JPH0397855U - - Google Patents

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JPH0397855U
JPH0397855U JP685090U JP685090U JPH0397855U JP H0397855 U JPH0397855 U JP H0397855U JP 685090 U JP685090 U JP 685090U JP 685090 U JP685090 U JP 685090U JP H0397855 U JPH0397855 U JP H0397855U
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metal
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【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の実施例に係るイオン照射装置
の概略構成図。第2図は第1図の装置のプレート
近傍の電位図。第3図は入射イオンエネルギーに
対するスパツタイールドの一例を示すグラフ。第
4図は従来例に係るイオン照射装置の概略構成図
。 1……イオン、2……スパツタリング粒子、3
……基板、4……基板ホルダ、5……金属プレー
ト、6……金属メツシユ、9……リング。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 基板を載置するため真空中に設けられる金
    属製の基板ホルダと、イオンビームを発生するイ
    オン源とを含み、イオン源で発生したイオンを基
    板ホルダに載置した基板に照射するようにしたイ
    オン照射装置であつて、基板ホルダの面内であつ
    て基板ホルダを載置しない部分を金属製のメツシ
    ユによつて蓋い、金属製メツシユと基板ホルダ面
    の間に金属製のプレートを設け、金属製プレート
    にはイオンを減速する電圧を印加してある事を特
    徴とするイオン照射装置。 (2) 基板を載置するため真空中に設けられる基
    板ホルダと、イオンビームを発生するイオン源と
    、イオン源から基板ホルダに至るまでイオンビー
    ムを輸送する輸送チヤンバと、ビームを絞るビー
    ムスリツトと、ビームを収束或は発散させるレン
    ズ系プレートと、ビームを加速或は減速する減速
    加速系とを含み、イオン源で発生したイオンを基
    板ホルダに載置した基板に照射するようにしたイ
    オン照射装置であつて、輸送チヤンバ、ビームス
    リツト、レンズ系プレート、減速加速管のうちイ
    オンが衝突する面の全部或は一部を金属製プレー
    トと金属製メツシユによつて覆い、金属製プレー
    トにはイオンを減速する電圧を印加してある事を
    特徴とするイオン照射装置。
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