JPH04105872A - ワークの溝パターン加工方法 - Google Patents
ワークの溝パターン加工方法Info
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- JPH04105872A JPH04105872A JP22305390A JP22305390A JPH04105872A JP H04105872 A JPH04105872 A JP H04105872A JP 22305390 A JP22305390 A JP 22305390A JP 22305390 A JP22305390 A JP 22305390A JP H04105872 A JPH04105872 A JP H04105872A
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Landscapes
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Decoration By Transfer Pictures (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）産業上の利用分野
この発明は、例えば、メカニカルシールや軸受又はその
軸部の何れか一方の加工面に微細な溝部を加工するため
に用いられるワークの溝パターン加工方法に関する。
軸部の何れか一方の加工面に微細な溝部を加工するため
に用いられるワークの溝パターン加工方法に関する。
（ロ）従来の技術
従来、上述の溝パターン加工方法としては、例えば、ワ
ークの加工面にレジスト剤を直接スクリーン印刷した後
、レジスト剤を架橋処理（加熱処理又は紫外線処理）し
て硬化させ、ワークの被加工面を膜体により被覆保護し
、この膜体により覆われた部分を除くワークの露出部分
のみをショツトブラスト加工して、ワークの加工面に微
細な溝部を加工する方法（特開昭６３−２３５７２１号
及び特開昭６２−２７８３３１３号公報参照）がある。
ークの加工面にレジスト剤を直接スクリーン印刷した後
、レジスト剤を架橋処理（加熱処理又は紫外線処理）し
て硬化させ、ワークの被加工面を膜体により被覆保護し
、この膜体により覆われた部分を除くワークの露出部分
のみをショツトブラスト加工して、ワークの加工面に微
細な溝部を加工する方法（特開昭６３−２３５７２１号
及び特開昭６２−２７８３３１３号公報参照）がある。
（ハ）発明が解決しようとする問題点
しかし、上述のようにワークの加工面にレジスト剤を直
接印刷する場合、平面形状に形成されたワークの加工面
にはレジスト剤が容易に印刷できるが、曲面形状や凹凸
面形状に形成されたワークの場合、ワークの加工面と版
膜との間に隙間ができるため、レジスト剤を印刷するこ
とが困難であリ、且つ、印刷後でないと印刷不良等の検
査が行なえず、印刷不良が生じた場合、作業を最初から
行なわなければならず、印刷作業に手間が掛かるという
問題点を有している。
接印刷する場合、平面形状に形成されたワークの加工面
にはレジスト剤が容易に印刷できるが、曲面形状や凹凸
面形状に形成されたワークの場合、ワークの加工面と版
膜との間に隙間ができるため、レジスト剤を印刷するこ
とが困難であリ、且つ、印刷後でないと印刷不良等の検
査が行なえず、印刷不良が生じた場合、作業を最初から
行なわなければならず、印刷作業に手間が掛かるという
問題点を有している。
また、曲面形状に形成されたワークの加工面に対してレ
ジスト剤を均一に塗布することは技術的に困難であり、
且つ、露光に用いられる紫外線の輝度調整に高い技術が
要求されるだけでなく、加工面形状に対応した露光用マ
スクの製作が困難であるという問題点も有している。
ジスト剤を均一に塗布することは技術的に困難であり、
且つ、露光に用いられる紫外線の輝度調整に高い技術が
要求されるだけでなく、加工面形状に対応した露光用マ
スクの製作が困難であるという問題点も有している。
この発明は上記問題に鑑み、転写用フィルムに形成され
た膜体をワークの加工面に転写貼着することにより、ワ
ークの加工面形状に対応して膜体を確実に転写すること
ができ、膜体の転写作業が簡便且つ正確に行なえるワー
クの溝パターン加工方法の提供を目的とする。
た膜体をワークの加工面に転写貼着することにより、ワ
ークの加工面形状に対応して膜体を確実に転写すること
ができ、膜体の転写作業が簡便且つ正確に行なえるワー
クの溝パターン加工方法の提供を目的とする。
（ニ）問題点を解決するための手段
この発明は、離型剤を塗布した転写用フィルムの貼着面
側に、ワークに加工する溝パターンと逆のパターンを粘
着性塗料によりスクリーン印刷して膜体を形成し、上記
転写用フィルムの膜体をワークの加工面に貼着した後、
該転写用フィルムのみを剥離してワークの加工面に膜体
を転写貼着し上記ワークの加工面をショツトブラスト加
工した後、該ワークの加工面に転写貼着された膜体を除
去処理するワークの溝パターン加工方法であることを特
徴とする。
側に、ワークに加工する溝パターンと逆のパターンを粘
着性塗料によりスクリーン印刷して膜体を形成し、上記
転写用フィルムの膜体をワークの加工面に貼着した後、
該転写用フィルムのみを剥離してワークの加工面に膜体
を転写貼着し上記ワークの加工面をショツトブラスト加
工した後、該ワークの加工面に転写貼着された膜体を除
去処理するワークの溝パターン加工方法であることを特
徴とする。
（ホ）発明の作用及び効果
この発明によれば、転写用フィルムに形成した膜体をワ
ークの加工面に転写貼着するので、ワークの加工面形状
に対応して転写用フィルムが可撓変形し、平面形状のみ
ならず曲面形状に形成されたワークの加工面に対して膜
体を確実に転写することができる。
ークの加工面に転写貼着するので、ワークの加工面形状
に対応して転写用フィルムが可撓変形し、平面形状のみ
ならず曲面形状に形成されたワークの加工面に対して膜
体を確実に転写することができる。
しかも、ワークに加工される溝パターンと逆のパターン
を転写用フィルムに一旦スクリーン印刷するので、転写
用フィルムに形成された膜体の印刷状態を転写前に検査
して、膜体の転写不良を防止すると共に、大掛かりな装
置を用いずして簡便且つ正確に膜体を転写することがで
き、従来の加工方法に於けるレジスト剤の厚さ調整や露
光調整が不要となり、膜体の転写作業が容易に行なえる
。
を転写用フィルムに一旦スクリーン印刷するので、転写
用フィルムに形成された膜体の印刷状態を転写前に検査
して、膜体の転写不良を防止すると共に、大掛かりな装
置を用いずして簡便且つ正確に膜体を転写することがで
き、従来の加工方法に於けるレジスト剤の厚さ調整や露
光調整が不要となり、膜体の転写作業が容易に行なえる
。
（へ）発明の実施例
この発明の一実施例を以下図面に基づいて詳述する。
第１図〜第７図はスパイラルグループ型メカニカルシー
ルのシールリングを意図したリング形状のワークに溝パ
ターンを加工する第１実施例を示し、第１図乃至第５図
に於いて、この溝パターン加工方法は、転写用フィルム
１の貼着面側に膜体２をスクリーン印刷する印刷工程と
、転写用フィルム１に形成された膜体２をワーク３の加
工面３ａに転写貼着する転写工程と、ワーク３の加工面
３ａをショツトブラスト加工する加工工程とから構成さ
れる。
ルのシールリングを意図したリング形状のワークに溝パ
ターンを加工する第１実施例を示し、第１図乃至第５図
に於いて、この溝パターン加工方法は、転写用フィルム
１の貼着面側に膜体２をスクリーン印刷する印刷工程と
、転写用フィルム１に形成された膜体２をワーク３の加
工面３ａに転写貼着する転写工程と、ワーク３の加工面
３ａをショツトブラスト加工する加工工程とから構成さ
れる。
先ず、上述の印刷工程に於いて、第１図に示すように、
ポリエステル等の合成樹脂により透明又は半透明の転写
用フィルム１を形成し、この転写用フィルム１の貼着面
側に離型剤４を薄く均一に塗布した後、この転写用フィ
ルム１の貼着面側に、ワーク３の加工される溝パターン
と逆のパターンを粘着性の塗料又はインクによりスクリ
ーン印刷して、第７図に示すように、転写用フィルム１
の貼着面側にスパイラル模様の膜体２（図中黒塗り部分
）を形成する。
ポリエステル等の合成樹脂により透明又は半透明の転写
用フィルム１を形成し、この転写用フィルム１の貼着面
側に離型剤４を薄く均一に塗布した後、この転写用フィ
ルム１の貼着面側に、ワーク３の加工される溝パターン
と逆のパターンを粘着性の塗料又はインクによりスクリ
ーン印刷して、第７図に示すように、転写用フィルム１
の貼着面側にスパイラル模様の膜体２（図中黒塗り部分
）を形成する。
次に、転写工程に於いて、第２図に示すように、シリコ
ンカーバイト（ＳｉＣ）又はタングステンカーバイド（
ＷＣ）で形成したワーク３の加工面３ａに転写用フィル
ム１の膜体２を位置決めして貼着した後、第３図に示す
ように、転写用フィルム１−のみを剥離して、ワーク３
の加工面３ａに膜体２を転写貼着する。
ンカーバイト（ＳｉＣ）又はタングステンカーバイド（
ＷＣ）で形成したワーク３の加工面３ａに転写用フィル
ム１の膜体２を位置決めして貼着した後、第３図に示す
ように、転写用フィルム１−のみを剥離して、ワーク３
の加工面３ａに膜体２を転写貼着する。
この後、膜体２の特性に応じた架橋処理（加熱処理又は
紫外線処理）を行ない、膜体２をワーク３に転写貼着し
た状態のまま硬化させる。
紫外線処理）を行ない、膜体２をワーク３に転写貼着し
た状態のまま硬化させる。
次に、加工工程に於いて、第４図に示すように、ワーク
３の加工面３ａに転写貼着された膜体２の白抜き部分、
すなわち、膜体２により覆われた部分を除くワーク３の
露出部分に、加工する溝深さに応じた粒子径のブラスト
粒子５（ＳｉＣ製又はＡＡ２０３製）を所定時間吹付け
てショツトブラスト加工し、第６図にも示すように、ワ
ーク３の加工面３ａに深さ０．５μｍ〜１−００μｍの
微細な溝部３ｂを加工する。
３の加工面３ａに転写貼着された膜体２の白抜き部分、
すなわち、膜体２により覆われた部分を除くワーク３の
露出部分に、加工する溝深さに応じた粒子径のブラスト
粒子５（ＳｉＣ製又はＡＡ２０３製）を所定時間吹付け
てショツトブラスト加工し、第６図にも示すように、ワ
ーク３の加工面３ａに深さ０．５μｍ〜１−００μｍの
微細な溝部３ｂを加工する。
この後、第５図に示すように、ワーク３の加工面３ａに
転写貼着された膜体２を溶剤等により溶解して除去する
ことで、ワーク３の加工作業が完了する。
転写貼着された膜体２を溶剤等により溶解して除去する
ことで、ワーク３の加工作業が完了する。
第８図は円柱形状に形成されたワーク６の外周側加工面
６ａに溝パターンを加工する第２実施例を示し、すなわ
ち、第１０図に示すように、転写用フィルム７に形成し
たストライプ模様の膜体８（図中黒塗り部分）をワーク
６の外周側加工面６ａに貼着し、転写用フィルム７のみ
を剥離してワーク６の外周側加工面６ａに膜体８を転写
貼着した後、膜体８により覆われた部分を除くワーク６
の外周側加工面６ａをショツトブラスト加工してスパイ
ラル模様の溝パターンを形成する。
６ａに溝パターンを加工する第２実施例を示し、すなわ
ち、第１０図に示すように、転写用フィルム７に形成し
たストライプ模様の膜体８（図中黒塗り部分）をワーク
６の外周側加工面６ａに貼着し、転写用フィルム７のみ
を剥離してワーク６の外周側加工面６ａに膜体８を転写
貼着した後、膜体８により覆われた部分を除くワーク６
の外周側加工面６ａをショツトブラスト加工してスパイ
ラル模様の溝パターンを形成する。
第９図は円筒形状に形成されたワーク９の内周側加工面
９ａに溝パターンを加工する第３実施例を示し、すなわ
ち、上述の転写用フィルム７に形成した膜体８をワーク
９の内周側加工面９ａに沿って貼着し、転写用フィルム
７のみを剥離してワーク９の内周側加工面９ａに膜体８
を転写貼着した後、上述と同様にワーク９の内周側加工
面９ａをショツトブラスト加工してストライプ模様の溝
パターンを形成する。
９ａに溝パターンを加工する第３実施例を示し、すなわ
ち、上述の転写用フィルム７に形成した膜体８をワーク
９の内周側加工面９ａに沿って貼着し、転写用フィルム
７のみを剥離してワーク９の内周側加工面９ａに膜体８
を転写貼着した後、上述と同様にワーク９の内周側加工
面９ａをショツトブラスト加工してストライプ模様の溝
パターンを形成する。
以上実施例のように転写用フィルム１，７に形成した膜
体２，８をワーク３，６．９の加工面３ａ、６ａ、９ａ
に転写貼着するので、ワーク３゜６．９の加工面形状に
対応して転写用フィルム１゜７が可撓変形し、平面形状
のみならず曲面形状に形成されたワーク３，６．９の加
工面３ａ、６ａ。
体２，８をワーク３，６．９の加工面３ａ、６ａ、９ａ
に転写貼着するので、ワーク３゜６．９の加工面形状に
対応して転写用フィルム１゜７が可撓変形し、平面形状
のみならず曲面形状に形成されたワーク３，６．９の加
工面３ａ、６ａ。
９ａに対して膜体２，８を確実に転写することができる
。
。
しかも、ワーク３，６．９に加工される溝パターンと逆
のパターンを転写用フィルム１，７にスクリーン印刷す
るので、転写用フィルム１，７に形成された膜体２，８
の印刷状態を転写前に検査して、膜体２，８の転写不良
を防止すると共に、大掛かりな装置を用いずして簡便且
つ正確に膜体２．８を転写することかでき、従来の加工
方法に於けるレジスト剤の厚さ調整や露光調整が不要と
なり、膜体２，８の転写作業が容易に行なえる。
のパターンを転写用フィルム１，７にスクリーン印刷す
るので、転写用フィルム１，７に形成された膜体２，８
の印刷状態を転写前に検査して、膜体２，８の転写不良
を防止すると共に、大掛かりな装置を用いずして簡便且
つ正確に膜体２．８を転写することかでき、従来の加工
方法に於けるレジスト剤の厚さ調整や露光調整が不要と
なり、膜体２，８の転写作業が容易に行なえる。
なお、上述のワーク３，６．９に加工される溝パターン
はスパイラル模様やストライプ模様のみに限定されるも
のではなく、例えば、クロス模様やハニカム模様等の溝
パターンに加工するもよい。
はスパイラル模様やストライプ模様のみに限定されるも
のではなく、例えば、クロス模様やハニカム模様等の溝
パターンに加工するもよい。
第１図〜第７図は本発明の第１実施例を示し、第１図は
膜体の印刷工程を示す転写用フィルムの縦断側面図、 第２図は膜体の貼着工程を示すワークの縦断側面図、 第３図は膜体の転写工程を示すワークの縦断側面図、 第４図は加工工程を示すワークの縦断側面図、第５図は
膜体の除去工程を示すワークの縦断側面図、 第６図はワークに加工された溝部の拡大縦断側面図、 第７図はスパイラル模様に印刷された膜体を示す転写用
フィルムの平面図、 第８図は第２実施例に於ける膜体の転写工程を示すワー
クの横断面図、 第９図は第３実施例に於ける膜体の転写工程を示すワー
クの横断面図、 第１０図はストライプ模様に印刷された膜体を示す転写
用フィルムの平面図である。 １７・・・転写用フィルム ２．８・・膜体 ３，６．９・・・ワーク３ａ、
６ａ、９ａ・・・加工面 ３ｂ・・・溝部 ４ 離型剤 ５・・・ブラスト粒子 ４・・・離型剤 ６，９・・・ワーク ６ａ、９ａ・・・加工面 ７・・・Ｋ写出７（ルム ８・・・厘鉢 第８図 ム
膜体の印刷工程を示す転写用フィルムの縦断側面図、 第２図は膜体の貼着工程を示すワークの縦断側面図、 第３図は膜体の転写工程を示すワークの縦断側面図、 第４図は加工工程を示すワークの縦断側面図、第５図は
膜体の除去工程を示すワークの縦断側面図、 第６図はワークに加工された溝部の拡大縦断側面図、 第７図はスパイラル模様に印刷された膜体を示す転写用
フィルムの平面図、 第８図は第２実施例に於ける膜体の転写工程を示すワー
クの横断面図、 第９図は第３実施例に於ける膜体の転写工程を示すワー
クの横断面図、 第１０図はストライプ模様に印刷された膜体を示す転写
用フィルムの平面図である。 １７・・・転写用フィルム ２．８・・膜体 ３，６．９・・・ワーク３ａ、
６ａ、９ａ・・・加工面 ３ｂ・・・溝部 ４ 離型剤 ５・・・ブラスト粒子 ４・・・離型剤 ６，９・・・ワーク ６ａ、９ａ・・・加工面 ７・・・Ｋ写出７（ルム ８・・・厘鉢 第８図 ム
Claims (1)
- （１）離型剤を塗布した転写用フィルムの貼着面側に、
ワークに加工する溝パターンと逆の パターンを粘着性塗料によりスクリーン印 刷して膜体を形成し、 上記転写用フィルムの膜体をワークの加工 面に貼着した後、該転写用フィルムのみを 剥離してワークの加工面に膜体を転写貼着 し、 上記ワークの加工面をショットブラスト加 工した後、該ワークの加工面に転写貼着さ れた膜体を除去処理する ワークの溝パターン加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2223053A JPH0725028B2 (ja) | 1990-08-24 | 1990-08-24 | ワークの溝パターン加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2223053A JPH0725028B2 (ja) | 1990-08-24 | 1990-08-24 | ワークの溝パターン加工方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04105872A true JPH04105872A (ja) | 1992-04-07 |
| JPH0725028B2 JPH0725028B2 (ja) | 1995-03-22 |
Family
ID=16792100
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2223053A Expired - Lifetime JPH0725028B2 (ja) | 1990-08-24 | 1990-08-24 | ワークの溝パターン加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0725028B2 (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS629870A (ja) * | 1985-07-04 | 1987-01-17 | Fuji Seisakusho:Kk | サンドブラスト工法 |
| JPS62140766A (ja) * | 1985-12-16 | 1987-06-24 | Fuji Seisakusho:Kk | サンドブラスト工法 |
-
1990
- 1990-08-24 JP JP2223053A patent/JPH0725028B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS629870A (ja) * | 1985-07-04 | 1987-01-17 | Fuji Seisakusho:Kk | サンドブラスト工法 |
| JPS62140766A (ja) * | 1985-12-16 | 1987-06-24 | Fuji Seisakusho:Kk | サンドブラスト工法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0725028B2 (ja) | 1995-03-22 |
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