JPH037671B2 - - Google Patents
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- JPH037671B2 JPH037671B2 JP57213634A JP21363482A JPH037671B2 JP H037671 B2 JPH037671 B2 JP H037671B2 JP 57213634 A JP57213634 A JP 57213634A JP 21363482 A JP21363482 A JP 21363482A JP H037671 B2 JPH037671 B2 JP H037671B2
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- methyl
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- imidazolyl
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- guanidine
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Landscapes
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
本発明は、シアノグアニジン誘導体、特に下式
で示されるＮ−シアノ−N′−メチル−N″−（４
−メチル−５−イミダゾリル）メチル−H″−〔２
−｛（４−メチル−５−イミダゾリル）−メチルチ
オ｝エチル〕グアニジンおよびその製造法に関す
る。 上記化合物は、シメチジン（cimetidine）と
称されるヒスタミンH2受容体遮断効果にすぐれ
た抗漬瘍剤の合成に有用な化合物である。 本発明によれば、式〔〕： で示されるＮ−シアノ−N′−メチル−N″−（４−
メチル−５−イミダゾリル）メチル−N″−（２−
メチルカプトエチル）グアニジンと、式：
で示されるＮ−シアノ−N′−メチル−N″−（４
−メチル−５−イミダゾリル）メチル−H″−〔２
−｛（４−メチル−５−イミダゾリル）−メチルチ
オ｝エチル〕グアニジンおよびその製造法に関す
る。 上記化合物は、シメチジン（cimetidine）と
称されるヒスタミンH2受容体遮断効果にすぐれ
た抗漬瘍剤の合成に有用な化合物である。 本発明によれば、式〔〕： で示されるＮ−シアノ−N′−メチル−N″−（４−
メチル−５−イミダゾリル）メチル−N″−（２−
メチルカプトエチル）グアニジンと、式：
【式】
〔式中、TS−は
【式】を表わ
し、１または３位に位置する〕
で示される１−トシル−４(5)−メチル−５(4)−ア
セトキシメチルイミダゾ−ルを溶媒中、塩基性条
件下に反応させることにより得られる。 塩基性条件は、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、アルカリ金属のアルコキサイド、アルカリ
金属の水素化物などによつて与えられる。 反応溶媒は、ジメチルホルムアミドDMF、メ
タノ−ルやエタノ−ルなどのアルコ−ルなどであ
る。収率の点からはメタノ−ル、エタノ−ルなど
のアルコ−ルが好ましい。もつとも、塩基として
水素化ナトリウムNaHなどのアルカリ金属水素
化物を使用する場合は、DMFでも好収率で目的
化合物が得られる。 反応温度は20〜80℃の範囲が適当であり、一夜
で反応の完結をみる。 保護基であるトシル基は、反応過程、または反
応生成物の抽出時に脱離するので、脱トシル化工
程は不要である。 本発明の化合物はシメチジンの合成に有用で
あり、、化合物に塩基性条件下で下記化合物
（Ｎ−シアノ−N′−メチル−N″−（２−メルカプ
トエチル）−グアニジン を作用させれば、シメチジン、すなわち下式で示
されるＮ−メチル−N′−シアノ−N″−〔２−｛（４
−メチル−５−イミダゾリル）メチルチオ｝エチ
ル〕グアニジン を容易に得ることができる。 実施例 エタノ−ル20mlにＮ−シアノ−N″−メチル−
N″−（４−メチル−５−イミダゾリル）メチル−
N″−（２−メルカプトエチル）グアニジン1.14g
（0.00452モル）を加え、これにナトリウムエトキ
シド0.307g（0.00452モル）を添加する。ついで、
１−トシル−４(5)−メチル−５(4)−アセトキシメ
チルイミダゾ−ル1.39g（0.00452モル）を加え、
一夜撹拌する。反応終了後、溶媒を留去し、残渣
を5N−水酸化ナトリウムと酢酸エチルで抽出す
る。酢酸エチル相を乾燥後留去し、担体としてワ
コ−ゲルＣ−300を用いカラムクロマトグラフイ
に付す。溶離液としてアセトンを使用する。目的
分画をアセトニトリルから結晶化させる。 TLC（メルク社製キ−ゼルゲル60F254使用）：
Rf0.4〔酢酸エチル：メタノ−ル：28％アンモニア
水容液（10：１：１）〕。 赤外吸収スペクトル：第１図に示す。
セトキシメチルイミダゾ−ルを溶媒中、塩基性条
件下に反応させることにより得られる。 塩基性条件は、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、アルカリ金属のアルコキサイド、アルカリ
金属の水素化物などによつて与えられる。 反応溶媒は、ジメチルホルムアミドDMF、メ
タノ−ルやエタノ−ルなどのアルコ−ルなどであ
る。収率の点からはメタノ−ル、エタノ−ルなど
のアルコ−ルが好ましい。もつとも、塩基として
水素化ナトリウムNaHなどのアルカリ金属水素
化物を使用する場合は、DMFでも好収率で目的
化合物が得られる。 反応温度は20〜80℃の範囲が適当であり、一夜
で反応の完結をみる。 保護基であるトシル基は、反応過程、または反
応生成物の抽出時に脱離するので、脱トシル化工
程は不要である。 本発明の化合物はシメチジンの合成に有用で
あり、、化合物に塩基性条件下で下記化合物
（Ｎ−シアノ−N′−メチル−N″−（２−メルカプ
トエチル）−グアニジン を作用させれば、シメチジン、すなわち下式で示
されるＮ−メチル−N′−シアノ−N″−〔２−｛（４
−メチル−５−イミダゾリル）メチルチオ｝エチ
ル〕グアニジン を容易に得ることができる。 実施例 エタノ−ル20mlにＮ−シアノ−N″−メチル−
N″−（４−メチル−５−イミダゾリル）メチル−
N″−（２−メルカプトエチル）グアニジン1.14g
（0.00452モル）を加え、これにナトリウムエトキ
シド0.307g（0.00452モル）を添加する。ついで、
１−トシル−４(5)−メチル−５(4)−アセトキシメ
チルイミダゾ−ル1.39g（0.00452モル）を加え、
一夜撹拌する。反応終了後、溶媒を留去し、残渣
を5N−水酸化ナトリウムと酢酸エチルで抽出す
る。酢酸エチル相を乾燥後留去し、担体としてワ
コ−ゲルＣ−300を用いカラムクロマトグラフイ
に付す。溶離液としてアセトンを使用する。目的
分画をアセトニトリルから結晶化させる。 TLC（メルク社製キ−ゼルゲル60F254使用）：
Rf0.4〔酢酸エチル：メタノ−ル：28％アンモニア
水容液（10：１：１）〕。 赤外吸収スペクトル：第１図に示す。
第１図は赤外吸収スペクトルを示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式： で示されるシアノグアニジン誘導体。 ２ 式： で示される化合物と 式： 〔式中、【式】を表わし、１ま たは３位に位置する〕で示される化合物を塩基性
条件下に反応させることを特徴とする 式： で示されるシアノグアニジン誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57213634A JPS59104363A (ja) | 1982-12-06 | 1982-12-06 | シアノグアニジン誘導体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57213634A JPS59104363A (ja) | 1982-12-06 | 1982-12-06 | シアノグアニジン誘導体およびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59104363A JPS59104363A (ja) | 1984-06-16 |
| JPH037671B2 true JPH037671B2 (ja) | 1991-02-04 |
Family
ID=16642396
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57213634A Granted JPS59104363A (ja) | 1982-12-06 | 1982-12-06 | シアノグアニジン誘導体およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59104363A (ja) |
-
1982
- 1982-12-06 JP JP57213634A patent/JPS59104363A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59104363A (ja) | 1984-06-16 |
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