JPH01263218A - Fe−Ni系高透磁率合金およびその製造方法 - Google Patents

Fe−Ni系高透磁率合金およびその製造方法

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JPH01263218A
JPH01263218A JP9159988A JP9159988A JPH01263218A JP H01263218 A JPH01263218 A JP H01263218A JP 9159988 A JP9159988 A JP 9159988A JP 9159988 A JP9159988 A JP 9159988A JP H01263218 A JPH01263218 A JP H01263218A
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正 井上
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    • C21D6/00Heat treatment of ferrous alloys
    • C21D6/001Heat treatment of ferrous alloys containing Ni

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「発明の目的」 本発明はNi −Fe系高透磁率合金の製造方法に係り
、直流磁気特性の優れたNi−Fe系超高透磁率合金を
適切に製造することのできる方法を提供しようとするも
のである。
(産業上の利用分野) Ni−Fe系高透磁率合金の磁気特性を改善するための
製造方法。
(従来の技術) パーマロイは1量によって得られる磁気性質が変化する
。すなわち、JIS PC相当のパーマロイはNiを約
78%含み、透磁率が極めて高く、優れた材料であるが
、飽和磁束密度が低く、また高価であるという欠点を有
している。これに対してJISPB相当のパーマロイは
Niを約45%含み、上記のPCパーマロイに比べて飽
和磁束密度が2倍はど高く、かつ低価格であるが透磁率
は低い。このようにPCパーマロイとPBパーマロイで
はそれぞれ長所はあるが、短所も有していた。
しかるに、昨今のエレクトロニクスの発達から、各種機
器の小型高性能化が進行し、上記のPB、 PCパーマ
ロイの欠点を補い合うような、高透磁率、高飽和磁束密
度かつ低価格の材料が望まれている。
このような要求に対して、PSパーマロイでの透Iff
率の向上を意図した特開昭62−142749及び特開
昭62−227065の如き提案がなされている。即ち
、前者の特開昭61−142749ではO,Sの低減、
後者の特開昭62−227065では、P、Sの低減に
加え、Moの添加をそれぞれ行なうことにより磁気特性
の向上を図ろうとしている。
(発明が解決しようとする課題) 上記した特開昭62−227065の技術で特徴として
いる不純物元素の低減、Moの添加によっても最終の水
素雰囲気での熱処理(1100°C×3時間)後の初透
磁率は高々6,000である。−方、特開昭62−14
2749で特徴としている不純物元素の低減によっても
最終の水素雰囲気での熱処理(1100℃×1時間)後
の最大透磁率はせいぜい150,000である。即ちこ
のような透磁率を越えたレベルの磁気特性が要求された
場合においてはこれら2つの提案は不適とならざるを得
なかった。このようにPBSパーマロイ透磁率が不十分
な場合には、PCパーマロイの極めて高い透磁率は必要
ないにしても、やむを得ずPCパーマロイを使用するこ
とが必要で、コスト高になる。
なお、上記した、前者のものでは、Bの添加が行なわれ
ているが、この場合のBの添加は熱間加工性及び打抜き
性を改善するために行なうものであり、この発明で意図
するBの添加だけでは磁気特性の明らかな向上はみられ
ず、逆に劣化する場合も見られる。
「発明の構成」 (課題を解決するための手段) 本発明は上記したような従来のものの問題点を解決する
ように検討して創案されたものであって、その要旨とす
るところは、 Ni:43.O〜48.0智L%、  C: 0.01
0 wt%以下、S : 0.0005〜0.002 
wt%、 P : 0.006 wt%以下、0 : 
0.003wt%以下、  N : 0.0015wt
%以下、であって、かつ、 B : 0.0015〜0.0050wt%を含有し、
残部は基本的にFeからなるFe−Ni合金である薄鋼
帯の製造に際して前記合金の熱間加工後の冷延を中間焼
鈍をはさみ2回行い、かつ1回目の冷延での圧下率を5
0〜98%、2回目の冷延での圧下率を75〜98%、
中間焼鈍を730〜900°Cでそれぞれ行うことを特
徴とるすNi −Fe系高透磁率合金の製造方法である
(作用) 本発明で対象とするPB級パーマロイであって、4%(
以下単に%という)で、Niが43.0〜48.0%の
範囲ではPBSパーマロイ所要の透磁率、飽和磁束密度
を有している。Niが43.0%未満では透磁率が低く
なり、一方48.0%を越えると飽和磁束密度が低くな
るので43.0〜48.0%と定めた。
ところで本発明者等は、PBSパーマロイ磁気特性を向
上すべく数々の実験を重ねたところ、C2S、P、O,
Nの容量を制御し、かつBを微量添加した合金がある特
定の冷延、焼鈍条件を経たときに磁気特性が飛躍的に向
上することを見出した。
即ちこれらの成分についての規定理由は以下の如くであ
る。
Cは、0.01%を越えると、熱間加工性が劣化し、か
つ磁気特性も劣化するので0.010%を上限とした。
なお下限は特に定めないが溶製時の経済性から好ましく
は0.0010%である。
Pは、本発明で対象とするFe −Ni合金に有害であ
り、又最終の水素焼鈍時の立方体集合組織の形成傾向を
弱める元素である。このPが0.006%を越えると立
方体集合組織が弱まって高い透磁率が得られず、又熱間
加工性が悪くなるためその上限を0.006%とした。
なお下限については溶製時の経済性から0.001%と
した。
Sは、熱間加工性に有害であり、かつ硫化物の形成を通
じて最終の水素焼鈍時における粒成長を阻害し、焼鈍後
の粒径が小さいため保磁力が大きくなったり、磁化物に
より磁区が移動しにくくなるため透磁率が低くなり、磁
気特性に対しても極めて有害な元素である。このS量が
0.0020%を越えると、以下に示すようなり添加お
よび特定の冷延、焼鈍条件採用によっても本発明で意図
する磁気特性の飛躍的改善を計ることができず、熱間加
工性も著しく悪くなるためO,OO20%を上限とした
。なお下限は溶製時の経済性から0.0005%とした
Bは、その適量添加のもとて熱間加工性の改善効果があ
り、かつ、固溶状態で、本発明の対象とする合金の集合
組織を、磁気特性に有利な方向に変える働きがある。こ
のB量が0.0015%未満では本発明で意図する磁気
特性の向上が図れず、一方0.0050%を越えると、
Bの金属間加工物が形成され磁気特性が劣化するため、
0.0015%を下限、0.0050%を上限と定めた
Nは、B添加を基本とした合金においては、Bと容易に
結合し、BNを形成するため、有効B量が低下する。ま
た形成されたBNにより磁気特性が著しく劣化するなど
の理由より、合金中に多く・含まれる時、著しい悪影響
を及ぼす。即ちこのNが0.0015%を越えると上記
の理由により、磁気特性の劣化が著しくなるので、Nの
上限は0.0015%と定めた。
さて、本発明で意図する高い磁気特性を有するFe−N
i合金はこれまで述べたC、S、P、0.Nといった不
純物元素の低減及び微量Bの添加といった成分的配慮の
みでは達成されず、熱間加工後の冷延、焼鈍条件の適正
化がなされた時はじめて製造し得る。
第1図には、後述する第1表のN11l材(本発明合金
)の熱延板を用いて、数々の冷延条件にて作製した板厚
0.2 inの薄板サンプルより外径45龍。
内径33龍のJIS リングに打抜いて、試料とし、そ
れらを水素雰囲気中で1100℃×1時間の熱処理を施
し、100℃/hrで冷却したサンプルのμi及びμm
を測定した結果を冷延条件で整理して示した。即ち、2
回冷延材の場合の中間焼鈍は730〜900℃の範囲内
で行なっている。2回冷延材のうち、1次冷延率が50
%以上、かつ2次冷延率が75%以上の時、μiは26
,000以上で、μmも170,000以上であり、優
れた直流特性が得られていることがわかる。なお、1回
冷延材で得られるμi及びμmはそれぞれ上記のレベル
に比較して明らかに低い。なお、1次冷延率及び2次冷
延率の上限は、冷延時のエッヂ割れや、ミル負荷の点か
らそれぞれ98%と定めた。
本発明で意図する高透磁率材料は上記のような冷延条件
に加えて、焼鈍条件を適正としなければ達成されない。
第2図は、後述する第1表の阻1材(本発明合金)の熱
延板を65%の圧下率にて冷延し、引き続く中間焼鈍の
のちに80%の圧下率にて冷延した板厚0.2鶴の薄板
サンプルより外径451鳳、内径3311のJISリン
グに打抜いて試料とし、それらを水素雰囲気中で110
0°cx1時間の熱処理を施し、100℃/hrで冷却
したサンプルのμi及びμmを測定した結果を中間焼鈍
温度で整理したものである。中間焼鈍温度が730〜9
00℃の範囲であるとμiが26. OO0以上で、μ
mも約170,000を越えており、優れた磁気特性を
有している。中間焼鈍温度がこの範囲の時に最終の水素
焼鈍後で磁気特性が優れているのは、中間焼鈍後で10
0%再結晶していること、かつその再結晶オーステナイ
トが細粒であり、また再結晶後に磁気特性に有利な集合
!!J1mが強く形成されていることなどが、最終焼鈍
時に形成される磁気特性に有利な集合m織の集積を著し
く強める因子として働らいているためと考えられる。な
お、中間焼鈍温度が上記の範囲の場合でも、1次冷延率
及び2次冷延率が本発明規定範囲内でなければ、本発明
で意図する磁気特性の向上が図られないことは第1図に
関して述べた通りである。また、上記のように1次冷延
での圧下率、2次冷延での圧下率及び中間焼鈍温度が本
発明規定を満たした場合でも、成分が本発明範囲内でな
ければ、本発明で意図する磁気特性の向上が図られない
ことは、以下の実施例で示す通りである。以上が中間焼
鈍温度を本発明範囲に規定した理由である。
なお、中間焼鈍温度が730℃未満の時に透磁率が低い
のは、この温度域では、焼鈍後に100%再結晶せず、
続く冷延及び最終焼鈍で磁気特性に好ましい集合組織が
十分発達しないためと思われる。
一方、中間焼鈍温度が900℃を越えて透磁率が低下す
るのは、中間焼鈍後のオーステナイト粒径が大きくなる
ため、引き続く冷延ののちに行なわれる水素焼鈍時に形
成される集合組織が全体的にランダム化するため、磁気
特性に有利な集合組織が十分に発達しないためと認めら
れる。
(実施例) 本発明によるものの具体的な実施例について説明すると
以下の如くである。
実施例1゜ 次の第1表に示すような化学成分を有するFe −Ni
合金である本発明合金および比較合金を真空溶解で溶製
し、熱間加工、脱スケールを施して冷延素材を準備した
。即ち魚1〜3は何れも本発明範囲を満足するのに対し
阻4はSが0.0035%、隘6はPが0.010%と
高く、又N0.6の比較合金は0が0.0060%と本
発明範囲より高<、11h7はNが0.0030%と高
<1tkt8はBを含有せず隘9はBを含有していると
しても0.0009%と本発明のB含有範囲の下限0.
0015%に達せず、阻10は反対にBが0.0065
%と高(、阻11はCが0.015%と本発明の上限範
囲より高いものである。
これらの素材はまず65%の圧下率にて冷延し、次に8
00 ’Cにて焼鈍し、そののちに80%の圧下率で冷
延した板厚0.20の薄板サンプルより外径45mm、
内径33鶴のJIS リングに打抜き、試料とした。
上記のようにして得られた各試料を、水素雰囲気中で1
100℃×1時間の熱処理を施し、100”C/hrで
冷却したものについての直流磁気特性を調べた。次の第
2表にNi、μm、 Hc及びBIGの各量の測定結果
を示すが、合金魚1.2の各村は、C,P、S、N、O
,Bの容量とも本発明成分範囲の合金であり、この実施
例の如く、冷延・焼鈍条件が本発明規定範囲内の場合は
初透磁率μiは26.000以上、最大i! 65i率
μmも170,000以上、保磁力Hcは、0.02(
Φe)より小さ(優れた直流磁気特性を示している。ま
た、合金N113材はC,P、S、N、O,Bの容量が
本発明成分範囲内にあり、かつ熱間加工性の向上を意図
して微量のCa添加を行った合金であるが、この場合も
μi2μm、 Hcは漱1.2の各村とほぼ同じレベル
ムこある。このようにitのCa添加が行われた合金に
おいても、本発明の効果は十分に発揮されることがわか
る。
第   2   表 一方、合金魚4〜7の各村はそれぞれ、s、  p。
0、Nの容量が本発明成分範囲を超えることば前記の如
くで、階8及び患9はBffiが本発明規定の下限未満
であり、階10はBlが本発明規定の上限を越えるもの
であって隘11はCが高いことは上記の如くであり、か
つ各村ともその他の成分は本発明規定範囲内にある場合
であるが、いずれの場合でもNiはほぼ10,000以
下、μmは高々90.000であり、Hcは0.03 
(5e)より大きく、直流磁気特性は、本発明で得られ
たものより劣っている。なお、Nlll0材はNi、B
、S、Pの容量が特開昭62−227065の発明規定
範囲を満たすものであるが、この材料の磁気特性は、上
記の如く、本発明例に比べて明らかに劣り、本発明で目
的とする磁気特性の向上は、この特開昭62−2270
65の発明では達成されないことがわかる。
以上のように、本発明の目的とする磁気特性は、冷延・
焼鈍条件を本発明規定内しても、成分が本発明範囲でな
ければ達成されないことが理解される。
実施例2゜ 本発明規定内の成分を有する前記第1表の合金嵐1材に
ついての冷延素材を次の第3表に示すような冷延・焼鈍
条件により作製した板厚0.2 mmの薄板サンプルよ
り、外径45m、内径33mのJISリングを打ち抜き
、試料とした。
試料を、水素雰囲気中で1100℃×1時間の熱処理を
施し、100°C/hrで冷却したサンプルの直流磁気
特性を調べた。即ち第3表の後段に示すようなμi1μ
m、 Hc及びB1゜の各量の測定結果が得られた。
即ち供試材階1〜3の各供試材は、1次冷延での圧下率
、2次冷延での圧下率および中間焼鈍温度が何れも本発
明の規定範囲内のものであって、Niは26,000以
上でμmも170,000以上であり、一方Hcは0.
02(be)未満と優れた直流磁気特性を示している。
これに対し、1Vh4材は2冷延での圧下率が本発明規
定の下限未満のもの、NQ5材は中間焼鈍温度が本発明
規定の下限に達しないもの、寛6材は中間焼鈍温度の上
限を超えるもの、魚7材は1次冷延での圧下率が本発明
規定の下限未満のものであり、階8材は1次冷延のみの
ものであって、その他の条件はそれぞれ本発明の規定範
囲内のものであるが、Niは何れもせいぜい19,00
0、μmで高々150,000. Hcも0.025 
(be)より大きく、直流磁気特性は本発明例に見られ
るものに比較して劣っている。
即ち本発明の目的とする磁気特性は単に成分が本発明規
定内であっても、冷延・焼鈍条件が本発明条件を満さな
ければ達成されないことが理解される。
「発明の効果」 以上説明したような本発明によるときは、Fe−Ni系
の高透磁率磁性合金における磁気特性の改良が図られ、
特に直流磁気特性が従来の同じ成分系であるJIS P
Bパーマロイよりも飛躍的に優れ、JISPCパーマロ
イに準じた直流磁気特性を有せしめ、その用途は高磁界
において従来より高いシールド特性が求められる各種磁
気シールド材をはじめ、継鉄や直流重畳の変成器用鉄心
材料など栂めて広い利用範囲に対しを利に提供し得るも
のであって、工業的にその効果の大きい発明である。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の技術的内容を示すものであって、第1図
は冷延条件と初透磁率および最大透磁率の関係を示した
図表、第2図は最大透磁率および初透磁率の中間焼鈍温
度による変化状態を要約して示した図表である。 第  / 圓 (Q)4JJfkXkf71.、ml (1−)最欠$並率よ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 Ni:43.0〜48.0wt%、C:0.010wt
    %以下、S:0.0005〜0.002wt%、P:0
    .006wt%以下、O:0.003wt%以下、N:
    0.0015wt%以下、であって、かつ、 B:0.0015〜0.0050wt% を含有し、残部は基本的にFeからなるFe−Ni合金
    である薄鋼帯の製造に際して前記合金の熱間加工後の冷
    延を中間焼鈍をはさみ2回行い、かつ1回目の冷延での
    圧下率を50〜98%、2回目の冷延での圧下率を75
    〜98%、中間焼鈍を730〜900℃でそれぞれ行う
    ことを特徴とするNi−Fe系高透磁率合金の製造方法
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