JPH0380412A - 磁気ヘッド用非磁性基板 - Google Patents
磁気ヘッド用非磁性基板Info
- Publication number
- JPH0380412A JPH0380412A JP1214207A JP21420789A JPH0380412A JP H0380412 A JPH0380412 A JP H0380412A JP 1214207 A JP1214207 A JP 1214207A JP 21420789 A JP21420789 A JP 21420789A JP H0380412 A JPH0380412 A JP H0380412A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic head
- nonmagnetic substrate
- coefficient
- thermal expansion
- magnetic
- Prior art date
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- Granted
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、金属性磁性膜を蒸着するための非磁性の磁気
ヘッド用非磁性基板に関するものである。
ヘッド用非磁性基板に関するものである。
従来技術
従来この種の用途のものとしては、チタン酸バリウム、
チタン酸カルシウム、アルミナ等が使用されていた。し
かしながら、その熱膨張率が磁性膜構造体と大きく異な
ってし）たため、蒸着した磁性膜構造体が剥離しやすく
、また熱膨張率の差により応力が発生しクラックが発生
することがあった。
チタン酸カルシウム、アルミナ等が使用されていた。し
かしながら、その熱膨張率が磁性膜構造体と大きく異な
ってし）たため、蒸着した磁性膜構造体が剥離しやすく
、また熱膨張率の差により応力が発生しクラックが発生
することがあった。
さらに、従来の材料は硬さが低く、特に高保磁力テープ
（いわゆるメタルテープ）が使用された場合には、非磁
性基板が磁性膜構造体と硬度及び耐摩耗性が異なり、磁
気テープとの摺動により発生する摩擦のために偏摩耗等
を引き起こし、磁気特性に変化をきたすという問題があ
った。特に硬度が低い場合には、磁気ヘッドの寿命が短
くなること、あるいは非磁性基板の変形や割れ及び剥離
を引き起こすといった欠点が顕著であった。
（いわゆるメタルテープ）が使用された場合には、非磁
性基板が磁性膜構造体と硬度及び耐摩耗性が異なり、磁
気テープとの摺動により発生する摩擦のために偏摩耗等
を引き起こし、磁気特性に変化をきたすという問題があ
った。特に硬度が低い場合には、磁気ヘッドの寿命が短
くなること、あるいは非磁性基板の変形や割れ及び剥離
を引き起こすといった欠点が顕著であった。
本発明者等は、上記の欠点を解決すべく、Ｃｏｏ−Ｎｉ
０系セラミツクスについて従来より研究を進め、Ｃｏｘ
Ｎ ｉ、−ｘｏ、（光だし０．２≦Ｘ≦１．８）なる組
成の酸化物が有効であるとして既に開示した。
０系セラミツクスについて従来より研究を進め、Ｃｏｘ
Ｎ ｉ、−ｘｏ、（光だし０．２≦Ｘ≦１．８）なる組
成の酸化物が有効であるとして既に開示した。
しかし、金属性磁性膜構造体の製造工程やその用途によ
っては、より高い熱膨張率を有する非磁性基板が必要と
なってきた。
っては、より高い熱膨張率を有する非磁性基板が必要と
なってきた。
発明が解決しようとする問題点
本発明は、上記の欠点を解決したもので、具体的には１
５０ｘｌ Ｏ−”７℃以上の熱膨張率を有し、ビッカー
ス硬度５００〜７００の特性を持ち、さらに他のヘッド
構成材料間で過度の化学的侵食反応を起こさない材料を
提供することが目的である。
５０ｘｌ Ｏ−”７℃以上の熱膨張率を有し、ビッカー
ス硬度５００〜７００の特性を持ち、さらに他のヘッド
構成材料間で過度の化学的侵食反応を起こさない材料を
提供することが目的である。
発明の構成
即ち、本発明は、ＣｏｘＮ ｉ２−ｘＯ２（ただしＯ≦
ｘ＜０．２）で表わされ、岩塩型構造を有することを特
徴とする磁気ヘッド用非磁性基板に関する。
ｘ＜０．２）で表わされ、岩塩型構造を有することを特
徴とする磁気ヘッド用非磁性基板に関する。
問題点を解決するための手段及び作用
本発明者等は、Ｃ０Ｏ−ＮｉＯ系セラミックスについて
従来より研究を進めてきたが、上記の観点から検討を加
え、基本組成としてＣｏｘＮ ｉ、−ｘｏ、（ただし０
≦Ｘく０．２）なる組成の酸化物が有効であることを見
い出した。
従来より研究を進めてきたが、上記の観点から検討を加
え、基本組成としてＣｏｘＮ ｉ、−ｘｏ、（ただし０
≦Ｘく０．２）なる組成の酸化物が有効であることを見
い出した。
Ｃｏｏ−Ｎｉ０系セラミツクスにおいて、熱膨張率は次
式によってほぼ決定される。
式によってほぼ決定される。
α（ＣＮ） ＝α（Ｃ） Ｍ （Ｃ） 十α（Ｎ）Ｍ
（Ｎ） （ただし、バは熱膨張率、Ｍはモル分率を示し、（）内
のＣはＣｏｏ、ＮはＮｉＯ，ＣＮはＣ０Ｏ−ＮｉＯ系で
ある±とを表わす。）この式を適用すると、１５０ｘｌ
Ｏ”“７℃以上の熱膨張率を得るには、本発明の組成化
（０≦ｘ＜０．２）が必要となる。
（Ｎ） （ただし、バは熱膨張率、Ｍはモル分率を示し、（）内
のＣはＣｏｏ、ＮはＮｉＯ，ＣＮはＣ０Ｏ−ＮｉＯ系で
ある±とを表わす。）この式を適用すると、１５０ｘｌ
Ｏ”“７℃以上の熱膨張率を得るには、本発明の組成化
（０≦ｘ＜０．２）が必要となる。
市販の各酸化物を原料として、所望組成になるよう秤量
し、ボールミルにより混合する。
し、ボールミルにより混合する。
混合は例えばエタノール中湿式ボールミルで１０〜３０
時間行なう。
時間行なう。
乾燥後、Ｃ，ＩＰ成形し、例えばＡｒ中８５０〜１１０
０℃で仮焼し、次いで粗砕機を用いて粉砕し、１００〜
２００μｍの篩で篩分けを行なう。
０℃で仮焼し、次いで粗砕機を用いて粉砕し、１００〜
２００μｍの篩で篩分けを行なう。
仮焼粉はさらに例えばエタノール中湿式ボールミルで２
０〜７２時間処理し、１μｍ以下に微粉砕する。
０〜７２時間処理し、１μｍ以下に微粉砕する。
これを造粒後、ＣＩＰＩＰ成形例えばＮ。
中１２３０−１４００℃で焼結し、その後、ＨＩＰ処理
を行なう。ＨＩＰ処理条件は、８００〜１２００ｋｇ／
ｃｒｌ！、１２００〜１３５０℃、１〜２時間が望まし
い。
を行なう。ＨＩＰ処理条件は、８００〜１２００ｋｇ／
ｃｒｌ！、１２００〜１３５０℃、１〜２時間が望まし
い。
このようにして得られた焼結体は、緻密で岩塩型構造を
有し、テープの摺動による摩擦やエッチ部の欠けが少な
〈従来の材料よりも優れていることが確認できた。
有し、テープの摺動による摩擦やエッチ部の欠けが少な
〈従来の材料よりも優れていることが確認できた。
また、ＣｏｘＮ ｉ２−ｘＯ２（ただし０．２≦Ｘ≦１
．８）の場合と同様、Ｍｎ○、Ｔ ｉ Ｏ。
．８）の場合と同様、Ｍｎ○、Ｔ ｉ Ｏ。
Ａｌ、０１、Ｃａｂ、Ｙ、Ｏ，、ＴｉＮ％ Ｂ、Ｏ，、
Ｓ ｉ Ｏ，等の添加材が有効である。
Ｓ ｉ Ｏ，等の添加材が有効である。
添加は、単独あるいは各々の組み合わせでも良好であり
、所望の硬度、熱膨張率に対応した組み合わせを採用す
るのが望ましい実施例 組成式ＣｏｘＮ ｉ、−ｘｏ、 で表わされる酸化物の
うち、表１の組成のものをＮｉｐ、Ｃ。
、所望の硬度、熱膨張率に対応した組み合わせを採用す
るのが望ましい実施例 組成式ＣｏｘＮ ｉ、−ｘｏ、 で表わされる酸化物の
うち、表１の組成のものをＮｉｐ、Ｃ。
Ｏより調整した。混合は、エタノール中湿式ボールミル
で２２時間処理した。
で２２時間処理した。
乾燥後、ＣＩＰＩＰ成形Ａｒ中１０００℃で仮焼後、１
５０μｍ以下に粉砕した。
５０μｍ以下に粉砕した。
仮焼粉をさらにエタノール中湿式ボール、ミルで７０時
間処理し、１μｍ以下に微粉砕した。
間処理し、１μｍ以下に微粉砕した。
これを造粒後、ａｒｐ成形し、Ｎ、中１４００℃で焼結
した。なお、ＨＩＰ処理を行なわなくとも焼結体の密度
は高い値であった。
した。なお、ＨＩＰ処理を行なわなくとも焼結体の密度
は高い値であった。
焼結体のＸ線回折より、岩塩型構造であることを確認し
た。
た。
焼結体の相対密度、ビッカース硬度（Ｈｖ）、熱膨張率
（α）を表１に示す。表中には、比較例としてチタン酸
バリウム（チタバリ）の特性を併記した。
（α）を表１に示す。表中には、比較例としてチタン酸
バリウム（チタバリ）の特性を併記した。
表１
発明の詳細
な説明したように、（１）本組成の非磁性基板は、熱膨
張率、硬度とも磁性膜構造体とほぼ同等の特性を得るこ
とができる。
張率、硬度とも磁性膜構造体とほぼ同等の特性を得るこ
とができる。
このため、磁性膜構造体の剥離やクラックの発生を著し
く防止できる。
く防止できる。
（２）さらに、硬度を高めることにより磁気ヘッドの短
寿命化や非磁性基板の変形、割れ等を抑えることができ
、ヘッドの耐摩耗性、朗久性に特にすぐれている利点が
ある。
寿命化や非磁性基板の変形、割れ等を抑えることができ
、ヘッドの耐摩耗性、朗久性に特にすぐれている利点が
ある。
Claims (1)
- Ｃｏ＿ｘＮｉ＿２＿−＿ｘＯ＿２（ただし０≦ｘ＜０
．２）で表わされ、岩塩型構造を有することを特徴とす
る磁気ヘッド用非磁性基板
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1214207A JPH087849B2 (ja) | 1989-08-22 | 1989-08-22 | 磁気ヘッド用非磁性基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1214207A JPH087849B2 (ja) | 1989-08-22 | 1989-08-22 | 磁気ヘッド用非磁性基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0380412A true JPH0380412A (ja) | 1991-04-05 |
| JPH087849B2 JPH087849B2 (ja) | 1996-01-29 |
Family
ID=16652007
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1214207A Expired - Lifetime JPH087849B2 (ja) | 1989-08-22 | 1989-08-22 | 磁気ヘッド用非磁性基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH087849B2 (ja) |
-
1989
- 1989-08-22 JP JP1214207A patent/JPH087849B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH087849B2 (ja) | 1996-01-29 |
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