JPH038105A - 磁気ヘツド - Google Patents

磁気ヘツド

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JPH038105A
JPH038105A JP14114689A JP14114689A JPH038105A JP H038105 A JPH038105 A JP H038105A JP 14114689 A JP14114689 A JP 14114689A JP 14114689 A JP14114689 A JP 14114689A JP H038105 A JPH038105 A JP H038105A
Authority
JP
Japan
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magnetic
magnetic core
thereafter
film
core
Prior art date
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Pending
Application number
JP14114689A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuiko Matsubara
松原 結子
Yoshitsugu Miura
義從 三浦
Hisashi Katahashi
片橋 久
Katsuo Konishi
小西 捷雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH038105A publication Critical patent/JPH038105A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はビデオテープレコーダ、磁気ディスク記録再生
装置などに用いられる。6B性金属薄膜を磁気コアとし
た薄膜磁気ヘッド等の磁気ヘッドに係り、特にその磁気
コアの磁区構造に関する。
[従来の技術] 従来、薄膜磁気ヘッドの磁気コアの構造は、成重らの報
告した[ハードディスク装置用薄膜ヘット(応用磁気記
録研究会資料MSJ39−5)]等に報告され、第6図
に示すように、平面環流磁区構造となっていた。
第6図において、50は磁性体(磁気コア)、51は磁
壁であ°す、52a、52bは磁化の方向を、53は磁
束伝播方向を示している。同図に示すように磁性体50
の中央部では、磁化方向52aが磁束伝播方向53に垂
直で、端部では磁化方向52bが磁束伝播方向53と平
行になっている。
[発明が解決しようとする課題] ところで、上記従来技術においては、磁束伝播経路の実
効的な断面積については、何等考慮がなされていなかっ
た。
すなわち、第6図に示したように磁性体50が平面環流
磁区構造をなす場合、中央部では52aに示すように磁
化が磁束伝播方向53に対し、垂直となっているため、
透磁率が高く充分な磁束伝播効率を有する。しかし端部
では、52bに示すように、磁束伝播方向53に対し磁
化が平行になっているため、透磁率は非常に小さく実効
的な磁束伝播に寄与しない、このため、磁束伝播経路の
実効的な断面積は、磁性体50の断面積に比へて小さく
なる。
上述せる状況が磁気コアに発生した場合、直ちに磁気抵
抗の増大につながり、ヘッド再生効率の低下を誘発する
本発明の目的は、磁束伝播経路の実効的な断面積をヘッ
ドコア断面積に一致させ、ヘッド再生効率の向上を図れ
る磁気ヘッドを提供することにある。
[課題を解決するための手段] 本発明の上記した目的は、磁気コアの磁区構造を、少く
とも作動ギャップ部において層状環流磁区構造とするこ
とによって達成される。
[作用] 層状環流磁区構造を実現した際の、磁束伝播方向と磁化
の方向との関係について第5図を用いて説明する。
同図に示したように、a性体30の磁束伝播方向31と
磁化の方向32a、32bとは、いづれの箇所において
も直交関係にある。従って、第6図に示した平面環流磁
区構造の場合とは異なり、場所による磁束伝播効率の差
は発生しない。なお。
同図において、33はm壁を示している。
層状環流磁区構造は、その自由エネルギーが平面環流磁
区構造の自由エネルギーに比べて小さい場合にのみ出現
する。本願発明者らは、コア磁気特性と摺動面形状に関
する理論的及び実験的な検討の結果、以下に示す条件を
満足するとき、N状環流磁区構造が再現性良く出現する
ことを見出した。
但し上式において、Tは摺動面の上下コア厚の合計値、
Aはコア材の変換ステイフネス定数、 Kuは磁気異方
性定数、Wは磁気コア幅、Nは自然数である。
[実施例] 以下、本発明の実施例を第1図〜第4図によって説明す
る。
第1図は薄膜磁気ヘッドの磁気コアと薄膜コイルを示す
斜視説明図、第2図は摺動面の要部正面図である。
第1図において、1は下部磁気コア、2は上部磁気コア
で、該実施例においては、両者1,2はCo系非晶質磁
性合金の一つであるCo−Nb−Zr膜(飽和磁束密度
: 0.95T )よりなっており、スパッタリング等
の公知の薄膜形成技術とホトリソ技術によって成膜・整
形されている。また、第2図に示すトラック幅Wを48
μmとし、下部磁気コア1の厚みT4を35μm、上部
磁気コア2の厚みT2を20μmとし、合計コア厚Tを
55μmに設定されている。なお、第1図において、3
1は磁束伝播方向を、32a、32bは磁化の方向を、
33は磁壁を示している。
上記下部磁気コア1は、例えば、非磁性セラミックス材
よりなる基板3に設けた凹部内に成膜された後、所定形
状に整形して作成される。この後。
絶縁膜4を形成し、該絶縁膜4上にヘッド駆動用の薄膜
コイル5を形成した後、薄膜コイル5上に再び絶縁膜4
を形成する。次に、絶縁膜4の所定部位にスルーホール
を形成した後、下部磁気コア1のフロント部分に非磁性
材(例えばCr、或いはSiO2等の非磁性絶縁材)に
よってギャップ規制膜を形成する。然る後、上部磁気コ
ア2を形成して、下部磁気コア1と上部磁気コア2とを
、フロント部ではギャップ規制薄膜を介して接合して作
動ギャップ6を形成すると共に、リア部では両者1,2
を直接接続する。
その後、異方性定数及び容易軸制御のために、磁場中(
磁界:11KOe)で熱処理(400℃。
30分)を施こし、セラミックス薄膜により保護膜7を
形成し、最後に組立加工を施こして簿膜磁気ヘッドとし
て完成される。
上記手法で作成した第1,2図の薄膜磁気ヘツドの磁区
構造をビッタ−法及びマイクロカー効果を用いて観察し
た結果、層状環流磁区構造が出現していることが確認さ
れた。
第3図に本発明の上述した実施例による層状環流磁区構
造をとる薄膜磁気ヘッドと、従来の平面環流磁区構造を
とる薄膜磁気ヘッドの再生出力の周波数特性を示す、同
図において、・印でプロットした特性線Aが本発明の実
施例による薄膜ヘッドを、また1印でプロットした特性
線Bが従来例を示している。同図から明らかなように、
本発明により成る層状環流磁区構造の薄膜磁気ヘッドの
再生出力は、従来の平面環流磁区構造のものに比べて2
〜4dB改善されている。
第4図に、コア幅Wを一定にし、異方性定数とコア膜厚
を変化させた場合の5は区構造を示す。
Oは平面環流磁区構造、・は層状環流磁区構造が出現し
た条件を示した0点線は、Ku、W、Tの前述した関係
式(1)により算出したものである。
同図から明らかなように、前記関係式(1)の条件を満
足すれば1層状環流磁区構造が得られることは明らかで
ある。なお、異方性磁界は、磁場中熱処理温度により制
御した。
なお、上述した実施例においては、磁気コア全体を層状
環流磁区構造としたが、磁気コアの幅狭のギャップ形成
部(フロント部)のみを層状環流磁区構造としても同等
の効果が期待できる。さらにまた、即動コイルを薄膜コ
イルとした所謂薄膜磁気ヘッド以外にも、非磁性もしく
は磁性体よりなるコア基体に、金属磁性薄膜をコア主体
部として被着してなるタイプの磁気ヘッドにも本発明は
適用可能である。
[発明の効果] 以上のように本発明によれば、磁束伝播経路の実効的な
断面積が拡大され、ヘッド再生効率及び記録効率が向上
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本発明の実施例による薄膜磁気ヘッ
ドに係り、第1図は簡略化した要部斜視図、第2図は摺
動面を示す要部正面図、第3図は本発明による薄膜磁気
ヘッドと従来の1膜磁気へラドどの再生出力の周波数特
性を示す説明図、第4図はコア幅を一定にしコア膜厚と
異方性定数を変化させた時の磁区構造の現出条件を示す
説明図。 第5図は層状環流磁区構造を示す説明図、第6図は平面
環流磁区構造を示す説明図である。 1・・・・・下部磁気コア、2・・・・上部磁気コア、
3・基板、4・・・・・・絶縁膜、5・・・・・・薄膜
コイル、6・・作動ギャップ、31・・・・磁束伝播方
向、32a、32b・・・・・・磁化の方向、33・・
・・・磁壁、W・・・・・トラック幅、T・・・・・・
コア合計厚み。 第1 図 32σ 5:i頑M)L 6:イ繁動キ゛セツア 31:tsJ臥東イ云オー17!r句 、52a、32b:石区イヒの方向 33:万態5【 第2図 1 第3@ JIA遁〕交 iMHz) 第4@ 層厚(&、を享位) 15図 第6図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、磁性金属薄膜よりなる磁気コアを備えた磁気ヘッド
    において、前記磁気コアの磁区構造が少くとも作動ギャ
    ップ部において、層状環流磁区構造となつていることを
    特徴とする磁気ヘッド。 2、請求項1記載において、前記磁気コアの膜厚をT、
    摺動面での磁気コア幅をW、磁気コアの交換ステイフネ
    ス定数をA、磁気異方性定数をKu、Nを自然数とした
    時、磁気コアの膜厚Tが、 T■2N(2W√[A/Ku])^1^/^2の関係に
    あることを特徴とする磁気ヘッド。
JP14114689A 1989-06-05 1989-06-05 磁気ヘツド Pending JPH038105A (ja)

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JP14114689A JPH038105A (ja) 1989-06-05 1989-06-05 磁気ヘツド

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JP14114689A JPH038105A (ja) 1989-06-05 1989-06-05 磁気ヘツド

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JPH038105A true JPH038105A (ja) 1991-01-16

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ID=15285227

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JP14114689A Pending JPH038105A (ja) 1989-06-05 1989-06-05 磁気ヘツド

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JP (1) JPH038105A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5406434A (en) * 1990-11-06 1995-04-11 Seagate Technology, Inc. Thin film head with contoured pole face edges for undershoot reduction
US6683748B2 (en) * 2000-11-24 2004-01-27 Samsung Electronics Co., Ltd. Vertical writing type magnetic head

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6252710A (ja) * 1985-08-30 1987-03-07 Nec Corp 薄膜磁気ヘツド

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6252710A (ja) * 1985-08-30 1987-03-07 Nec Corp 薄膜磁気ヘツド

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5406434A (en) * 1990-11-06 1995-04-11 Seagate Technology, Inc. Thin film head with contoured pole face edges for undershoot reduction
US6683748B2 (en) * 2000-11-24 2004-01-27 Samsung Electronics Co., Ltd. Vertical writing type magnetic head

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