JPH041081A - 記録装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

〔産業上の利用分野〕 本発明は新規な記録装置に関し、詳しくは、表面が特定
性状を有する記録体のその表面に、選択的に又は選択的
かつ可逆的に、加熱温度に応じた後退接触角を示す領域
が形成されるようにして潜像を形成せしめ、次いで又は
その潜像形成と同時に、潜像に顕色材を含有する記録剤
を供給して顕像化した後、これを記録紙に転写するよう
にした記録装置に関する。 〔従来の技術〕 表面を液体付着性領域と非液体付着性領域とに区分けし
て画像形成に供するようにした手段の代表的なものとし
ては水（湿し水）なし平版印刷版を用いたオフセット印
刷方式があげられる。だが、このオフセット印刷方式は
原版からの製版工程及び刷版（印刷版）からの印刷工程
を一つの装置内に組込むことが困難であり、製版印刷の
装置の小型化は勢い困難なものとなっている。 例えば、比較的小型化されている事務用オフセント製版
印刷機においても、製版装置と印刷装置とは別個になっ
ているのが普通である。 このようなオフセット印刷方式の欠陥を解消することを
意図して、画像情報に応じた液体付着性領域及び非液体
付着性領域が形成でき、しかも、繰返し使用が可能な（
可逆性を有する）記録方法ないし装置が提案されるよう
になってきている。その幾つかをあげれば次のとおりで
ある。 （１）水性現像方式 疎水性の光導電体層に外部より電荷を与えた後、露光し
て光導電体層表面に疎水性部及び親水性部を有するパタ
ーンを形成し、親水性部のみに水性現像剤を付着させて
紙などに転写する（特公昭４０１８９９２号、特公昭４
０−１８９９３号、特公昭４４−９５１２号、特開昭６
３−２６４３９２号などの公報）。 （２）フォトクロミック材料の光化学反応を利用した方
式 スピロピラン、アゾ色素などの材料を含有した層に紫外
線を照射し、光化学反応により、これらフォトクロミッ
ク化合物を親水化する〔例えば「高分子論文集」第３７
巻４号、２８７頁（１９８０））。 （３）内部偏倚力の作用を利用した方式不定形状態と結
晶性状態とを物理的変化により形成し、液体インクの付
着・非付着領域を構成する（特公昭５４−４１９０２号
公報）。 前記（１）の方式によれば、水性インクを紙などに転写
した後、除電により親水性部は消去され、別の画像情報
の記録が可能となる。即ち、一つの原版（光導電体）で
繰り返し使用が可能となる。だが、この方式は電子写真
プロセスを基本としているため帯電→露光→現像→転写
→除電という長いプロセスを必要とし、装置の小型化や
コストの低減、メンテナンスフリー化が困難であるとい
った欠点をもっている。 前記（２）の方式によれば、紫外線と可視光との照射を
選択的にかえることによって親水性、疎水性を自由かつ
可逆的に制御できるものの、量子効率が悪いため反応時
間が非常に長くて記録速度が遅く、また安定性に欠ける
といった欠点をもっており、いまだ実用レベルには達し
ていないのが実情である。 更に、前記（３）の方式によれば、そこで使用される情
報記録部材は、記録後のものでは安定性があるが、記録
前のものでは温度変化により物理的構造変化が生じるお
それがあることから保存性に問題が残されている。これ
に加えて、記録された情報パターンの消去には熱パルス
を与え、次いで急冷する手段が採用されることから、繰
り返しの画像形成は繁雑さをまぬがれ得ないといった不
都合がある。 〔発明が解決しようとする課題〕 本発明の目的は、従来の記録方式とは異なり、加熱状態
でかつ接触材料（Ｂ）と接触させた場合に後退接触角が
低くなる表面を有する部材（記録体（Ａ））のその表面
に、容易な手段で選択的に又は選択的かつ可逆的に、所
望パターン領域を形成させ、これを顕像化せしめ普通紙
等へ転写させる装置を提供するものである。 本発明の他の目的は同一画像による多数枚記録を短時間
で行なえると共に繰返し使用しても記録体（Ａ）の劣化
等が著しく抑制され耐久性に優れた記録装置を提供する
ものである。 〔課題を解決するための手段〕 本発明の記録装置は、下記記録体（Ａ）の表面を下記接
触材料（Ｂ）と接触させた状態で選択的に加熱させるこ
とにより又は記録体（Ａ）の表面を選択的に加熱した状
態で接触材料（Ｂ）と接触させることにより記録体（Ａ
）の表面に加熱温度に応じた後退接触角を示す潜像を形
成せしめる接触材料（Ｂ）を記録体（Ａ）表面に供給す
る手段と、記録体（Ａ）の表面を加熱して潜像を形成す
る手段と、該潜像を顕像化させる記録剤付与手段と、記
録体（Ａ）表面に付着された記録剤を記録紙に転写する
手段と、潜像形成手段の解除機構とを設けてなることを
特徴とする。 （Ａ）加熱状態でかつ液体と接触させた場合に後退接触
角が低下する表面を有する記録体。 （Ｂ）液体、蒸気又は記録体（Ａ）にいう後退接触角の
低下開始温度以下で液体となるか、液体もしくは蒸気を
発生する固体。 また、本発明の記録装置は、下記記録体（Ａ）の表面を
下記接触材料（Ｂ）と接触させた状態で選択的に加熱さ
せることにより又は記録体（Ａ）の表面を選択的に加熱
した状態で接触材料（Ｂ）と接触させることにより記録
体（Ａ）の表面に加熱温度に応じた後退接触角を示す潜
像を形成せしめる接触材料（Ｂ）を記録体（Ａ）表面に
供給する手段と、記録体（Ａ）の表面を加熱して潜像を
形成する手段と、該潜像を顕像化させる記録剤付与手段
と、記録体（Ａ）表面に付着された記録剤を記録紙に転
写する手段と、記録体（Ａ）表面に形成された潜像を加
熱して消去する手段と、潜像消去手段の解除機構及び潜
像形成手段の解除機構とを設けてなることを特徴とする
。 （Ａ）加熱状態でかつ液体と接触させた場合に後退接触
角が低下する表面を有する記録体。 （Ｂ）液体、蒸気又は記録体（Ａ）にいう後退接触角の
低下開始温度以下で液体となるか液体もしくは蒸気を発
生する固体。 本発明者らは、前記従来の技術に記述したごとき欠陥を
解消し、新規な記録方式について多くの研究・検討を行
なった。その結果、液体に接した状態で加熱されると冷
却後においても後退接触角が低くなり、かつ、液体不存
在下の加熱により後退接触角が高くなるという機能を表
面に有する部材が記録体として有用であることを見いだ
した。 そして、このような機能を有する記録体（Ａ）はその表
面が（１）疎水基の表面自己配向機能をもつ有機化合物
を含む部材、又は（２）疎水基をもつ有機化合物であっ
て疎水基を表面に配向した部材であることも併せて確め
た。 （１）にいう“表面自己配向機能”とは、ある化合物を
支持体上に形成した固体又は成る化合物自体による固体
を空気中で加熱すると、表面において疎水基が空気側（
自由表面側）に向いて配合する性質があることを意味す
る。このことは、（２）においても同様にいえることで
ある。一般に、有機化合物では疎水基は疎水性雰囲気側
へ向きやすい性質をもっている。これは、固−気界面の
界面エネルギーが低くなる方に向うために生じる現象で
ある。また、この現象は疎水基の分子長が長くなるほど
その傾向がみられるが、これは分子長が長くなるほど加
熱における分子の運動性が上がるためである。 更に具体的には、末端に疎水基を有する（即ち表面エネ
ルギーを低くする）分子であると、空気側（自由表面側
）を向いて表面配向しやすい。同様に（ＣＨ２＋。を含
む直鎖状分子では（ＣＨｚＣＨ２＋の部分が平面構造を
しており、分子鎖どうしが配向しやすい。また、（０＋
。を含む分子も−４：０トの部分が平面構造をしており
、分子鎖どうしが配向しやすい。殊に、弗素などの電気
陰性度の高い元素を含む直鎖状分子は自己凝集性が高く
、分子鎖どうしが配向しやすい。 これらの検討結果をまとめると、より好ましくは、自己
凝集性の高い分子を含んだり平面構造をもつ分子を含み
、かつ、末端に疎水基を有する直鎖状分子、或いは、そ
うした直鎖状分子を含む化合物は表面自己配向機能が高
い化合物といえる。 これまでの記述から明らかなように、表面自己配向状態
と後退接触角とは関連があり、また、後退接触角と液体
付着性との間にも関係がある。即ち、固体表面での液体
の付着は、液体の固体表面での主にクツキングによって
生じる。このタッキングはいわば液体が固体表面を滑べ
る時の一種の摩擦力とみなすことができる。従って、本
発明でいう“後退接触角”ｏｒは、 （但し、　γ　：真空中の固体の表面張力γＳ慮：固−
液界面張力 πｅ、平衡表面張力 γ、　：Ｊｌ擦張力 γＳ：吸着層のない固体の表面張力である）の関係式が
成立つ（斉藤、北端ら１日本接着協会誌」ＶｏＬ　２２
．４１２．Ｎｃｔ１９８６号）。 従って、ｏｒの値が低くなるときγ、値は大きくなる。 即ち、液体は固体面を滑べりにくくなり、その結果、液
体は固体面に付着するようになる。 これら相互の関連から推察しうるように、液体付着性は
後退接触角ｏｒがどの程度であるかに左右され、その後
退接触角ｏｒは表面自己配向機能を表面に有する部材の
何カにより定められる。それ故、本発明装置においては
、記録体（Ａ）はその表面に所望パターン領域の形成及
び／又は記録剤による顕像化の必要から、必然的に、表
面自己配向機能を表面に有する部材が選択されねばなら
ばい 本発明装置で用いられる記録体（Ａ）は、既述のとおり
、ｒ加熱状態でかつ液体と接触された場合に後退接触角
ｏｒが低下する表面」を有するものである。 記録体（Ａ）はその表面が上記のような性状を有してさ
えいれば、形状等は任意である。従って、記録体（Ａ）
はフィルム状であっても、適当な支持体や成形体上に表
面が上記のような性状を有する別の塗工膜などが設けら
れていてもかまわない。 成形体自体であってもかまわないが、その表面は上記の
ような性状を有していることが必要である。 この記録体（Ａ）は、接触材料（Ｂ）の種類によっては
潜像領域における液体付着性部分が親油性又は親水性の
いずれかになり、従って、複写物を得る際には油性イン
ク、水性インクの記録剤のいずれも必要に応じて使いわ
けられる。 ここで、′加熱状態でかつ液体と接触させた場合に後退
接触角θ

【が低下する表面を形成する”部材ないし材料
を幾つかに分類した例を第１図に示す。第１図（１）は
自己配向機能を有する化合物の例で、高分子重合体の側
鎖に疎水基を有する化合物であり、主鎖りと疎水基Ｒと
は結合基Ｊにて結合している。 第１図（ｂ）は、疎水基を有する有機化合物においてそ
の疎水基を表面に配向した部材の例で、有機又は無機材
料Ｍの表面に、物理的又は化学的結合により、前記疎水
基を有する化合物Ｏを形成した部材である。第１図（ｃ
）は、第１図（ｂ）であげた疎水基を有する有機化合物
Ｏのみからなる部材の例である。 第１図（ｄ）は、直鎖状分子が高分子の側鎖にある例で
、主鎖りと前記分子を結合基Ｊによりつなぎ、末端に疎
水基Ｒをもつ自己凝集性又は平面構造を有する分子鎖Ｎ
が中間にある化合物である。 なお、第１図（ａ）　（ｄ）の例においては、高分子化
合物の主鎖りは直線状でも網かけ構造でもよい。 第１図（ｂ）の例においては、累積ＬＢ膜のように、疎
水基含有化合物０の上にさらに疎水基含有化合物０が積
層されていてもよい。第１図（ｃ）の例においては、主
鎖（Ｌ）をもつことなく又は有機・無機材料（Ｍ）など
に結合することなく、疎水基含有化合物Ｏのみによる構
造である。 前記の疎水基としては、分子の末端が好ましくは−ＣＨ
３や−ＣＦ３、−ＣＦ２Ｈ１−ＣＦ）＋２、−Ｃ（ＣＦ
３）３、−Ｃ（ＣＨ３）３などによっており、より好ま
しくは、分子運動性が高い点で分子長の長いものが有利
である。中でも、前記疎水基としては、−Ｆ及び／又は
ｃｎが１つ以上ある置換アルキル基（−ＣＦ２ＣＦ２Ｃ
ＦＣＦ２ＣＦ２１７）Ｑ ようなものでもよい）或いは無置換のアルキル基であっ
て、炭素数４以上のものが望ましい。弗素置換、塩素置
換のいずれのものも用いれるが、弗素置換のものの方が
効果的である。これらの材料においては、アルキル基炭
素数と機能との関係では、炭素数が３以下であると、記
録装置に適する機能が低くなってしまう。 この機能発現の原理はいまだ完全に明らかにされた訳で
はなく、従って、不明な点が多いが、以下のことが推定
される。 まず、上記化合物により形成された記録体（Ａ）の表面
は、前記疎水基がかなり配向した表面となっていること
が考えられる。従って、この表面は液体反撥性を有する
（疎水基は表面エネルギーが小さいため）。この状態で
、記録体（Ａ）の表面が接触材料（Ｂ）に接して加熱を
受けると、加熱による疎水基の分子運動が活発となり、
かつ、接触材料（Ｂ）との相互作用を受けて、記録体（
Ａ）の表面の少なくとも一部の配向（整列）状態が別の
状態（即ち、別の配向状態又は配向が乱れた状態）にか
わり、冷却後もその別の状態を維持するためと思われる
。 なお、記録体（Ａ）の表面に接触材料（Ｂ）が接した状
態のもとで加熱することは、接触材料（Ｂ）の形態いか
んにより、記録体（Ａ）の表面が加熱された状態のもと
に液体を接触させることになる。 この加熱前は、疎水基が表面に整列（配向）しているた
め、記録体（Ａ）の表面エネルギーは極めて少ない。 ところが、前記の接触材料（Ｂ）が接した状態のもので
の加熱により、配向状態は乱れて表面エネルギーが高ま
る。後退接触角θｒは、液体の種類にかかられず、固体
と液体との表面エネルギーのバランスで決定される。こ
のため、固体の表面エネルギーが高まれば、液体の種類
にかかわらず、後退接触角ｏｒは低くなる。従って、液
体に対する付着性は増大することになる。 更に、記録体（Ａ）の表面が別の状態（元の配向状態と
は異なる「別の配向状態」又は「配向が乱れた状態」）
で接触材料（Ｂ）の不存在下に加熱を受けると、接触材
料（Ｂ）との相互作用が生じないため、元の整列（配向
）状態にもどると思われる。 従って、接触材料（Ｂ）の存在は単なる記録体（Ａ）の
表面を加熱後の急冷を行なうためのものではなく、記録
体（Ａ）の表面の化合物との何らかの相互作用をおこす
ものであり、この相互作用があって、はじめて別の状態
（別の配向状態又は配向が乱れた状態）への変化がおこ
ると思われる。 前記のとおり、記録体（Ａ）の表面を形成する部材（化
合物）の疎水基として、アルキル基又は弗素あるいは塩
素置換のアルキル基が採用された場合には、アルキル基
の炭素数が４以上であるのが望ましいのは、記録体（Ａ
）の表面にアルキル基がある程度整列（配向）し、しか
も加熱時に活発な分子運動をするのに必要な数に由来し
ているものと思われる。また、接触材料（Ｂ）が記録体
（Ａ）の表面とともに加熱を受けた時、記録体（Ａ）表
面の分子中に接触材料（Ｂ）の分子がとりこまれること
も考えられる。さらに、アルキル基中に電気陰性度の高
いフン素や塩素があると、液体特に極性液体との相互作
用が大きくなるため、水素のみのアルキル基を含有する
化合物よりも大きな付着性変化が得られる。また、フン
素を含有するアルキル基は、自己凝集性が強いため、表
面自己配向機能が高く、更に、表面エネルギーが低いた
め、地肌よごれ防止の点ですぐれている。 更にまた、記録体（Ａ）の表面は液体反撥性を有するが
、これを固体の表面エネルギーで記述すると、本発明者
らの検討では、５０ｄｙｎ／ｃｍ以下であることが記録
装置として望ましいことがわかった。 これ以上の高い値では記録剤に対して記録体（Ａ）の表
面が、時として、ぬれてしまい、地肌よごれをおこすお
それがある。 ここで、記録体（Ａ）の表面を形成する化合物の詳細を
述べる。まず、第１図（ａ）及び（ｄ）のタイプについ
てビニル系高分子側鎖にアルキル基（フッ素置換及び／
又は塩素置換のものも含む）を有する化合物などが考え
られる。具体的には、式（Ｉ）（ｎ　）　（ｍ）　（Ｉ
Ｖ）　（Ｖ）　（ＶＩ）及び（■）ＲニーＨ１−Ｃ■３
ｔ−Ｃ２Ｈｓ＋−ＣＦ３又は−Ｃ２Ｆ５ＲＩ：Ｃ４以上
のアルキル基又はフッ素若しくは塩素置換アルキル基を
含有した基、もしくは、分子鎖中に→σ２＋−膚、−＋
ＣＨ２＋悲又は−〇−をもつ疎水基（Ｑ≧４） ｎ′：１以上の整数 をモノマーとした重合体があげられる。 その他のポリマーとしては、式（■）（■）及び（Ｘ）
に示したごときものがあげられる。 ■ ０ＯＲｆ 層 ０＝Ｃ−Ｒｆ ＲニーＨ１−Ｃ）＋３、−Ｃ２Ｈ６、−ＣＦ３又は−Ｃ
２Ｆ５ＲＩ：Ｃ４以上のアルキル基又はフッ素もしくは
塩素置換アルキル基を含有した基、もしくは、分子鎖中
に＊　ＣＦ　２＋−膚、（ＣＨ２＋−又は−Ｏ−を含む
疎水基（Ｑ≧４） ｎ：１０以上の整数 これら具体例でＲ１をより詳しくいえば下記（１）から
（２０）までのものを例示することができる。 （１）　　ＣＨ２ＣＦ２ＣＨＦＣＦ３ （８）イＣＨｚｈＮＨＣＦ２ＣＦ３ （９）イＣＦ　２）、ｃ　Ｆ３ （１０）　（ＣＨ２）Ｉ。ＣｓＦ＋ｙ （ＩＩ）　　　ＣＨＩＮ　　５Ｏ２Ｃ！１Ｆ１７２Ｈ５ （１２）（ＣＨ２）ＩＯＮＳＯ２Ｃ８Ｆ＋ｔＨ３ （＋３）　　　ＣＨ２ＮＨ３０２Ｃ８Ｆ＋７（＋５）ｃ
−ｓ　　ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ３）６ＣＦ（ＣＦ３）２（
＋６）　　　ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３（＋７）−ＣＨ
２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｆ（１８）−ＣＨ２（ＣＦ２）６
ＣＦ３ （６）　　　ＣＨ２（ＣＦ　２）　ｌ０Ｈ（１９）−Ｃ
Ｈ２（ＣＦ２）５ＣＦ３ （２０）　（ＣＨ２）　３　ＣＦ　３ これらの化合物のうちでも、特に、下記（ＸＩ）の（７
）＋ＣＦｚｈＯ−ＣＦ２ＣＦ３ 材料の使用が効果的である。 〔但し、Ｒ］水素、−Ｃｙ、Ｈ２ｎ＋＋又は−ｃＪ２ｎ
＋ｌ　（ｎ＝ｌ又は２以上の整数） Ｒ２：（ＣＨｚ＋−（ｐ≧１の整数） 又はイＣＨ２）−Ｎ（Ｒ３）ＳＯ□ （Ｒ３は−ＣＩ（３又は−Ｃ２Ｈ５，９≧１の整数）ｍ
、６以上の整数 である。〕 従って、本発明における記録体（Ａ）表面の部材の最も
好ましい具体的化合物としては ２Ｈ５ ＣＯＯ（ＣＨ辻−ＣＦ２′ｈＣＱ などが挙げられる。 さらに、これら式（１）（ＩＩ）（［［）（ＩＶ）（Ｖ
）（ＶＩ）（■）及び（ＸＩ）のモノマーどうしく２種
以上のモノマーの共重合体）の他に、他の七ツマ−例え
ばエチレン、塩化ビニル、スチレン、ブタジェン、イン
プレン、クロロプレン、ビニルアルキルエーテル、酢酸
ビニル、ビニルアルコールなどとの共重合体も上記化合
物として適する。 また、式（ＸＩ）のモノマーと官能基を有する重合性子
ツマ−例えば Ｃ）＋２＝ｃ　（ＣＩ（３）　ＣＯＯ（ＣＨ２）　２０
ＨＣ）１２＝Ｃ（Ｃ）＋３）ＣＯＯＣ８２ＣＨ（ＯＨ）
ＣＨ３ＣＨ２”ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）Ｃ８Ｆ＋
７などの１種以上とで共重合物をつくり重合物中に官能
基を多数導入するか、式（ＸＩ）のモノマーと官能基を
有する重合性モノマーとの共重合物をつくり、続いて、
官能基を多数含んだ共重合物どうしを架橋試薬をもちい
て架橋することにより製造した架橋性重合体も材料とし
てすぐれている。架橋試薬としては、ホルムアルデヒド
、ジアルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジカルボン酸
、ジカルボン酸クロライド、ビスハロゲン化合物、ヒス
エポキシド、ビスアジリジン、ジイソシアネートなどが
あげられる。このようにして得られた架橋重合物の一例
を下記に示す。 −（Ｈ２−ＣＨ−ＣＨ２−Ｃ）＋２− ］　　　　　　１ 上記の式において、Ａブロックは前記の熱的性質の変化
をもたらすアルキル基であり、一方、Ｂブロックは鎖状
ポリマーどうしを架橋している（架橋試薬としてジイソ
シアネートを用いて架橋したもの）部位である。 架橋体による膜を得るには、前記の共重合物と架橋試薬
とを混合した溶液をコート液として基板上に塗布し、加
熱又は電子線照射や光照射により架橋重合膜を得るよう
にすればよい。 なお、上記モノマーから重合体を得るには、溶液重合、
電解重合、乳化重合、光重合、放射線重合、プラズマ重
合、グラフト重合、プラズマ開始重合、蒸着重合など、
材料により適当な方法が選択される。 次に、第１図（ｂ）に示した化合物について述べる。 ココテハ、式（Ｘ［Ｉ）、（Ｘｍ）及び（ＸＩＶ）ｉ：
示す材料Ｒ−ＣＯＯＨ・（ＸＩｒ） Ｒ−ＯＨ・（Ｘｍ） Ｒ（ＣＨ））Ｈ３ｉＸ　　　　　　　・（ＸＴＶ）（Ｒ
炭素数４以上のアルキル基又はフッ素又は塩素置換のア
ルキル基を含有した基、もしくは、分子鎖中に（ＣＦ→
〕、（ＣＩ−１→〕又は−〇−を含む疎水基（Ｑ≧４）
） ｎ′１以上の整数 Ｘ：塩素、メトキシ基又はエトキシ基）等をガラス、金
、銅などの無機材料やポリイミド、ポリエステル、ポリ
エチレンテレフタレートなどの有機材料表面に物理吸着
又は化学結合した材料（表面エネルギーが約５０ｄｙｎ
／ｃｎ＋以下であるのが好ましい）であることが望まし
い。 式（Ｘ［１）（ＸＩ［Ｉ）及び（ＸＩＶ）ノ具体例とし
てＣＦ３→ＣＦ　２ｈＣＯＯＨ。 ＣＦ３−＋ＣＦ２ｈＣＯＯＨ。 ＣＦ３＋ＣＦｚｈ（ＣＨｚｈＯＨ。 Ｈ（ＣＦｚｈｉＣＯＯＨ。 ＨイＣＦ２）ｒｖｃＨ２０Ｈ。 Ｆ−＋ＣＦ２ｈＣＨ２ＣＨ２５ｉ（ＣＨ３）２ｃＱＣＦ
２ＣＱ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ２）５ＣＯＯＨ。 ＣＦ３（ＣＦ２）？（ＣＨ２）２３　ｉ　ＣＱ３などが
あげられる。 第１図（ｃ）に示す化合物としては式（ＸＩ）、式（Ｘ
ｌｌｌ）や式（ＸＩＶ）の材料のみの構造体があげられ
る。 続いて、上記化合物を用いた記録体（Ａ）について述べ
る。 記録体（Ａ）の構成としては、支持体（耐熱温度５０〜
３００℃のものが望ましい）上に前記の表面部材を形成
したものである。従って、記録体（Ａ）の形状は円筒状
であってもエンドレスベルト状であってもかまわない。 本発明装置においては、記録体（Ａ）の表面形成材料と
他の部材、例えば疎水性ポリマ疎水性無機材料との混合
物を支持体上に形成すると、印字における地肌よごれ防
止の点ですぐれている。また、熱伝導性を上げるために
は、金属粉を上記化合物に混入するとよい。更に、支持
体と上記化合物との密着性を向上するためにプライマー
層を支持体−化合物間にもうけることもできる。耐熱性
支持体としては、ポリイミド、ポリエステルなどの樹脂
フィルムやガラスやＮｉ、ＡＱ、Ｃｕ、　ＣＩ、ｐｔな
どの金属や金属酸化物等が好ましい。 これら支持体は平滑でも粗面や多孔質であってもよい。 次に、接触材料（Ｂ）について説明する。 接触材料（Ｂ）は、先に記載したとおりであるが、端的
にいえば、当初から液体あるいは蒸気であるか、又は、
記録体（Ａ）にいう後退接触角ｏｒの低下開始温度以下
で結果的に液体を生じさせる固体である。ここでの蒸気
は、記録体（Ａ）の表面又は表面近傍で、少なくともそ
の一部が薯縮して液体を生ぜしめ、その液体が記録体（
Ａ）の表面を濡らすことができるものであれば充分であ
る。一方、こ二での固体は、前記後退接触角ｏｒの低下
開始温度以下で液体となるか、液体を発生させるか、又
は、蒸気を発生させるものである。固体から発生された
蒸気は記録体（Ａ）の表面又はその近傍で凝縮して液体
を生じさせることは前記の場合と同様である。 これら接触材料（Ｂ）をより具体的にいえば次のとおり
である。 即ち、接触材料（Ｂ）の一つである液体としては、水の
他に、電解質を含む水溶液、エタノール、ｎブタノール
等のアルコール、グリセリン、エチレングリコール等の
多価アルコール、メチルエチルケトン等のケトン類のご
とき有極性液体や、ｎ−ノナン、ｎ−オクタン等の直鎖
状炭化水素、シクロヘキサン等の環式状炭化水素、ｍ−
キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素のごとき無極性
液体があげられる。また、これらの混合体でもよいし、
さらには極性液体であってもかまわない。 接触材料（Ｂ）の他の一つである蒸気としては水蒸気の
外に、接触材料（Ｂ）の液体の蒸気であれば使用できる
が、特にエタノール蒸気やｍ−キシレン蒸気などの有機
化合物の蒸気（噴霧状態のものを含む）があげられる。 この有機化合物蒸気の温度は記録体（Ａ）の表面を形成
する化合物の融点或いは軟化点以下である必要がある。 接触材料（Ｂ）の他のもう一つである固体としては、高
級脂肪酸、低分子量ポリエチレン、高分子ゲル（ポリア
クリルアミドゲル、ボリヒニルアルコールゲル）、シリ
カゲル、結晶水を含んだ化合物などがあげられる。 なお、後述するところからより明らかになるが、接触材
料（Ｂ）として、液状インクのごとき“顕色剤を含有し
た記録剤″を用いた場合には、潜像形成と同時に顕像化
が行なわれることになる。 続いて、加熱手段について説明する。 加熱手段としてはヒーター、サーマルヘッドなどによる
接触加熱の他に、電磁波（レーザー光源、赤外線ランプ
などの発光源からの光線をレンズで集光する）による非
接触加熱がある。 第２図（ａ）は支持体ｌ上に記録体（Ａ）の表面を構成
する前記化合物の膜２が形成され、この膜面に接触材料
（Ｂ）のうちの例えば液体３が存在している状態を示し
ている。この状態において、膜２を加熱すると、膜２表
面は後退接触角ｏｒが低下して著しい濡れを示し、液体
付着性を有してしまうのが認められる。更に、この液体
付着性を有する膜２を空気中、真空中又は不活性ガス雰
囲気中で再び加熱する（第２図（ｂ））と膜２表面は後
退接触角θ【が高まっていき再び液体反撥性を示すのが
認められる。 このような現象と幾分類似した現象を示すものとして、
先にあげた特公昭５４−４１９０２号公報に記載された
方法がある。だが、ここに開示されている方法では記録
材料に実質的にディスオーダーでかつ一般的に不定形の
メモリ物質の層を得るようにしている点でメカニズム上
大きく相違したものとなっている。すなわち、本発明で
は、接触材料（Ｂ）の存在なしでは、記録体（Ａ）表面
には状態変化がおこりえない。また、特公昭５４−４１
９０２号公報に記載された方法では、簡単な操作で可逆
性を得ることはできない。 第３図（ａ）のごとく、画像情報に応じて液体３の接触
下で膜２に熱を加える（第３図（ｂ−］）　（ｂ−２）
のように、液体不存在のものに膜２に画像情報に応じて
熱を加えた状態のもとて液体と接触させても同様である
）と、加熱部分の膜２の表面が液体付着性化される。図
中、４はヒーター、３１は液体供給口、４１は赤外線ラ
ンプ、５はレンズ、６はシャンターを表わしている。 第３図（ａ）は膜２の加熱は支持体１を通して行なって
いる例であるが、第３図（ｂ−１）　（ｂ−２）に示し
た例は直接膜２に加熱がなされている例である。 この膜２の水溶液接触下での加熱前後の水溶液の接触角
の変動、及び、このものを更に空気中で加熱した場合の
水溶液の接触角の変動の一例を第４図に示した。第４図
において、○は前進接触角。 △は後退接触角を表わしている。 一般に、後退接触角が９０°以上の高い値の場合、その
表面は液体反撥性を示し、９０″以下の低い値の場合、
その表面は液体付着性を示す。 接触材料（Ｂ）に接した状態での記録体（Ａ）表面の加
熱温度としては、５０℃−２５０℃の範囲が望ましく、
さらに望ましくは８０℃−１５０℃である。加熱時間は
、０．１ｍ秒〜１秒程度で望ましくは０．５ｍ秒−２ｍ
秒である。 加熱のタイミングとしては、潜像形成であれば、■記録
体（Ａ）表面を加熱した後、冷めないうちに接触材料（
Ｂ）に接触させる、■記録体（Ａ）表面に接触材料（Ｂ
）を接触させた状態のもとに記録体（Ａ）表面を加熱さ
せる、のいずれかでもよい。一方、潜像消去であれば、
接触材料（Ｂ）の不存在下で記録体（Ａ）表面を５０〜
３００℃、望ましくは１００−１８０℃に加熱すればよ
い。加熱時間はいずれの場合も１ｍ秒〜１０秒程度で好
ましくはＩＯ＋ｎ秒〜１秒である。 続いて、記録体（Ａ）表面に実際に画像情報の記録を行
なう手段についてより詳細に説明する。 一つは、液体又は蒸気雰囲気下で画像信号に応じて記録
体（Ａ）の表面を加熱し、記録体（Ａ）の表面に液体付
着領域を形成（潜像形成）し、その後、この潜像部に記
録剤を接触させる手段により潜像部に記録剤を付着させ
（現像）、続いて、記録紙に記録体（Ａ）表面の記録剤
を転写する方法である（間接記録方法）。さらに、この
方法において、記録剤を転写後、再び潜像部に記録剤を
接触させる手段を行えば、記録体（Ａ）を印刷版として
用いた印刷方法となる。また、上記の方法において、記
録剤を記録紙に転写後、液体又は蒸気の不存在下で潜像
を形成した記録体（Ａ）の表面を加熱し潜像を消去する
ことにより、記録体（Ａ）が再生可能な記録方法となる
。第５図（ａ）、（ｂ）に間接記録方法（印刷法）、記
録体の可逆的な記録方法（繰り返し記録方法）の代表的
なプロセスを示す。 次に、記録体（Ａ）をはじめ、本発明装置における構成
について述べる。 記録体（Ａ）は、加熱状態でかつ液体と接触させた場合
に後退接触角が低下する表面（これまでと同様Ｆ膜２」
又は［記録体（Ａ）表面］と記すことがあるフを支持体
上に有しているものであればよい。 記録体（Ａ）の支持体に樹脂を用いた場合、このものは
熱の良導体とはいいがたく、記録体（Ａ）表面が加熱さ
れ液体付着性を有するまでにはある程度の時間を要する
。そこで、熱の良導体を支持体の全体に又は支持体ｊ上
の部分に用いることが考えられてよい。 第６図（ａ）は例えば金属のような熱の良導体を支持体
（金属基板Ｉ１）としてその上に有機薄膜１２を蒸着し
、更にその上に、膜２を形成するようにすれば、垂直方
向の熱伝導速度が向上する。ここでの有機薄膜１２とし
てはポリイミド、ポリエステル、フタロシアニンなどが
例示できる。印字ドツトが比較的大きくてよい場合には
この構成で十分であるが、両方向への熱拡散により液体
付着性を有する部分が拡大するため一層の高密度印字を
目的とする場合には適さない。第６図（ｂ）は、そのた
め、支持体１上に熱の良導体部分を区切って設けること
により面方向への熱拡散を防ぎ液体付着性を有する部分
２ａの微小化を図ったものである。第６図（ｂ）におい
て、Ｉｌａは微小された金属膜を表わしている。 続いて、加熱による潜像形成手段について述べる。上記
したごと（、加熱源としては、ヒーターやサーマルヘッ
ドのごとき接触加熱源やレーザーや赤外線ランプのごと
き電磁波による非接触加熱源が望ましい。 これらの具体例として、液体と接した状態で記録体（Ａ
）表面を加熱する手段を述べる。なお、便宜上、基板ｌ
上に膜２が形成されているタイプの記録体（Ａ）を例に
とって説明を進めることにする。 まず、あらかじめ記録体（Ａ）表面に液体３を接してお
き、その接した状態で基板１側又は液体３側から加熱を
行う手段（第７図（ａ）及び（ｂ））や、初めに記録体
（Ａ）表面側から加熱を行い直ちに液体３を記録体加熱
部（記録体（Ａ）表面）に接触させる手段（第７図（ｃ
）及び（ｄ））の採られるのが望ましい。 液体３の供給手段としては、記録体（Ａ）下部に皿を設
は液体を満たし記録体（Ａ）が皿中の液体３に常に接す
るようにし、加熱源を皿の近傍又は皿の中に配置する構
成が最も簡犀な構成となる。皿の替わりに、液体を充填
したスポンジ状多孔質体３４を用いても良い。光や電子
線による潜像形成手段も上記構成と基本的に同様である
。 第７図において、４２はレーザー光源、４３はサーマル
ヘッドである。このようにして、記録体（Ａ）表面には
潜像が形成される。 上記手段により画像信号に応じて選択的に付与された液
体付着性領域に記録剤（インク）を付着させる手段とし
ては、記録剤３ａを充填した皿を潜像形成手段配置位置
に対して記録体（Ａ）の進行方向に配置し常に記録体（
Ａ）に接しておく構成が最も簡単である（第８図及び第
９図）。なお、第８図及び第９図に示すごとく、潜像形
成に用いる液体を記録剤と兼用すると一つの皿で構成で
き、潜像形成と顕像化とを一体化できるため、装置を小
型化できる。 間接記録の場合、前記のとおり、例えば剛体円筒管が記
録体基板として用いられるのが有利である。第１０図、
第１Ｉ図、第１２図及び第１３図に示したように、潜像
形成及び現像（顕像化）後、例えば記録体７上の記録剤
３ａは記録紙６１と直接接する手段を設けることで記録
紙の毛管作用により、記録紙６１へ記録剤３ａは転写さ
れる（転写手段）。転写を行う位置は、現像後であれば
、記録体のどの位置でもかまわないが、現像後、直ちに
転写が行われる位置が望ましい。転写後、潜像消去を行
わず現像及び転写を繰り返えせば、この装置は印刷装置
となる。一つの画像情報の印刷が終了すれば、記録体７
を交換することで又は潜像消去を行なうことで、別の画
像情報の記録・印刷が可能となる。 また、上記転写手段の後、液体又は蒸気の不存在下で、
即ち、空気中、真空中、又は、不活性ガス中で潜像部（
Ｓ）付近を加熱することにより、潜像を消去すれば記録
体７は繰返し使用可能な記録装置となる。なお、潜像消
去のための加熱源としては、ヒーターやサーマルヘッド
のごとき接触加熱源やレーザーや赤外線ランプ４】のご
とき電磁波による非接触加熱源が望ましい。加熱は記録
体７表面の全面に行っても良く、潜像部（Ｓ）のみ行っ
ても良い。ただし、全面加熱の方が装置構成を簡単にで
きるため、より望ましい。なお、潜像消去手段は、消去
のための加熱を行ったのち、再び、潜像形成を行うまで
の時間の間に記録体７表面が実質的に冷却する位置に設
ける。消去に必要な加熱温度は、記録体７表面の材料に
より異なるが、記録体７表面の材料の後退接触角が低く
なる開始温度以上で分解点以下の温度が望ましい。 記録紙（被転写体）６１としては、透明樹脂フィルム、
普通紙、インクジェット用紙、タイプ紙などが適当であ
る。 ところで、前記したように本発明に係る記録装置は、液
体又は蒸気雰囲気下で画像信号に応して記録体（Ａ）の
表面を加熱し、潜像を形成しついでこの潜像部に記録剤
３ａを付着させて現像し、この後この記録剤３ａを記録
紙６１に転写後、再び潜像部に記録剤３ａを接触させる
手段を実行すると、記録体（Ａ）を印刷版として用いた
印刷装置となるわけであるが、同一画像による多数枚記
録を行う場合、毎回潜像形成のための加熱手段を施すと
潜像形成時間が律速段階となるため、二枚目以降の記録
時間も一枚目と同一時間となって、記録時間を短縮する
ことができず、またサーマルヘッドのような加熱源によ
って記録体が逐次熱劣化することも起こり得る。 また、上記の方法において、潜像を形成した記録体（Ａ
）の表面を加熱し潜像を消去すると記録画像の再生可能
なプリンター装置となるが、かかる記録装置を用いて同
一画像による多数枚記録を行う場合に、毎回、潜像形成
手段及び潜像消去手段を行うと潜像形成時間及び消去時
間が律速段階となり二枚目以降の記録時間も一枚目と同
一になってしまう。また、加熱源であるサーマルヘッド
は記録体に接しているため、多数枚記録時に記録体を摩
耗し劣化させてしまう場合がある。更に、毎回潜像消去
を繰り返すことにより徐々に記録体が熱劣化する恐れが
生じる。 そこで、本発明の記録装置においては、同一画像パター
ンに応じて多数枚記録を行う場合、記録時間の短縮及び
記録体の劣化を防止するために潜像形成手段及び／又は
潜像消去手段を適宜解除する機構が設けられている。 すなわち、本発明の記録装置を印刷用とした場合、多数
枚記録の信号が記録装置に入力され、ついで記録すべき
画像パターン信号が入力されたとき、−枚目の記録紙の
記録時のみ潜像形成手段が作動し、二枚目以降の記録か
らは該潜像形成手段を解除する機構が備えられている。 また、本発明の記録装置をプリンター装置とした場合、
多数枚記録の信号が記録装置に入力され、ついで記録す
べき画像パターン信号が入力されたとき一枚目の記録紙
への記録時にのみ潜像形成手段が作動し、二枚目以降の
記録からは潜像形成手段が解除される。また、−枚目の
記録時から既に潜像消去手段が解除され、この潜像消去
手段は最後の記録が終了したときに作動するようになっ
ている。 本発明の記録装置は上記のような構成を採ることにより
、同一画像による多数枚の記録を短時間に行なえると共
に記録体（Ａ）等の熱劣化を抑制できるので、長期間繰
り返して使用しても高品質な記録画像を与える。 以下、図面に沿って本発明の潜像形成手段及び／又は潜
像消去手段の構成について説明する。 第１０図は印刷専用装置に潜像形成手段の解除機構を設
けたものである。 図中、５２ａはサーマルヘッド４３に取付けられた潜像
形成手段の解除機構である。 第１Ｏ図において、多数枚記録の信号が記録装置に入力
されると、記録すべき画像パターン信号に応じた加熱が
サーマルヘッド４３によりなされ、記録体（Ａ）表面に
潜像が形成される。ついで、該潜像部は記録剤３ａによ
って顕像化され、引き続き転写工程に供され、記録紙６
１に転写され、−枚目の記録が終了する。転写後の記録
体（Ａ）は回転しながら、再びサーマルヘッド４３及び
液体３からなる潜像形成部に導入される。ここで、潜像
形成手段の解除機構が作動し、サーマルヘッド４３は記
録体表面から離脱し、潜像形成手段が解除される。この
ため、記録体（Ａ）表面に形成された潜像はそのまま顕
像化工程、転写工程に移行し、同一画像の連続記録が繰
り返し行なわれる。 第１１図は第１０図と同様に印刷専用の記録装置に潜像
形成手段の解除機構を設けたものであるが、潜像形成手
段と顕像化手段とが同時になされている点に違いがみら
れる。 この装置においても、潜像形成手段は第一枚目の記録時
のみ作動し、二枚目以降の記録からはその解除機構５２
ａによって作動しなくなる。 第１２図はプリンター用の記録装置に潜像形成手段の解
除機構及び潜像消去手段の解除機構を装着したものであ
る。 第１２図において、多数枚記録の信号が記録装置に入力
されると、記録すべき画像パターン信号に応じた加熱が
サーマルヘッド４３によりなされ、記録体（Ａ）表面に
潜像が形成される。ついで、該潜像部は記録剤３ａによ
って顕像化され、引き続き転写工程に供され、記録紙６
１に転写され、−枚目の記録が終了する。転写後の記録
体は回転しながら、赤外線ランプ４１等からなる潜像消
去部に導入される。 ここで、潜像消去手段は、−枚目の記録時から解除され
ているので、記録体表面に形成された潜像は消去される
ことなく再びサーマルヘッド４３及び液体３からなる潜
像形成部に導入される。ここで、潜像形成手段の解除機
構が作動し、サーマルヘッド４３は記録体表面から離脱
し、潜像形成手段が解除される。このため、記録体（Ａ
）表面に形成された潜像はそのまま顕像化工程、転写工
程に移行し、同一画像の連続記録が繰り返し行なわれる
。 第１３図は第１２図と同様にプリンター用の記録装置に
潜像形成手段の解除機構を設けたものであるが、潜像形
成手段と顕像化手段とが同時になされている点に違いが
みられる。 この装置においても、潜像形成手段は第一枚目の記録時
のみ作動し、二枚目以降の記録からはその解除機構５２
によって停止し、また潜像形成手段は一枚目の記録時か
ら解除されている。 本発明に係る潜像形成手段の解除機構としては、潜像形
成に利用する加熱手段を解除できる機構であればいずれ
の機構も採用できる。この場合、潜像形成用加熱手段と
して記録体（Ａ）にヒーターやサーマルヘッドのような
加熱源を接触させる手段（接触加熱源）を使用した場合
には単に加熱源の作動を止めるだけでなく、記録体（Ａ
）の表面から該加熱源を脱離させておくことが記録体（
Ａ）の耐摩耗性向上のために好ましい。 具体的な潜像形成手段の解除機構としては、たとえば第
１４図に示されるようなモーターによる機械的脱離機構
５４や第１５図に示されるような圧電素子５５を利用す
るもの等が挙げられるが、これらに限定されるものでは
ない。なお、潜像形成手段を記録体から離脱する場合、
その間隔は機械的接触を受けない距離であればいくらで
も良いが、装置の大型化を避けるためできるだけ短くし
た方が良く、具体的には１０．−１００．とするので適
当である。 また、潜像消去手段の解除機構としては、潜像を消去す
るために利用される赤外線ランプなどの加熱源の作動を
止めることが最も簡単であるが、加熱源がウオームアツ
プ時間を要する場合は第１６図に示されるように記録体
と加熱源の間にシリコーン樹脂のような熱遮蔽板５６を
設けておくことが望ましい。 次に記録剤について述べる。 本発明の記録装置において記録体（Ａ）表面上に可視画
像を得るには、記録剤として箪記用インク、インクジェ
ット用インク、印刷インク、電子写真用トナー等の従来
の印字記録方法に用いられてきた記録剤の中から、前記
プロセスに適合するものを選択し使用することができる
。 より具体的な例を挙げると１例えば水性インクとしては
、水、湿潤剤、染料を主体とする水溶性インク又は水、
顔料、分散用高分子化合物、湿潤剤を主体とした水性顔
料分散インク、顔料又は染料を界面活性剤を用いて水に
分散せしめたエマルジョン・インク等が用いられる。水
性インクに用いられる湿潤剤としては、次のような水溶
性の有機液体化合物が挙げられる。 エタノール、メタノール、プロパツール等の一価アルコ
ール類：エチレングリコール、ジエチレングリコール、
トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、
ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプ
ロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類
、エチレングリコールモツプチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコー
ルモノメチルエーテル、テトラエチレングリコールモノ
メチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコール、ジエチレングリコールモノ
エチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエ
ーテル、テトラエチレングリコールモノエチルエーテル
、プロピレングリコールモノエチルエーテル等の多価ア
ルコールのエーテル類；Ｎ−メチル−２−ピロリドン、
１，３−ジメチルイミダゾリジノン、Ｅ−カプロラクタ
ム等の複素環式化合物；モノエタノールアミン、ジェタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、モノエチルアミ
ン、ジエチルアミン、トリエチルアミン等のアミン類等
。 水溶性染料としては、カラー・インデックスにおいて酸
性染料、直接染料、塩基性染料、反応性染料に分類され
る染料が用いられる。代表的な染料の例としては、 Ｃ９１，アシッド・イエロー＋７．２３，４２，４４，
７９．１４２０．１．アシッド・レッド］、　８．１３
．１４．　Ｉｌｌ、　２６．２７．３５゜３７．４２，
５２，８２，１１７，８９，９２，９７゜１０６、Ｉｌ
ｌ、１１４，１１５，１３４．１ｇ６２４９．２５４，
２８９ Ｃ１１，アシッド・ブルー９．２９，４５，９２，２４
９，８９０Ｃ，１，アシッド・ブランク１，２，７，２
４，２６．９４Ｃ，１，フード・イエロー３，４ Ｃ，１，フード・レッド７．９．１４ Ｃ，１，フード・ブラック２ Ｃ，１，ダイレクト・イエロー１，１２，２４，２６，
３３，４４，５０゜１４２．１４４１１６５ Ｃ１１，ダイレクト・レット１，４，９．１３．１７，
２０．２ｇ、３］３９．８０．８＋、８３，８９，２２
５゜Ｃ，１，ダイレクト・オレンジ２６，２９，６２．
１０２Ｃ，１，ダイレクト・ブルー１．２，６．＋５．
２２，２５，７］、７６゜７９．８６，８７，９０，９
８，１６３゜１６５．２０２ Ｃ０１，ダイレクト・ブラック＋９．２２，３２，３１
１，５］、５６゜７＋、７４，７５，７７、１５４．１
６８Ｃ，１，ベーシック・イエロー１．２．１１．１３
．１４．　＋５．１９゜２１．２３．２４，２５．２８
，２９゜３２．３６，４０，４１，４５，４９゜５１．
５３，６３，６５，６７．７０゜７３．７７．８７．９
１ Ｃ１１，ベーシック・レッド２．　＋２．１３．１４．
１５．　＋８．２２゜２３．２４，２７，２９，３５，
３６，３８３９．４６，４９．５＋、５２，５４，５９
゜６ｇ、６９，７０，７３．７ｇ、８２．１０２゜１０
４．１０９，１１２ ｃ、１．ベーシック・ブルー１．３，５，７，９，２１
，２２，２６，３５゜４１．４５，４７，５４，６２，
６５，６６゜６７．６９，７５，７７．７８，１１９，
９２゜９３．１０５，１１７，１２０，１２２゜１２４
．１２９，１３７，１４１，１４７゜ベーシック・ブラ
ック２．８ 等を挙げることができる。 顔料としては、有機顔料としてアゾ系、フタロシアニン
系、アンスラキノン系、キナクリドン系、ジオキサジン
系、インジゴ系、チオインジゴ系、ペリノン系、ペリレ
ン系、イソインドレノン系、アニリン・ブラック、アゾ
メチンアゾ系、カーボン・ブラック等が挙げられ、無機
顔料として酸化鉄、酸化チタン、炭酸カルシウム、硫酸
バリウム、水酸化アルミニウム、バリウムイエロー、紺
青、カドミウムレッド、クロムイエロー、金属粉が挙げ
られる。 顔料分散用化合物として、ポリアクリルアミド、ポリア
クリル酸及びそのアルカリ金属塩、水溶性スチレンアク
リル樹脂等のアクリル系樹脂、水溶性スチレンマレイン
酸樹脂、水溶性ビニルナフタレンアクリル樹脂、水溶性
ビニルナフタレンマレイン酸樹脂、ポリビニルピロリド
ン、ポリビニルアルコール、β−ナフタレンスルホン酸
ホルマリン縮金物のアルカリ金属塩、四級アンモニウム
やアミノ基等のカチオン性官能基の塩を含む高分子化合
物、ポリエチレンオキサイド、ゼラチン、カゼイン等の
蛋白質、アラビアゴム、トラガントゴム等の天然ゴム類
、サポニン等のグルコキシド類、カルボキシメチルセル
ロース、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロー
ス、等のセルロース誘導体、リグニンスルホン酸及びそ
の塩、セラミック等の天然高分子化合物、等が挙げられ
る。 油性の記録剤としては、水性インクと同様に、油溶性染
料を有機液体化合物に溶解したものや、顔料を有機液体
化合物に分散せしめたもの、顔料又は染料を油性ベース
に乳化させたもの、等が用いられる。 油性染料の代表的な例としては、 Ｃ１１，ソルベント・イエロー１，２，３，４，５，６
，７，８，９゜１０、１１．１２．１４．１６．　＋７
゜２６．２７，２９，３０，３９，４０゜４６．４９，
５０．５＋、５６．６＋。 ８０、８６．８？、　８９．９６ Ｃ０１，ソルヘシト・オレンジ＋２．２３．３＋、４３
．５１．６ＩＣ１１，ソルベント・レッド１，２，３，
１６，１７．１８．１９．２０゜２２．２４，２５，２
６，４０，５２．５９゜６０．６３，６７．６８．１２
１ Ｃ，１，ソルベント・バイオレット７、１６．１７Ｃ６
１，ソルベント・ブルー２．６．ＩＩ、＋５．２０，３
０．３＋、３２゜３５．３６，５５，５８．７１．７２ Ｃ，１，ソルベント・ブラウン２．　＋０．１５．２１
．２２Ｃ，１，ソルベント・ブラック３．１０．　ＩＩ
、　１２．１３等が挙げられる。 また、染料を溶解したり、顔料を分散するための油性ベ
ースとしては、ｎ−オクタン、ｎ−デカン、ミネラネス
ピリット、リグロイン、ナフサ、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の炭化水素類、ジブチルエーテル、ジブチル
エーテル、アニソール、フェネトール、ジベンジルエー
テル等のエーテル類；メタノール、エタノール、イソプ
ロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチレングリ
コール、ジエチレングリコール、グリセリン等のアルコ
ール類等を例示することができる。 油性インクにおいても先に例示した顔料を用いることが
できる。油性の顔料分散剤の例としては、ポリメタクリ
ル酸エステル、ポリアクリル酸エステル、メタクリル酸
エステル−アクリル酸エステル共重合体、ポリ酢酸ビニ
ル、塩ビー酸と共重合体、ポリビニルピロリドン、ポリ
ビニルブチラール等のビニル系共重合体、エチルセルロ
ース、メチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリエ
ステル、ポリアミド、フェノール樹脂等の縮重合樹脂、
ロジン、セラミック、ゼラチン、カゼイン、等の天然樹
脂等がある。 〔発明の効果〕 本発明の記録装置は同一画像による多数枚記録を短時間
で行なえると共に繰返し使用しても記録体（Ａ）の劣化
等が抑制され、耐久性に優れたものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は表面自己配向機能を有する形態の模式的な四側
の図である。 第２図及び第３図は本発明装置を基本的に説明するため
の図である。 第４図は本発明の実施で用いらる記録体（Ａ）表面に液
体を接触させた状態で記録体（Ａ）表面を加熱した場合
、その記録体（Ａ）表面にみられる後送接触角ｏｒの変
化を表わした図である。 第５図は本発明装置を用いた場合の二つの態様を示した
ものである。 第６図、第７図、第８図、第９図、第１０図、第１１図
、第１２図、第１３図、第１４図、第１５図及び第１６
図は本発明装置の実施の様子を表わした図である。 １・・基板 ２・・膜 ３・・・液体（３ａ・着色インク） ４・ヒーター ５・　レンズ ６・・シャッター ７・・記録体（Ａ） 特許出願人　株式会社　リ　　コ

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）下記記録体（Ａ）の表面を下記接触材料（Ｂ）と
   接触させた状態で選択的に加熱させることにより又は記
   録体（Ａ）の表面を選択的に加熱した状態で接触材料（
   Ｂ）と接触させることにより記録体（Ａ）の表面に加熱
   温度に応じた後退接触角を示す潜像を形成せしめる接触
   材料（Ｂ）を記録体（Ａ）表面に供給する手段と、記録
   体（Ａ）の表面を加熱して潜像を形成する手段と、該潜
   像を顕像化させる記録剤付与手段と、記録体（Ａ）表面
   に付着された記録剤を記録紙に転写する手段と、潜像形
   成手段の解除機構とを設けてなることを特徴とする記録
   装置。 （Ａ）加熱状態でかつ液体と接触させた場合に後退接触
   角が低下する表面を有する記録体。 （Ｂ）液体、蒸気又は記録体（Ａ）にいう後退接触角の
   低下開始温度以下で液体となるか液体もしくは蒸気を発
   生する固体。
2. （２）下記記録体（Ａ）の表面を下記接触材料（Ｂ）と
   接触させた状態で選択的に加熱させることにより又は記
   録体（Ａ）の表面を選択的に加熱した状態で接触材料（
   Ｂ）と接触させることにより記録体（Ａ）の表面に加熱
   温度に応じた後退接触角を示す潜像を形成せしめる接触
   材料（Ｂ）を記録体（Ａ）表面に供給する手段と、記録
   体（Ａ）の表面を加熱して潜像を形成する手段と、該潜
   像を顕像化させる記録剤付与手段と、記録体（Ａ）表面
   に付着された記録剤を記録紙に転写する手段と、記録体
   （Ａ）表面に形成された潜像を加熱して消去する手段と
   、潜像消去手段の解除機構及び潜像形成手段の解除機構
   とを設けてなることを特徴とする記録装置。 （Ａ）加熱状態でかつ液体と接触させた場合に後退接触
   角が低下する表面を有する記録体。 （Ｂ）液体、蒸気又は記録体（Ａ）にいう後退接触角の
   低下開始温度以下で液体となるか液体もしくは蒸気を発
   生する固体。
3. （３）潜像形成手段が接触加熱源による加熱手段であり
   、潜像形成手段の解除機構が記録体（Ａ）より接触加熱
   源を離脱する機構を備えたものであることを特徴とする
   請求項（１）又は（２）記載の記録装置。
4. （４）潜像消去手段が非接触加熱源による加熱手段であ
   り、潜像消去手段の解除機構が非接触加熱源と記録体の
   間に設けられた熱遮蔽板からなることを特徴とする請求
   項（２）記載の記録装置。