件の表示 平成1年特許願題256383号 3゜ 4゜ 補正をする者 羽生との関係 住所 名  称 代 理 人

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、Ni:77.5〜79.5wt%、Mo:3.8〜
    4.6wt%Cu:1.8〜2.5wt%、Mn:0.
    1〜1.10wt%、P:0.010wt%以下、S:
    0.0020wt%以下、O:0.0030wt%以下
    、N:0.0010wt%以下、C:0.020wt%
    以下 を含有し、かつBを、 0.0005wt%≦〔B〕−10.8/14〔N〕≦
    0.0070wt%の範囲内で含有し、残部は基本的に
    Feからなり、しかもNi、Mo、Cu、Mn、Feが
    、 3.3≦(2.02×〔Ni〕−11.13×〔Mo〕
    −1.25×〔Cu〕−5.03×〔Mn〕)/2.1
    3×〔Fe〕≦3.8(但し〔 〕内はwt%) を満たす範囲でそれぞれ含有されたことを特徴とするN
    i−Fe系高透磁率磁性合金。 2、請求項1に記載の成分組成を有し、かつ磁気焼鈍後
    でオーステナイト粒界およびその近傍でのB量が10〜
    50atm%であることを特徴とするNi−Fe系高透
    磁率磁性合金。
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