JPH0410199B2 - - Google Patents
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- JPH0410199B2 JPH0410199B2 JP61012566A JP1256686A JPH0410199B2 JP H0410199 B2 JPH0410199 B2 JP H0410199B2 JP 61012566 A JP61012566 A JP 61012566A JP 1256686 A JP1256686 A JP 1256686A JP H0410199 B2 JPH0410199 B2 JP H0410199B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- support piece
- heat
- wire
- heating element
- main body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Resistance Heating (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Description
この発明は、半導体ウエハ等の被熱処理物に熱
処理を行う熱処理装置に関する。
処理を行う熱処理装置に関する。
半導体処理用の熱処理装置では、半導体ウエハ
を収容した反応管を周面から加熱するため、炉の
内面に大口径の発熱素線が反応管の周面を覆う形
態で配設されている。
を収容した反応管を周面から加熱するため、炉の
内面に大口径の発熱素線が反応管の周面を覆う形
態で配設されている。
このような熱処理装置において、発熱素線の支
持には、次のような欠点がある。 (a) 炉本体の断熱材に透孔を形成して発熱素線を
支持していることから、放熱が高く、水冷ジヤ
ケツトを配置することができない。 (b) カンタルロツトと称する金属物および支持用
セラミツク部材の脱落のおそれがある。 (c) 大口径の発熱素線は、発熱時に垂れ下がりが
生じ、反応管との距離が区々になるため、加熱
温度が不均一になるおそれがある。 そこで、この発明は、発熱素線の支持の信頼性
を高めるとともに、半導体ウエハ等の被熱処理物
に対して均熱処理ができる熱処理装置の提供を目
的とする。
持には、次のような欠点がある。 (a) 炉本体の断熱材に透孔を形成して発熱素線を
支持していることから、放熱が高く、水冷ジヤ
ケツトを配置することができない。 (b) カンタルロツトと称する金属物および支持用
セラミツク部材の脱落のおそれがある。 (c) 大口径の発熱素線は、発熱時に垂れ下がりが
生じ、反応管との距離が区々になるため、加熱
温度が不均一になるおそれがある。 そこで、この発明は、発熱素線の支持の信頼性
を高めるとともに、半導体ウエハ等の被熱処理物
に対して均熱処理ができる熱処理装置の提供を目
的とする。
この発明の熱処理装置は、装置本体（炉本体２
０）に設置されて被熱処理物の周面の全部又は一
部を包囲する発熱素線６と、この発熱素線を係止
部１２，２４に係止させて挟み込む胴体部８とと
もにこの胴体部に一体に形成された腕部１０を以
て前記発熱素線を支持する支持片２，４と、この
支持片の前記腕部を支持部１４４に支持せて前記
発熱素線を前記装置本体に取り付け、前記支持片
と前記装置本体との間に空気層を形成するととも
に前記支持片の移動を許容する空間部２３を形成
した取付枠１４Ａ，１４Ｂ又は保持枠１５とを備
えたことを特徴とする。
０）に設置されて被熱処理物の周面の全部又は一
部を包囲する発熱素線６と、この発熱素線を係止
部１２，２４に係止させて挟み込む胴体部８とと
もにこの胴体部に一体に形成された腕部１０を以
て前記発熱素線を支持する支持片２，４と、この
支持片の前記腕部を支持部１４４に支持せて前記
発熱素線を前記装置本体に取り付け、前記支持片
と前記装置本体との間に空気層を形成するととも
に前記支持片の移動を許容する空間部２３を形成
した取付枠１４Ａ，１４Ｂ又は保持枠１５とを備
えたことを特徴とする。
【作用】
この発明の熱処理装置では、発熱素線が支持片
を介して取付枠に移動可能に取り付けられて装置
本体に対する発熱素線の取付けの信頼性が高めら
れ、しかも、発熱素線の移動を許容するとともに
発熱素線の背面部側、即ち、支持片と装置本体と
の間に空気層が形成されている。したがつて、空
気層によつて断熱機能及び蓄熱機能が得られるの
で均熱効果に寄与するとともに、熱膨張や収縮に
よる発熱素線の変形に応じて支持片が取付枠内で
移動できるため、その移動によつて発熱素線の形
状変化が吸収され、熱的な変形による発熱素線の
損傷防止が図られている。
を介して取付枠に移動可能に取り付けられて装置
本体に対する発熱素線の取付けの信頼性が高めら
れ、しかも、発熱素線の移動を許容するとともに
発熱素線の背面部側、即ち、支持片と装置本体と
の間に空気層が形成されている。したがつて、空
気層によつて断熱機能及び蓄熱機能が得られるの
で均熱効果に寄与するとともに、熱膨張や収縮に
よる発熱素線の変形に応じて支持片が取付枠内で
移動できるため、その移動によつて発熱素線の形
状変化が吸収され、熱的な変形による発熱素線の
損傷防止が図られている。
以下、この発明を図面に示した実施例を参照し
て説明する。 第１図ないし第４図は、この発明の熱処理装置
の一実施例を示す。 この熱処理装置には、第１図に示すように、第
１の支持片２と補助的な第２の支持片４とが設け
られており、各支持片２，４は、被支持部材であ
る発熱素線６を支持するためにセラミツク等、十
分な機械的強度を持つ断熱材料で形成する。 支持片２は、偏平な胴体部８の頂部の左右に腕
部１０を一体に形成するとともに、胴体部８の両
側部に発熱素線６の形状に合わせて凹部を成す係
止部１２を形成したものである。この実施例の場
合、発熱素線６は断面円形の棒状体を成してお
り、係止部１２は、この発熱素線６を挟み込むた
めに発熱素線６の外形に対応した湾曲凹部に形成
されている。そして、この支持片２には、胴体部
８とＴ字形を成す腕部１０が一体に形成されてい
る。 また、支持片４は、２つの支持片２の間に設置
されて両者間に挟み込まれるものであり、支持片
２の係止部１２に対応する側面部には、支持片２
の係止部１２と同様の凹部を成す係止部２４が形
成されている。したがつて、発熱素線６は、第３
図に示すように、支持片２と支持片４とを接合し
て各係止部１２，２４間を合致させることで各係
止部１２，２４の内部に一定幅で挟み込まれて支
持される。 そして、支持片２を介して発熱素線６を装置本
体に取り付ける取付手段として取付枠１４Ａ，１
４Ｂが設置されている。各取付枠１４Ａ，１４Ｂ
には装置本体側に固定すべき固定部１４０が形成
され、この固定部１４０には、腕部１０の厚みよ
り大きい幅を持つ立壁部１４２がＬ字形に形成さ
れ、この立壁部１４２に支持片２を支持させる支
持部１４４が固定部１４０とは反対側に立壁部１
４２とＬ字形を成して形成されている。各取付枠
１４Ａ，１４Ｂはインコネル板で一体に形成さ
れ、固定部１４０にはねじ孔１６が形成されてい
る。したがつて、各取付枠１４Ａ，１４Ｂは、第
２図に示すように、支持部１４４を相対向させて
装置本体側の内壁部分に配置され、各ねじ孔１６
に固定手段としてのボルト１８を似て取付部材と
して装置本体、即ち、炉本体２０に固定される。
そして、取付片１４Ａ，１４Ｂには、立壁部１４
２の幅によつて支持片２の移動を許容する空間部
２３が形成されている。 このように熱処理装置を構成すれば、炉本体２
０に対して取付枠１４Ａ，１４Ｂをボルト１８に
よつて取り付け、各取付枠１４Ａ，１４Ｂに対し
て各支持片２を支持させるとともに、隣接する支
持片２，２の間に支持片４を挟み込み、両者の係
止部１２，２４間に発熱素線６を挿入すれば、第
３図に示すように、多数の発熱素線６は一定の間
隔で強固かつ簡単な構造で炉本体２０に取り付け
ることができる。 そして、支持片２の背面部側には、取付枠１４
Ａ，１４Ｂの立壁部１４２の幅が支持片２の腕部
１０の厚みより大きいため、炉本体２０の内壁部
と支持片２との間に空間部２３が形成されるとと
もに、支持片２は取付枠１４Ａ，１４Ｂに移動可
能に取り付けられている。即ち、空間部２３によ
つて発熱素線６の移動が許容されるとともに支持
片２と炉本体２０の内壁部との間に空気層が形成
され、この空気層によつて断熱機能及び蓄熱機能
が得られる。したがつて、発熱素線６の背面側に
形成された空気層が均熱効果に寄与し、熱膨張や
収縮による発熱素線６の変形に応じて支持片２が
取付枠内で移動するため、発熱素線６の形状変化
が空間部２３で吸収され、熱的な変形による損傷
から発熱素線６が保護されている。 また、各支持片２，４によつて発熱素線６が支
持されるので、発熱素線６が湾曲しているような
場合にも、発熱素線６の炉本体２０への組込みが
容易であり、熱処理装置の製造時間の短縮が図ら
れる。 さらに、支持片４の幅を加減すれば、任意の間
隔で発熱素線６の設置間隔を調整することがで
き、発熱分布を支持片４の幅によつても制御する
ことができる。 次に、第４図は、この発明の熱処理装置の具体
的な実施例を示す。この実施例では、発熱素線６
を設置すべき装置本体として円筒形の炉本体２０
が用いられ、この炉本体２０の内壁面部には取付
枠１４Ａ，１４Ｂが長手方向に連続的に取り付け
られている。この場合、取付枠１４Ａ，１４Ｂ
は、その炉本体２０の内壁部にボルト１８によつ
て固定される。各取付枠１４Ａ，１４Ｂの間に支
持片２，４を以て例えば、コイル状を成す発熱素
線６が取り付けられている。 このような熱処理装置によれば、被熱処理物と
して半導体ウエハ等をボートとともに発熱素線６
の内側に搬入し、所望の熱処理を行うことができ
る。 次に、第５図及び第６図は、この発明の熱処理
装置の他の実施例を示す。 この実施例は、支持片２の係止部を突部１３に
よつて構成したものであり、各突部１３の上面部
を発熱素線６の外形に合わせて湾曲形状とし、同
様に、支持片４の係止部として支持片２に対応し
た突部２５を形成し、その下側を発熱素線６に合
わせて湾曲形状としたものである。 そして、前記実施例の取付枠１４Ａ，１４Ｂに
代えて、支持片２の腕部１０を保持するコ字形状
を成す保持枠１５を用いてもよい。この場合、保
持枠１５には、装置本体側に固定すべき固定部１
５０が形成され、この固定部１５０には立壁部１
５２が腕部１０の厚みより大きい高さでＬ字形に
形成されているとともに、支持片２を係止させる
係止部１５４が相対向して立壁部１５２に対して
Ｌ字形に形成されている。 したがつて、このような熱処理装置によつて
も、前記実施例と同様の作用効果が得られるとと
もに、前記実施例の取付１４Ａ，１４Ｂが一つの
取付枠１５として構成されているので、発熱素線
６を簡単な構造で強固に支持できる等の利点もあ
る。 また、第６図に示すように、支持片２のみで発
熱素線６を支持するようにしてもよく、このよう
にすれば、発熱素線６を支持片２の係止部１２の
間隔で支持することができる。
て説明する。 第１図ないし第４図は、この発明の熱処理装置
の一実施例を示す。 この熱処理装置には、第１図に示すように、第
１の支持片２と補助的な第２の支持片４とが設け
られており、各支持片２，４は、被支持部材であ
る発熱素線６を支持するためにセラミツク等、十
分な機械的強度を持つ断熱材料で形成する。 支持片２は、偏平な胴体部８の頂部の左右に腕
部１０を一体に形成するとともに、胴体部８の両
側部に発熱素線６の形状に合わせて凹部を成す係
止部１２を形成したものである。この実施例の場
合、発熱素線６は断面円形の棒状体を成してお
り、係止部１２は、この発熱素線６を挟み込むた
めに発熱素線６の外形に対応した湾曲凹部に形成
されている。そして、この支持片２には、胴体部
８とＴ字形を成す腕部１０が一体に形成されてい
る。 また、支持片４は、２つの支持片２の間に設置
されて両者間に挟み込まれるものであり、支持片
２の係止部１２に対応する側面部には、支持片２
の係止部１２と同様の凹部を成す係止部２４が形
成されている。したがつて、発熱素線６は、第３
図に示すように、支持片２と支持片４とを接合し
て各係止部１２，２４間を合致させることで各係
止部１２，２４の内部に一定幅で挟み込まれて支
持される。 そして、支持片２を介して発熱素線６を装置本
体に取り付ける取付手段として取付枠１４Ａ，１
４Ｂが設置されている。各取付枠１４Ａ，１４Ｂ
には装置本体側に固定すべき固定部１４０が形成
され、この固定部１４０には、腕部１０の厚みよ
り大きい幅を持つ立壁部１４２がＬ字形に形成さ
れ、この立壁部１４２に支持片２を支持させる支
持部１４４が固定部１４０とは反対側に立壁部１
４２とＬ字形を成して形成されている。各取付枠
１４Ａ，１４Ｂはインコネル板で一体に形成さ
れ、固定部１４０にはねじ孔１６が形成されてい
る。したがつて、各取付枠１４Ａ，１４Ｂは、第
２図に示すように、支持部１４４を相対向させて
装置本体側の内壁部分に配置され、各ねじ孔１６
に固定手段としてのボルト１８を似て取付部材と
して装置本体、即ち、炉本体２０に固定される。
そして、取付片１４Ａ，１４Ｂには、立壁部１４
２の幅によつて支持片２の移動を許容する空間部
２３が形成されている。 このように熱処理装置を構成すれば、炉本体２
０に対して取付枠１４Ａ，１４Ｂをボルト１８に
よつて取り付け、各取付枠１４Ａ，１４Ｂに対し
て各支持片２を支持させるとともに、隣接する支
持片２，２の間に支持片４を挟み込み、両者の係
止部１２，２４間に発熱素線６を挿入すれば、第
３図に示すように、多数の発熱素線６は一定の間
隔で強固かつ簡単な構造で炉本体２０に取り付け
ることができる。 そして、支持片２の背面部側には、取付枠１４
Ａ，１４Ｂの立壁部１４２の幅が支持片２の腕部
１０の厚みより大きいため、炉本体２０の内壁部
と支持片２との間に空間部２３が形成されるとと
もに、支持片２は取付枠１４Ａ，１４Ｂに移動可
能に取り付けられている。即ち、空間部２３によ
つて発熱素線６の移動が許容されるとともに支持
片２と炉本体２０の内壁部との間に空気層が形成
され、この空気層によつて断熱機能及び蓄熱機能
が得られる。したがつて、発熱素線６の背面側に
形成された空気層が均熱効果に寄与し、熱膨張や
収縮による発熱素線６の変形に応じて支持片２が
取付枠内で移動するため、発熱素線６の形状変化
が空間部２３で吸収され、熱的な変形による損傷
から発熱素線６が保護されている。 また、各支持片２，４によつて発熱素線６が支
持されるので、発熱素線６が湾曲しているような
場合にも、発熱素線６の炉本体２０への組込みが
容易であり、熱処理装置の製造時間の短縮が図ら
れる。 さらに、支持片４の幅を加減すれば、任意の間
隔で発熱素線６の設置間隔を調整することがで
き、発熱分布を支持片４の幅によつても制御する
ことができる。 次に、第４図は、この発明の熱処理装置の具体
的な実施例を示す。この実施例では、発熱素線６
を設置すべき装置本体として円筒形の炉本体２０
が用いられ、この炉本体２０の内壁面部には取付
枠１４Ａ，１４Ｂが長手方向に連続的に取り付け
られている。この場合、取付枠１４Ａ，１４Ｂ
は、その炉本体２０の内壁部にボルト１８によつ
て固定される。各取付枠１４Ａ，１４Ｂの間に支
持片２，４を以て例えば、コイル状を成す発熱素
線６が取り付けられている。 このような熱処理装置によれば、被熱処理物と
して半導体ウエハ等をボートとともに発熱素線６
の内側に搬入し、所望の熱処理を行うことができ
る。 次に、第５図及び第６図は、この発明の熱処理
装置の他の実施例を示す。 この実施例は、支持片２の係止部を突部１３に
よつて構成したものであり、各突部１３の上面部
を発熱素線６の外形に合わせて湾曲形状とし、同
様に、支持片４の係止部として支持片２に対応し
た突部２５を形成し、その下側を発熱素線６に合
わせて湾曲形状としたものである。 そして、前記実施例の取付枠１４Ａ，１４Ｂに
代えて、支持片２の腕部１０を保持するコ字形状
を成す保持枠１５を用いてもよい。この場合、保
持枠１５には、装置本体側に固定すべき固定部１
５０が形成され、この固定部１５０には立壁部１
５２が腕部１０の厚みより大きい高さでＬ字形に
形成されているとともに、支持片２を係止させる
係止部１５４が相対向して立壁部１５２に対して
Ｌ字形に形成されている。 したがつて、このような熱処理装置によつて
も、前記実施例と同様の作用効果が得られるとと
もに、前記実施例の取付１４Ａ，１４Ｂが一つの
取付枠１５として構成されているので、発熱素線
６を簡単な構造で強固に支持できる等の利点もあ
る。 また、第６図に示すように、支持片２のみで発
熱素線６を支持するようにしてもよく、このよう
にすれば、発熱素線６を支持片２の係止部１２の
間隔で支持することができる。
以上説明したように、この発明によれば、装置
本体に発熱素線を強固に取り付けることができる
とともに、発熱素線を支持する支持片と装置本体
との間に空間部が形成されているので、この空間
部における空気相が断熱機能及び蓄熱機能を持つ
ことから、発熱素線の発熱が支持片を介して熱処
理装置外部へ放熱されることがなく、支持片部分
からの部分的な放熱が減少し、被熱処理物に対す
る均熱加熱を得ることができ、しかも、発熱素線
の熱膨張、収縮による機械的な変形を許容し、発
熱素線の膨張、収縮等の内部応力による損傷を効
果的に防止でき、均熱効果の向上とともに発熱素
線の耐久性を維持助長させることができる。
本体に発熱素線を強固に取り付けることができる
とともに、発熱素線を支持する支持片と装置本体
との間に空間部が形成されているので、この空間
部における空気相が断熱機能及び蓄熱機能を持つ
ことから、発熱素線の発熱が支持片を介して熱処
理装置外部へ放熱されることがなく、支持片部分
からの部分的な放熱が減少し、被熱処理物に対す
る均熱加熱を得ることができ、しかも、発熱素線
の熱膨張、収縮による機械的な変形を許容し、発
熱素線の膨張、収縮等の内部応力による損傷を効
果的に防止でき、均熱効果の向上とともに発熱素
線の耐久性を維持助長させることができる。
第１図はこの発明の熱処理装置の実施例を示す
分解斜視図、第２図は第１図に示した熱処理装置
の組立状態を示す断面図、第３図は第２図に示し
た熱処理装置の−線断面図、第４図はこの発
明の熱処理装置の一実施例である全体的構成を示
す断面図、第５図はこの発明の熱処理装置の他の
実施例を示す分解斜視図、第６図はこの発明の熱
処理装置の他の実施例を示す断面図である。 ２……第１の支持片、４……第２の支持片、６
……発熱素線、８……胴体部、１０……腕部、１
２，２４……係止部、１３，２５……係止部とし
ての突部、１４Ａ，１４Ｂ，１５……取付枠、２
０……炉本体（装置本体）、２３……空間部、１
４４……支持部。
分解斜視図、第２図は第１図に示した熱処理装置
の組立状態を示す断面図、第３図は第２図に示し
た熱処理装置の−線断面図、第４図はこの発
明の熱処理装置の一実施例である全体的構成を示
す断面図、第５図はこの発明の熱処理装置の他の
実施例を示す分解斜視図、第６図はこの発明の熱
処理装置の他の実施例を示す断面図である。 ２……第１の支持片、４……第２の支持片、６
……発熱素線、８……胴体部、１０……腕部、１
２，２４……係止部、１３，２５……係止部とし
ての突部、１４Ａ，１４Ｂ，１５……取付枠、２
０……炉本体（装置本体）、２３……空間部、１
４４……支持部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 装置本体に設置されて被熱処理物の周面の全
部又は一部を包囲する発熱素線と、 この発熱素線を係止部に係止させて挟み込む胴
体部とともにこの胴体部に一体に形成された腕部
を以て前記発熱素線を支持する支持片と、 この支持片の前記腕部を支持部に支持させて前
記発熱素線を前記装置本体に取り付け、前記支持
片と前記装置本体との間に空気層を形成するとと
もに前記支持片の移動を許容する空間部を形成し
た取付枠と、 を備えたことを特徴とする熱処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1256686A JPS62170186A (ja) | 1986-01-23 | 1986-01-23 | 熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1256686A JPS62170186A (ja) | 1986-01-23 | 1986-01-23 | 熱処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62170186A JPS62170186A (ja) | 1987-07-27 |
| JPH0410199B2 true JPH0410199B2 (ja) | 1992-02-24 |
Family
ID=11808902
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1256686A Granted JPS62170186A (ja) | 1986-01-23 | 1986-01-23 | 熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62170186A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH079036Y2 (ja) * | 1990-11-13 | 1995-03-06 | 東京エレクトロン東北株式会社 | 縦型熱処理炉 |
| JPH10233277A (ja) * | 1997-02-18 | 1998-09-02 | Tokyo Electron Ltd | 熱処理装置 |
| US6807220B1 (en) * | 2003-05-23 | 2004-10-19 | Mrl Industries | Retention mechanism for heating coil of high temperature diffusion furnace |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5367941U (ja) * | 1976-11-10 | 1978-06-07 | ||
| JPS561116U (ja) * | 1979-06-19 | 1981-01-08 | ||
| JPS5623675U (ja) * | 1979-07-30 | 1981-03-03 |
-
1986
- 1986-01-23 JP JP1256686A patent/JPS62170186A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62170186A (ja) | 1987-07-27 |
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