JPH0410570A - 固体撮像装置 - Google Patents
固体撮像装置Info
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- JPH0410570A JPH0410570A JP2110472A JP11047290A JPH0410570A JP H0410570 A JPH0410570 A JP H0410570A JP 2110472 A JP2110472 A JP 2110472A JP 11047290 A JP11047290 A JP 11047290A JP H0410570 A JPH0410570 A JP H0410570A
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- Japan
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- semiconductor region
- state imaging
- imaging device
- mos transistor
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は光電変換素子及びそれを用いた固体撮像装置に
係り、特に光電変換された信号電荷を非破壊で保持し、
この信号電荷に対応する信号を増幅して8カすることが
可能な光電変換素子及びそれを用いた固体撮像装置に関
する。
係り、特に光電変換された信号電荷を非破壊で保持し、
この信号電荷に対応する信号を増幅して8カすることが
可能な光電変換素子及びそれを用いた固体撮像装置に関
する。
[従来の技術]
近年、固体撮像装置等において、光電変換された信号電
荷を増幅して圧力する増幅型の光電変換素子が検討され
ており、その一つにベースに光キャリアを蓄積し、エミ
ッタから出力するというバイポーラトランジスタ型の光
電変換素子(以下、バイポーラ型センサという)を用い
た固体撮像装置がある。
荷を増幅して圧力する増幅型の光電変換素子が検討され
ており、その一つにベースに光キャリアを蓄積し、エミ
ッタから出力するというバイポーラトランジスタ型の光
電変換素子(以下、バイポーラ型センサという)を用い
た固体撮像装置がある。
第8図は、上記バイポーラ型センサを用いた固体撮像装
置の光電変換部及び信号読出部の回路構成図である。
置の光電変換部及び信号読出部の回路構成図である。
第8図において、1はバイポーラ型センサ、2はバイポ
ーラ型センサ1のベース電位を制御するための容量、3
はバイポーラ型センサ1のベース電位をリセットするた
めのpMOSl−ランジスタであり、バイポーラ型セン
サl、容量2゜pMOSトランジスタ3で1つの単位画
素が構成される。4は垂直出力線、5は水平駆動線、6
は垂直出力線4をリセットするためのMOSトランジス
タ、7は画素からの出力信号を蓄積するための容量、8
は画素からの出力を容量7へ転送するためのMO3I−
ランジスタ、9は水平出力線、10は容量7の出力を水
平出力線9へ転送するためのMOSトランジスタ、11
は垂直シフトレジスタに選択されて、駆動パルスを画素
へ印加するためのバッファ用のMOSトランジスタ、1
2はセンサ出力を出すプリアンプ、13はMOSトラン
ジスタ6のゲートにパルスを印加するための入力端子、
14はMOS)ランジスタ8のゲートにパルスを印加す
るための入力端子、15は駆動パルスをMOSトランジ
スタ11に印加するための入力端子、16は圧力端子で
ある。
ーラ型センサ1のベース電位を制御するための容量、3
はバイポーラ型センサ1のベース電位をリセットするた
めのpMOSl−ランジスタであり、バイポーラ型セン
サl、容量2゜pMOSトランジスタ3で1つの単位画
素が構成される。4は垂直出力線、5は水平駆動線、6
は垂直出力線4をリセットするためのMOSトランジス
タ、7は画素からの出力信号を蓄積するための容量、8
は画素からの出力を容量7へ転送するためのMO3I−
ランジスタ、9は水平出力線、10は容量7の出力を水
平出力線9へ転送するためのMOSトランジスタ、11
は垂直シフトレジスタに選択されて、駆動パルスを画素
へ印加するためのバッファ用のMOSトランジスタ、1
2はセンサ出力を出すプリアンプ、13はMOSトラン
ジスタ6のゲートにパルスを印加するための入力端子、
14はMOS)ランジスタ8のゲートにパルスを印加す
るための入力端子、15は駆動パルスをMOSトランジ
スタ11に印加するための入力端子、16は圧力端子で
ある。
第9図は、光電変換部及び信号読出部の動作を説明する
ためのタイミングチャートである。
ためのタイミングチャートである。
第9図に示すように、入力端子13に入力されるパルス
φvcをハイレベルに維持したまま、入力端子14に入
力されるパルス中工をハイレベルとし、MOSトランジ
スタ8をON状態とすると、垂直出力線4はMOSトラ
ンジスタ6を通してGNDに固定されているため、容量
7もGNDにリセットされる。
φvcをハイレベルに維持したまま、入力端子14に入
力されるパルス中工をハイレベルとし、MOSトランジ
スタ8をON状態とすると、垂直出力線4はMOSトラ
ンジスタ6を通してGNDに固定されているため、容量
7もGNDにリセットされる。
次に、パルスφvcをロウレベルとして、MOSトラン
ジスタ6をOFF状態とし、水平駆動線5及び容量7を
フローティングとする。この状態で入力端子15に入力
されるパルスφ8をハイレベルにすると、容量2を通し
てバイポーラ型センサ1のベース電位が持ち上げられで
、光キャリアが蓄積されたベース領域のベース電位に対
応した電位の信号がエミッタに出力される。
ジスタ6をOFF状態とし、水平駆動線5及び容量7を
フローティングとする。この状態で入力端子15に入力
されるパルスφ8をハイレベルにすると、容量2を通し
てバイポーラ型センサ1のベース電位が持ち上げられで
、光キャリアが蓄積されたベース領域のベース電位に対
応した電位の信号がエミッタに出力される。
次に、パルスφアをロウレベル、パルスφ8をミドルレ
ベル、パルスφVCをハイレベルとした後、パルスφ8
をロウレベルとすると、pMOSトランジスタ3がON
状態となり、バイポーラ型センサ1のベースが接地され
る。パルスφ8のレベルがロウレベルをへてハイレベル
になると、バイポーラ型センサ1のベース−エミッタ間
が順バイアス状態となり、ベース電流によってベース電
位は下がってゆく。
ベル、パルスφVCをハイレベルとした後、パルスφ8
をロウレベルとすると、pMOSトランジスタ3がON
状態となり、バイポーラ型センサ1のベースが接地され
る。パルスφ8のレベルがロウレベルをへてハイレベル
になると、バイポーラ型センサ1のベース−エミッタ間
が順バイアス状態となり、ベース電流によってベース電
位は下がってゆく。
パルスφ8のレベルがハイレベルからロウレベルになる
と、容量2を通した容量カップリングによりベース電位
は下がり、エミッターベース間は逆バイアスになり、光
キャリアの蓄積が開始される。
と、容量2を通した容量カップリングによりベース電位
は下がり、エミッターベース間は逆バイアスになり、光
キャリアの蓄積が開始される。
以上説明した固体撮像装置は、画素を構成するバイポー
ラ型センサのベースに蓄積した光キャリアを増幅して読
み出すことができるために、読み出し回路系のノイズに
影響されにくいという長所を有している。
ラ型センサのベースに蓄積した光キャリアを増幅して読
み出すことができるために、読み出し回路系のノイズに
影響されにくいという長所を有している。
[発明が解決しようとしている課題]
しかしながら、上記従来の固体撮像装置では、画素信号
の読み畠し時には、バイポーラ型センサのエミッタ、ベ
ース間を順バイアスとするため、ベースに蓄積された光
電荷の一部分は必ず消滅する。この信号の破壊量は毎回
の読み出しごとにゆらぐので、ランダムノイズが大きく
なる。このように、信号破壊が大きいと信号が小さくな
り、雑音が大きくなるのでS/N比が悪(なるという問
題があった。
の読み畠し時には、バイポーラ型センサのエミッタ、ベ
ース間を順バイアスとするため、ベースに蓄積された光
電荷の一部分は必ず消滅する。この信号の破壊量は毎回
の読み出しごとにゆらぐので、ランダムノイズが大きく
なる。このように、信号破壊が大きいと信号が小さくな
り、雑音が大きくなるのでS/N比が悪(なるという問
題があった。
一方、信号の破壊を抑えるためには電流増幅率hriを
大きくすればよいが、どの画素のバイポーラ型センサも
、均一に大きなhFEを持つように製造することは難し
く、画素構造のバラツキが原因となる固定パターンノイ
ズが大きくなるという問題があった。
大きくすればよいが、どの画素のバイポーラ型センサも
、均一に大きなhFEを持つように製造することは難し
く、画素構造のバラツキが原因となる固定パターンノイ
ズが大きくなるという問題があった。
本発明は、上記の問題点を解決することが可能な光電変
換素子及び固体撮像装置を提供するものである。
換素子及び固体撮像装置を提供するものである。
[課題を解決するための手段]
本発明の光電変換素子は、一導電型の第1の半導体領域
と、この第1の半導体領域の外部に形成された、第1の
半導体領域と反対導電型の第2の半導体領域と、 前記第1の半導体領域の内部に形成された第1の半導体
領域と反対導電型の第3の半導体領域と、 前記第2の半導体領域と第3の半導体領域との間の前記
第1の半導体領域上に絶縁膜を介して形成された制御電
極と、 を有することを特徴とする。
と、この第1の半導体領域の外部に形成された、第1の
半導体領域と反対導電型の第2の半導体領域と、 前記第1の半導体領域の内部に形成された第1の半導体
領域と反対導電型の第3の半導体領域と、 前記第2の半導体領域と第3の半導体領域との間の前記
第1の半導体領域上に絶縁膜を介して形成された制御電
極と、 を有することを特徴とする。
本発明の固体撮像装置は、上記光電変換素子を単位画素
として用いたことを特徴とする。
として用いたことを特徴とする。
[作 用]
本発明の光電変換素子は、第1の半導体領域と、第2の
半導体領域及び前記第3の半導体領域と、第2の半導体
領域と第3の半導体領域との間の第1の半導体領域上に
絶縁膜を介して形成された制御電極とにより絶縁ゲート
型トランジスタを形成し、 フローティングとなった第1の半導体領域に光電荷を蓄
積しくまたは蓄積された光電荷を転送し)、この第1の
半導体領域の電位変化による絶縁ゲート型トランジスタ
の■。変動を出力の変化として信号の読み出しを行うこ
とにより、読み出し時において、完全に非破壊で、蓄積
された電荷に対応する信号を出力するものである。
半導体領域及び前記第3の半導体領域と、第2の半導体
領域と第3の半導体領域との間の第1の半導体領域上に
絶縁膜を介して形成された制御電極とにより絶縁ゲート
型トランジスタを形成し、 フローティングとなった第1の半導体領域に光電荷を蓄
積しくまたは蓄積された光電荷を転送し)、この第1の
半導体領域の電位変化による絶縁ゲート型トランジスタ
の■。変動を出力の変化として信号の読み出しを行うこ
とにより、読み出し時において、完全に非破壊で、蓄積
された電荷に対応する信号を出力するものである。
本発明の固体撮像装置は、上記光電変換素子を単位画素
として用いたものであって、各画素に蓄積された電荷に
対応する信号を出力するものである。
として用いたものであって、各画素に蓄積された電荷に
対応する信号を出力するものである。
[実施例]
以下、本発明の実施例について図面を用いて詳細に説明
する。
する。
なお、本発明の光電変換素子は固体撮像装置に限定され
るものではな(、他の用途に用いることもできる。
るものではな(、他の用途に用いることもできる。
第1図は、本発明の固体撮像装置の第1実施例の光電変
換部の一画素の平面図であり、第2図は、第1図のx−
x ′縦断面図であり、第3図は第1図のY−Y ’縦
断面図である。
換部の一画素の平面図であり、第2図は、第1図のx−
x ′縦断面図であり、第3図は第1図のY−Y ’縦
断面図である。
第1図、第2図、及び第3図において、17は不純物濃
度の薄いn−領域、18はシリコン酸化膜、19は光電
荷が蓄積されるP型ウェルであり、画素ごとに独立して
いる。20はY−Y ′方向の素子分離領域とMOSト
ランジスタのドレインとを兼ねたn′″領域、21はM
OS)ランジスタのソースとなるn′″領域、22はM
OSトランジスタのゲートであると同時にx−x ′方
向に隣接するP型ウェルをソース、ドレインとするP型
MO8I−ランジスタのゲートも兼ねた水平駆動線、2
3はソースとなるn゛領域21に接続する垂直出力線、
24はソースとなるn゛領域21と出力線23を接続す
るためのコンタクトホール、25は層間絶縁膜である。
度の薄いn−領域、18はシリコン酸化膜、19は光電
荷が蓄積されるP型ウェルであり、画素ごとに独立して
いる。20はY−Y ′方向の素子分離領域とMOSト
ランジスタのドレインとを兼ねたn′″領域、21はM
OS)ランジスタのソースとなるn′″領域、22はM
OSトランジスタのゲートであると同時にx−x ′方
向に隣接するP型ウェルをソース、ドレインとするP型
MO8I−ランジスタのゲートも兼ねた水平駆動線、2
3はソースとなるn゛領域21に接続する垂直出力線、
24はソースとなるn゛領域21と出力線23を接続す
るためのコンタクトホール、25は層間絶縁膜である。
第4図は本発明の固体撮像装置の第1実施例の光電変換
部及び信号読出部の等価回路図である。
部及び信号読出部の等価回路図である。
なお、第8図と共通な構成部材は、同一符号を付して説
明を省略するものとする。
明を省略するものとする。
同図において、26は画素を構成する、容量(Pウェル
)を有するMOSトランジスタ、27はリセット用のM
OS)ランジスタロのソースの電源端子、28は抵抗負
荷用のMOSトランジスタ、29は、MOSトランジス
タ28のゲートにパルスを印加するための入力端子であ
る。
)を有するMOSトランジスタ、27はリセット用のM
OS)ランジスタロのソースの電源端子、28は抵抗負
荷用のMOSトランジスタ、29は、MOSトランジス
タ28のゲートにパルスを印加するための入力端子であ
る。
第4図のセンサ画素を動作させるための駆動パルスを第
5図に示す。
5図に示す。
この第5図のタイミングチャートは、パルスφ7を除い
て第9図に示したものと同じであるが、画素からの信号
読出し時には、入力端子29に入力するパルスφ9がハ
イレベルとなり、MOSトランジスタ28とMOSトラ
ンジスタ26とでソースフォロワが形成される。
て第9図に示したものと同じであるが、画素からの信号
読出し時には、入力端子29に入力するパルスφ9がハ
イレベルとなり、MOSトランジスタ28とMOSトラ
ンジスタ26とでソースフォロワが形成される。
入力端子15に入力するパルスφ8のハイレベルの値は
、MOSトランジスタ26をON状態とさせるのに十分
なレベルに設定され、また電源端子27に印加される電
圧は負電圧であり、画素部のPウェルリセット時もPウ
ェル電位が負となるようにし、画素の読み出し時にもソ
ースとPウェルは逆バイアスが保たれるように設定され
ている。
、MOSトランジスタ26をON状態とさせるのに十分
なレベルに設定され、また電源端子27に印加される電
圧は負電圧であり、画素部のPウェルリセット時もPウ
ェル電位が負となるようにし、画素の読み出し時にもソ
ースとPウェルは逆バイアスが保たれるように設定され
ている。
以上のような信号読み出し動作を行うと、画素の出力時
にPウェルの電荷は完全に非破壊であるので、従来例の
ような電荷破壊による信号の減少、ランダムノイズの増
加はなく、高いS/N比を持つ固体撮像装置を供給する
ことができる。
にPウェルの電荷は完全に非破壊であるので、従来例の
ような電荷破壊による信号の減少、ランダムノイズの増
加はなく、高いS/N比を持つ固体撮像装置を供給する
ことができる。
第6図は、本発明の固体撮像装置の第2実施例を示す光
電変換部の一画素及び単位読み出し系を表わす等価回路
図である。
電変換部の一画素及び単位読み出し系を表わす等価回路
図である。
第4図における容量7.MOSトランジスタ8、水平出
力線9.MOSトランジスタ10.入力端子14から構
成される信号の蓄積、水平転送のための回路が本実施例
では2つ並列に設けられ、容量7−1.MOSトランジ
スタ8−1.水平出力線9−1.MOS)ランジスタ1
0−1.入力端子14−1、及び容量7−2.MOSト
ランジスタ8−2.水平出力線9−2.MOSl−ラン
ジスタ10−2.入力端子14−2で回路が形成されて
いる。
力線9.MOSトランジスタ10.入力端子14から構
成される信号の蓄積、水平転送のための回路が本実施例
では2つ並列に設けられ、容量7−1.MOSトランジ
スタ8−1.水平出力線9−1.MOS)ランジスタ1
0−1.入力端子14−1、及び容量7−2.MOSト
ランジスタ8−2.水平出力線9−2.MOSl−ラン
ジスタ10−2.入力端子14−2で回路が形成されて
いる。
また画素部は、すでに第4図で説明したn型のMOSト
ランジスタ26と、光電荷をそのソースに蓄積し、蓄積
された光電荷をMOSトランジスタ26のPウェルへ転
送するためのp型のMOSトランジスタ30とから成っ
ている。このp型MO3)ランジスタ30は電荷を転送
すると、光蓄積部のソースが完全空乏化し、ホールの数
がOになるように形成されている。
ランジスタ26と、光電荷をそのソースに蓄積し、蓄積
された光電荷をMOSトランジスタ26のPウェルへ転
送するためのp型のMOSトランジスタ30とから成っ
ている。このp型MO3)ランジスタ30は電荷を転送
すると、光蓄積部のソースが完全空乏化し、ホールの数
がOになるように形成されている。
かかる固体撮像製装置の信号読み出し動作は次のように
行われる。
行われる。
まず、水平駆動線5に入力するパルスφ賎をハイレベル
とするとともに、パルスφVCをハイレベルとしてMO
Sトランジスタ6をON状態とし、MOSトランジスタ
26のPウェルのリセットを行う。この直後、MOSト
ランジスタ26とMOSトランジスタ28とのソースフ
ォロワによって、MOSトランジスタ8−1を通し、容
量7−1にリセット出力を蓄積する。
とするとともに、パルスφVCをハイレベルとしてMO
Sトランジスタ6をON状態とし、MOSトランジスタ
26のPウェルのリセットを行う。この直後、MOSト
ランジスタ26とMOSトランジスタ28とのソースフ
ォロワによって、MOSトランジスタ8−1を通し、容
量7−1にリセット出力を蓄積する。
次に、水平駆動線5に入力するパルスφ8をロウレベル
とし、MOS)ランジスタ3oのソースから光電荷をM
OSトランジスタ26のPウェルに転送した後、MOS
トランジスタ26とMOSトランジスタ28のソースフ
ォロワによって、MOSトランジスタ8−2を通して容
量7−2に信号出力を蓄積する。
とし、MOS)ランジスタ3oのソースから光電荷をM
OSトランジスタ26のPウェルに転送した後、MOS
トランジスタ26とMOSトランジスタ28のソースフ
ォロワによって、MOSトランジスタ8−2を通して容
量7−2に信号出力を蓄積する。
それぞれ容量7−1.容量7−2の出力は水平出力線9
−1.9−2を通して出力され、両信号を減算処理する
ことで、ノイズ成分が除去された最終的なセンサー出力
が得られる。
−1.9−2を通して出力され、両信号を減算処理する
ことで、ノイズ成分が除去された最終的なセンサー出力
が得られる。
画素部が暗状態の時、MOS)ランジスタ26のPウェ
ルに転送されるホールの数は0である。
ルに転送されるホールの数は0である。
また、読み出し時にPウェルの電荷は破壊されることが
ないので、暗状態では容量7−1と容量7−2とに蓄積
される出力は同じになり、Pウェルリセット時のPウェ
ル電荷のゆらぎによるランダムノイズ、画素形成時の不
均一性による固定パターンノイズは差をとった最終的セ
ンサ出力には含まれず、きわめて高S/N比の固体撮像
装置を提供することができる。
ないので、暗状態では容量7−1と容量7−2とに蓄積
される出力は同じになり、Pウェルリセット時のPウェ
ル電荷のゆらぎによるランダムノイズ、画素形成時の不
均一性による固定パターンノイズは差をとった最終的セ
ンサ出力には含まれず、きわめて高S/N比の固体撮像
装置を提供することができる。
第7図は、本発明を適用した固体撮像装置の概略的構成
図である。
図である。
同図において、光センサがエリア状に配列された撮像素
子201は、垂直走査部202及び水平走査部203に
よってテレビジョン走査が行なわれる。
子201は、垂直走査部202及び水平走査部203に
よってテレビジョン走査が行なわれる。
水平走査部203がら出方された信号は、処理回路20
4を通して標準テレビジョン信号として出力される。
4を通して標準テレビジョン信号として出力される。
垂直および水平走査部202及び203の駆動パルスφ
Mm、 φMl+ φHN + φVl++ φシ
1.φv2等はドライバ205によって供給される。ま
たドライバ205はコントローラ206によって制限さ
れる。
Mm、 φMl+ φHN + φVl++ φシ
1.φv2等はドライバ205によって供給される。ま
たドライバ205はコントローラ206によって制限さ
れる。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明の光電変換素子は、第1の
半導体領域に光電荷を蓄積しく又は蓄積された光電荷を
転送し)、バックゲートバイアス効果による絶縁ゲート
型トランジスタのVl、変動による出力変化を読み出す
ことにより、読み出し時において、蓄積された電荷を破
壊することなく、蓄積された電荷に対応する信号を出力
することができる。
半導体領域に光電荷を蓄積しく又は蓄積された光電荷を
転送し)、バックゲートバイアス効果による絶縁ゲート
型トランジスタのVl、変動による出力変化を読み出す
ことにより、読み出し時において、蓄積された電荷を破
壊することなく、蓄積された電荷に対応する信号を出力
することができる。
また、第2の半導体領域は第1の半導体領域の外部にあ
り基盤と同電位なので、第2の半導体領域に電圧を供給
するための配線は不要である。
り基盤と同電位なので、第2の半導体領域に電圧を供給
するための配線は不要である。
また、固体撮像装置において、従来のバイポーラ型のセ
ンサは、すべての画素において、読み出しのパルスが同
じ時間印加されねばならず、水平駆動線のRC時定数を
短くするため、駆動線にアルミの裏打ちをする必要があ
り、開口率を狭(していたが、本発明ではそのような必
要がなく、高開口率の画素を形成できる。この結果、高
いSZN比を持つ固体撮像装置を提供することができる
。
ンサは、すべての画素において、読み出しのパルスが同
じ時間印加されねばならず、水平駆動線のRC時定数を
短くするため、駆動線にアルミの裏打ちをする必要があ
り、開口率を狭(していたが、本発明ではそのような必
要がなく、高開口率の画素を形成できる。この結果、高
いSZN比を持つ固体撮像装置を提供することができる
。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の固体撮像装置の第1実施例の光電変
換部の一画素の平面図である。 第2図は、第1図のx−x ′縦断面図である。 第3図は、第1図のY−Y ’縦断面図である。 第4図は本発明の固体撮像装置の第1実施例の光電変換
部及び信号読出部の等価回路図である。 第5図は、上記第1実施例の光電変換部及び信号読出部
の動作を説明するためのタイミングチャートである。 第6図は、本発明の固体撮像装置の第2実施例を示す光
電変換部の一画素及び単位読み出し系を表わす等価回路
図である。 第7図は、本発明を適用した固体撮像装置の概略的構成
図である。 第8図は、上記バイポーラ型センサを用いた固体撮像装
置の光電変換部及び信号続出部の回路構成図である。 第9図は、光電変換部及び信号続出部の動作を説明する
ためのタイミングチャートである。 1はバイポーラ型センサ、2は容量、3はpMOS)ラ
ンジスタ、4は垂直出力線、5は水平駆動線、6はリセ
ット用のMOSトランジスタ、7は容量、8は転送用の
MOSトランジスタ、9は水平出力線、10は転送用の
MOS)−ランジスタ、11はバッファ用のMOS)ラ
ンジスタ、12はプリアンプ、13は入力端子、14は
入力端子、15は入力端子、16は出力端子、17はn
−領域(基盤)、18はシリコン酸化膜、19はP型ウ
ェル、20はn′″領域、21はn0領域、22は水平
駆動線、23は垂直出力線、24はコンタクトホール、
25は層間絶縁膜、26は容量(ウェル)を有するMO
Sトランジスタ、27は電源端子、28は抵抗負荷用の
MOSトランジスタ、 ンジスタ、 2はMOS 出力線、1 り、14− 29は入力端子、30はpMOsトラ 7−1.7−2は容量、8−1.8− トランジスタ、9−1.9−2は水平 0−1.10−2はMOS)ランジス 1.14−2は入力端子である。 第1図
換部の一画素の平面図である。 第2図は、第1図のx−x ′縦断面図である。 第3図は、第1図のY−Y ’縦断面図である。 第4図は本発明の固体撮像装置の第1実施例の光電変換
部及び信号読出部の等価回路図である。 第5図は、上記第1実施例の光電変換部及び信号読出部
の動作を説明するためのタイミングチャートである。 第6図は、本発明の固体撮像装置の第2実施例を示す光
電変換部の一画素及び単位読み出し系を表わす等価回路
図である。 第7図は、本発明を適用した固体撮像装置の概略的構成
図である。 第8図は、上記バイポーラ型センサを用いた固体撮像装
置の光電変換部及び信号続出部の回路構成図である。 第9図は、光電変換部及び信号続出部の動作を説明する
ためのタイミングチャートである。 1はバイポーラ型センサ、2は容量、3はpMOS)ラ
ンジスタ、4は垂直出力線、5は水平駆動線、6はリセ
ット用のMOSトランジスタ、7は容量、8は転送用の
MOSトランジスタ、9は水平出力線、10は転送用の
MOS)−ランジスタ、11はバッファ用のMOS)ラ
ンジスタ、12はプリアンプ、13は入力端子、14は
入力端子、15は入力端子、16は出力端子、17はn
−領域(基盤)、18はシリコン酸化膜、19はP型ウ
ェル、20はn′″領域、21はn0領域、22は水平
駆動線、23は垂直出力線、24はコンタクトホール、
25は層間絶縁膜、26は容量(ウェル)を有するMO
Sトランジスタ、27は電源端子、28は抵抗負荷用の
MOSトランジスタ、 ンジスタ、 2はMOS 出力線、1 り、14− 29は入力端子、30はpMOsトラ 7−1.7−2は容量、8−1.8− トランジスタ、9−1.9−2は水平 0−1.10−2はMOS)ランジス 1.14−2は入力端子である。 第1図
Claims (2)
- (1)一導電型の第1の半導体領域と、 この第1の半導体領域の外部に形成された、第1の半導
体領域と反対導電型の第2の半導体領域と、 前記第1の半導体領域の内部に形成された第1の半導体
領域と反対導電型の第3の半導体領域と、 前記第2の半導体領域と第3の半導体領域との間の前記
第1の半導体領域上に絶縁膜を介して形成された制御電
極と、 を有する光電変換素子。 - (2)請求項1記載の光電変換素子を単位画素として用
いた固体撮像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2110472A JP3016815B2 (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 固体撮像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2110472A JP3016815B2 (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 固体撮像装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0410570A true JPH0410570A (ja) | 1992-01-14 |
| JP3016815B2 JP3016815B2 (ja) | 2000-03-06 |
Family
ID=14536575
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2110472A Expired - Fee Related JP3016815B2 (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 固体撮像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3016815B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0616464A3 (en) * | 1993-03-15 | 1995-01-18 | Canon Kk | Signal processor. |
-
1990
- 1990-04-27 JP JP2110472A patent/JP3016815B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0616464A3 (en) * | 1993-03-15 | 1995-01-18 | Canon Kk | Signal processor. |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3016815B2 (ja) | 2000-03-06 |
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