JPH0325904A - 磁気ヘッド用非磁性基板 - Google Patents
磁気ヘッド用非磁性基板Info
- Publication number
- JPH0325904A JPH0325904A JP1159622A JP15962289A JPH0325904A JP H0325904 A JPH0325904 A JP H0325904A JP 1159622 A JP1159622 A JP 1159622A JP 15962289 A JP15962289 A JP 15962289A JP H0325904 A JPH0325904 A JP H0325904A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- hardness
- substrate
- thermal expansion
- magnetic head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
！桂』Ｕと乱
本発明は、金属性磁性膜を蒸着するための非磁性の磁気
ヘッド用非磁性基板に関するものである。
ヘッド用非磁性基板に関するものである。
従来技術
従来この種の用途のものとしては、チタン酸バリウム、
チタン酸カルシウム、アルミナ等が使用されていた。し
かしながら、その熱膨張率が磁性膜構造体と大きく異な
っていたため、蒸着した磁性膜構造体が剥離しやすく、
また熱膨張率の差により応力が発生しクラックが発生す
ることがあった。
チタン酸カルシウム、アルミナ等が使用されていた。し
かしながら、その熱膨張率が磁性膜構造体と大きく異な
っていたため、蒸着した磁性膜構造体が剥離しやすく、
また熱膨張率の差により応力が発生しクラックが発生す
ることがあった。
さらに、従来の材料は硬さが低く、特に高保磁カテープ
（いわゆるメタルテープ）が使用された場合には、非磁
性基板が磁性膜構造体と硬度及び耐摩耗性が異なり、磁
気テープとの摺動により発生する摩擦のために偏摩耗等
を引き起こし、磁気特性に変化をきたすという問題があ
った。特に硬度が低い場合には、磁気ヘッドの寿命が短
くなること、あるいは非磁性基板の変形や割れ及び剥離
を引き起こすといった欠点が顕著であった。
（いわゆるメタルテープ）が使用された場合には、非磁
性基板が磁性膜構造体と硬度及び耐摩耗性が異なり、磁
気テープとの摺動により発生する摩擦のために偏摩耗等
を引き起こし、磁気特性に変化をきたすという問題があ
った。特に硬度が低い場合には、磁気ヘッドの寿命が短
くなること、あるいは非磁性基板の変形や割れ及び剥離
を引き起こすといった欠点が顕著であった。
以上の欠点について発明者等は、鋭意検討した結果以下
の発明をなした。
の発明をなした。
発明の構成
即ち、本発明は、ＣｏＯ、Ｎｉ○を基本組成として、１
〜５ｗｔ％のＹ２Ｏ３、あるいは０．１ 〜１ｗｔ％の
ＴｉＮ、または０．３〜２ ｗ ｔ％のＢ， Ｏ．のう
ち、少なくとも１種を添加した磁気ヘッド用非磁性基板
に関する。
〜５ｗｔ％のＹ２Ｏ３、あるいは０．１ 〜１ｗｔ％の
ＴｉＮ、または０．３〜２ ｗ ｔ％のＢ， Ｏ．のう
ち、少なくとも１種を添加した磁気ヘッド用非磁性基板
に関する。
発明の具体的説明
本発明は、具体的には１３０〜１５０ｘｌＯ“／℃の熱
膨張率を有し、ビツカース硬度５００〜７００の特性を
持ち、さらに他のヘッド構或材料間で過度の化学的侵食
反応を起こさない材料を提供することが目的である。
膨張率を有し、ビツカース硬度５００〜７００の特性を
持ち、さらに他のヘッド構或材料間で過度の化学的侵食
反応を起こさない材料を提供することが目的である。
本発明者等は、かかる観点から多くの材料を検討し、基
木組成としてＣ ｏ）ｃＮ ｉ ，−ＸＯ，（ただし
０．２≦Ｘ≦ｌ．８）なる組成の酸化物が有効であると
して既に開示している。
木組成としてＣ ｏ）ｃＮ ｉ ，−ＸＯ，（ただし
０．２≦Ｘ≦ｌ．８）なる組成の酸化物が有効であると
して既に開示している。
また、添加材の検討を行ない、ＭｎＯ，ＴｉＯ， Ａ
ｌ，Ｏ，あるいはＣａＯのＯ．ｌ〜５ｗｔ％添加が有効
であるとして、既に開示している。
ｌ，Ｏ，あるいはＣａＯのＯ．ｌ〜５ｗｔ％添加が有効
であるとして、既に開示している。
さらに、ＣｏＯ、ＮｉＯを基本組威として添加材の検討
を続けた結果、１〜５ｗｔ％のＹ２Ｏ３、あるいは０．
１〜１ｗｔ％のＴｉＮ，または０．３〜２ｗｔ％のＢ，
Ｏ，を添加した場合に密度及び硬度の向上が観察され
ることを見い出した。
を続けた結果、１〜５ｗｔ％のＹ２Ｏ３、あるいは０．
１〜１ｗｔ％のＴｉＮ，または０．３〜２ｗｔ％のＢ，
Ｏ，を添加した場合に密度及び硬度の向上が観察され
ることを見い出した。
Ｙ， Ｏ，は粒成長整合効果のある物質で、１ｗｔ％以
上の添加により粒径を抑制し、硬度が向上する。しかし
ながら熱膨張率がＮｉＯ、Ｃｏｏより低く、添加量はＳ
Ｗｔ％以内に抑えるのが望ましい。
上の添加により粒径を抑制し、硬度が向上する。しかし
ながら熱膨張率がＮｉＯ、Ｃｏｏより低く、添加量はＳ
Ｗｔ％以内に抑えるのが望ましい。
ＴｉＮは、結晶構造が基本組成（ＣｏＮｌ ｓ Ｏ
＊ ）と同じＮａＣｌ型であり、また、Ｎｉｐ１Ｃｏｏ
に比べ硬度が高いために０．１ｗｔ％の添加により硬度
が増加する。しかしながらＴｉＮ自体は難焼結性の物質
であり、１ｗｔ％以上の添加は全体の焼結性に影響を与
え、焼結体の密度が高くならない。
＊ ）と同じＮａＣｌ型であり、また、Ｎｉｐ１Ｃｏｏ
に比べ硬度が高いために０．１ｗｔ％の添加により硬度
が増加する。しかしながらＴｉＮ自体は難焼結性の物質
であり、１ｗｔ％以上の添加は全体の焼結性に影響を与
え、焼結体の密度が高くならない。
Ｂ，Ｏ，は、Ｎｉｐ，Ｃｏｏとの濡れ性が良く、０．３
ｗｔ％以上の添加により密度は増加する。しかしながら
相図より２ｗｔ％より多量のＢ，Ｏ，の添加は液相の他
にｘＮｉＯ・ｙＢｍＯｓ等を生或することが確認されて
おり、硬度及び熱膨張率の著しい低下をもたらすため好
ましくない。
ｗｔ％以上の添加により密度は増加する。しかしながら
相図より２ｗｔ％より多量のＢ，Ｏ，の添加は液相の他
にｘＮｉＯ・ｙＢｍＯｓ等を生或することが確認されて
おり、硬度及び熱膨張率の著しい低下をもたらすため好
ましくない。
添加は、単独あるいは各々の組み合わせでも良好であり
、既に開示している添加材との組み合わせも有効である
。所望の硬度、熱膨張率に対応した組み合わせを採用す
るのが望ましい。
、既に開示している添加材との組み合わせも有効である
。所望の硬度、熱膨張率に対応した組み合わせを採用す
るのが望ましい。
市販の各酸化物を原料として、所望組成になるよう秤量
し、ボールミルにより混合する。
し、ボールミルにより混合する。
混合は例えばエタノール中湿式ボールミルで１０〜３０
時間行なう。
時間行なう。
乾燥後、ＣＩＰ成形し、例えばＡｒ中８５０〜１１００
℃で仮焼し、次いで粗砕機を用いて粉砕し、１００〜２
００μｍの篩で篩分けを行なう。
℃で仮焼し、次いで粗砕機を用いて粉砕し、１００〜２
００μｍの篩で篩分けを行なう。
仮焼粉はさらに例えばエタノール中湿式ボールミルで２
０〜７２時間処理し、ｌμｍ以下に微粉砕する。
０〜７２時間処理し、ｌμｍ以下に微粉砕する。
これを造粒後、ＣＩＰ威形し、例えばＮ．中１２３０〜
１４００℃で焼結し、その後、ＨＩＰ処理を行なう。Ｈ
ＩＰ処理条件は、８００〜１ ２００．ｋｇ／ｄ，１
２００〜１３５０℃、１〜２時間が望ましい。
１４００℃で焼結し、その後、ＨＩＰ処理を行なう。Ｈ
ＩＰ処理条件は、８００〜１ ２００．ｋｇ／ｄ，１
２００〜１３５０℃、１〜２時間が望ましい。
このようにして得られた焼結体は、緻密で岩塩型構造を
有し、テープの摺動による摩擦やエッヂ部の欠けが少な
く従来の材料よりも優れていることが確認できた。
有し、テープの摺動による摩擦やエッヂ部の欠けが少な
く従来の材料よりも優れていることが確認できた。
［実施例１］
ＣｏＯ％ＮｉＯを原料にＣｏＮｉＯ，組成となるように
調整し混合した。これをＡｒ中１ ０００℃で仮焼後、
エタノールの湿式ボールミルで２２峙間粉砕した。この
粉砕粉にＹｔ Ｏ ｓを表ｌの割合で添加し、混合、Ｃ
ｒＰ或形後Ｎ．中１３５０℃で焼結した。なお、ＨＩＰ
処理を行なわなくとも焼結体の密度は高い値であった。
調整し混合した。これをＡｒ中１ ０００℃で仮焼後、
エタノールの湿式ボールミルで２２峙間粉砕した。この
粉砕粉にＹｔ Ｏ ｓを表ｌの割合で添加し、混合、Ｃ
ｒＰ或形後Ｎ．中１３５０℃で焼結した。なお、ＨＩＰ
処理を行なわなくとも焼結体の密度は高い値であった。
焼結体の相対密度、ビッカース硬度（ Ｈ ｖ ）、熱
膨張率（α）を表１に示す。表中には、比較例としてチ
タン酸バリウムの特性を併記した。
膨張率（α）を表１に示す。表中には、比較例としてチ
タン酸バリウムの特性を併記した。
表ｌ
［実施例２コ
実施例ｌと同様の方法でＴｉＮを添加した場合の結果を
表２に示す。表中にはチタン酸バリウムの物性値を併記
する。
表２に示す。表中にはチタン酸バリウムの物性値を併記
する。
表２
［実施例３］
実施例１と同様の方法でＢオＯ．を添加した場合の結果
を表３に示す。表中にはチタン酸バリウムの物性値を併
記する。
を表３に示す。表中にはチタン酸バリウムの物性値を併
記する。
表３
耐久性に特にすぐれている利点がある。
Claims (1)
- ＣｏＯ、ＮｉＯを基本組成として、１〜５ｗｔ％のＹ
＿２Ｏ＿３、あるいは０．１〜１ｗｔ％のＴｉＮ）、ま
たは０．３〜２ｗｔ％のＢ＿２Ｏ＿３のうち、少なくと
も１種を添加したことを特徴とする磁気ヘッド用非磁性
基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1159622A JPH0325904A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | 磁気ヘッド用非磁性基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1159622A JPH0325904A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | 磁気ヘッド用非磁性基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0325904A true JPH0325904A (ja) | 1991-02-04 |
Family
ID=15697744
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1159622A Pending JPH0325904A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | 磁気ヘッド用非磁性基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0325904A (ja) |
-
1989
- 1989-06-23 JP JP1159622A patent/JPH0325904A/ja active Pending
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