JPH03205184A - 記録装置 - Google Patents
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- JPH03205184A JPH03205184A JP2277182A JP27718290A JPH03205184A JP H03205184 A JPH03205184 A JP H03205184A JP 2277182 A JP2277182 A JP 2277182A JP 27718290 A JP27718290 A JP 27718290A JP H03205184 A JPH03205184 A JP H03205184A
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- recording
- recording medium
- liquid
- heating
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規な記録装置に関し、詳しくは、表面が特定
性状を有する記録体のその表面に、選択的に又は選択的
かつ可逆的に、加熱温度に応じた後退接触角を示す領域
が形成されるようにして潜像を形成せしめ、次いで又は
その潜像形成と同時に、潜像に顕色材を含有する記録剤
を供給して顕像化した後、これを記録紙に転写するよう
にした記録装置に関する。
性状を有する記録体のその表面に、選択的に又は選択的
かつ可逆的に、加熱温度に応じた後退接触角を示す領域
が形成されるようにして潜像を形成せしめ、次いで又は
その潜像形成と同時に、潜像に顕色材を含有する記録剤
を供給して顕像化した後、これを記録紙に転写するよう
にした記録装置に関する。
表面を液体付着性領域と非液体付着性領域とに区分けし
て画像形成に供するようにした手段の代表的なものとし
ては水(湿し水)なし平版印刷版を用いたオフセント印
刷方式があげられる。だが、このオフセット印刷方式は
原版からの製版工程及び刷版(印刷版)からの印刷工程
を一つの装置内に組込むことが困難であり、製版印刷の
装置の小型化は勢い困難々ものとなっている。
て画像形成に供するようにした手段の代表的なものとし
ては水(湿し水)なし平版印刷版を用いたオフセント印
刷方式があげられる。だが、このオフセット印刷方式は
原版からの製版工程及び刷版(印刷版)からの印刷工程
を一つの装置内に組込むことが困難であり、製版印刷の
装置の小型化は勢い困難々ものとなっている。
例えば、比較的小型化されている事務用オフセノト製版
印刷機においても、製版装置と印刷装置とは別個になっ
ているのが普通である。
印刷機においても、製版装置と印刷装置とは別個になっ
ているのが普通である。
このようなオフセント印刷方式の欠陥を解消することを
意図して、画像情報に応じた液体付着性領域及び非液体
付着性領域が形成でき、しかも、繰返し使用が可能々(
可逆性を有する)記録方法ないし装置が提案されるよう
になってきている。その幾つかをあげれば次のとおりで
ある。
意図して、画像情報に応じた液体付着性領域及び非液体
付着性領域が形成でき、しかも、繰返し使用が可能々(
可逆性を有する)記録方法ないし装置が提案されるよう
になってきている。その幾つかをあげれば次のとおりで
ある。
(1)水性現像方式
疎水性の光導電体層に外部より電荷を与えた後、露光し
て光導電体層表面に疎水性部及び親水性部を有するパタ
ーンを形成し、親水性部のみに水性現像剤を付着させて
紙などに転写する(特公昭4018992号、特公昭4
0−18993号、特公昭44−9512号、特開昭6
3−264392号などの公報).,(2)フォトク口
ミンク材料の光化学反応を利用した方式 スビロピラン、アゾ色素などの材料を含有した層に紫外
線を照射し、光化学反応により、これらフォトクロミッ
ク化合物を親水化する〔例えばF高分子論文集』第37
巻4号、287頁(+980))。
て光導電体層表面に疎水性部及び親水性部を有するパタ
ーンを形成し、親水性部のみに水性現像剤を付着させて
紙などに転写する(特公昭4018992号、特公昭4
0−18993号、特公昭44−9512号、特開昭6
3−264392号などの公報).,(2)フォトク口
ミンク材料の光化学反応を利用した方式 スビロピラン、アゾ色素などの材料を含有した層に紫外
線を照射し、光化学反応により、これらフォトクロミッ
ク化合物を親水化する〔例えばF高分子論文集』第37
巻4号、287頁(+980))。
(3)内部偏倚力の作用を利用した方式不定形状態と結
晶性状態とを物理的変化により形成し、液体インクの付
着・非付着領域を構成する(特公昭54−41902号
公報)。
晶性状態とを物理的変化により形成し、液体インクの付
着・非付着領域を構成する(特公昭54−41902号
公報)。
前記(1)の方式によれば、水性インクを紙などに転写
した後、除電により親水性部は消去され、別の画像情報
の記録が可能となる。即ち、一つの原版(光導電体)で
繰り返し使用が可能と々る。だが、この方式は電子写真
プロセスを基本としているため帯電一露光一現像一転写
一除電という長いプロセスを必要とし、装置の小型化や
コストの低減、メンテナンスフリー化が困難であるとい
った欠点をもっている。
した後、除電により親水性部は消去され、別の画像情報
の記録が可能となる。即ち、一つの原版(光導電体)で
繰り返し使用が可能と々る。だが、この方式は電子写真
プロセスを基本としているため帯電一露光一現像一転写
一除電という長いプロセスを必要とし、装置の小型化や
コストの低減、メンテナンスフリー化が困難であるとい
った欠点をもっている。
前記(2)の方式によれば、紫外線と可視光との照射を
選択的にかえることによって親水性、疎水性を自由かつ
可逆的に制御できるものの、量子効率が悪いため反応時
間が非常に長くて記録速度が遅く、また安定性に欠ける
といった欠点をもっており、いまだ実用レベルには達し
ていないのが実情である。
選択的にかえることによって親水性、疎水性を自由かつ
可逆的に制御できるものの、量子効率が悪いため反応時
間が非常に長くて記録速度が遅く、また安定性に欠ける
といった欠点をもっており、いまだ実用レベルには達し
ていないのが実情である。
更に、前記(3)の方式によれば、そこで使用される情
報記録部材は、記録後のものでは安定性があるが、記録
前のものでは温度変化により物理的構造変化が生じるお
それがあることから保存性に問題が残されている。これ
に加えて、記録された情報パターンの消去には熱パルス
を与え、次いで急冷する手段が採用されることから、繰
り返しの画像形成は繁雑さをまぬがれ得ないといった不
都合がある。
報記録部材は、記録後のものでは安定性があるが、記録
前のものでは温度変化により物理的構造変化が生じるお
それがあることから保存性に問題が残されている。これ
に加えて、記録された情報パターンの消去には熱パルス
を与え、次いで急冷する手段が採用されることから、繰
り返しの画像形成は繁雑さをまぬがれ得ないといった不
都合がある。
本発明の目的は、新規な記録体を用い製版が極めて簡単
で時間がかからず、続いて、その状態のままでも画像等
が得られる記録装置を提供するものである。
で時間がかからず、続いて、その状態のままでも画像等
が得られる記録装置を提供するものである。
本発明の他の目的は、前記の記録体として液体付着領域
の形成及び消去の繰り返しが極めて容易に行なえ、しか
も記録の前後にかかわらず保存性、安定性にすぐれたも
のが用いられ、小型化、低コスト化、メンテナンスフリ
ー化の可能な記録装置を提供するものである。
の形成及び消去の繰り返しが極めて容易に行なえ、しか
も記録の前後にかかわらず保存性、安定性にすぐれたも
のが用いられ、小型化、低コスト化、メンテナンスフリ
ー化の可能な記録装置を提供するものである。
本発明の更に別の目的は、潜像形成時の加熱効率を高め
、高速記録を可能とする記録装置を提供するものである
。
、高速記録を可能とする記録装置を提供するものである
。
本発明の記録装置は、下記記録体(A)の表面を下記接
触材料(B)と接触させた状態で選択的に加熱させるこ
とにより又は記録体(A)の表面を選択的に加熱した状
態で接触材料(B)と接触させることにより記録体(A
)の表面に加熱温度に応じた後退接触角を示す潜像領域
を形成せしめる接触材料(B)を記録体(A)表面に供
給する手段と、潜像形成のために記録体(A)の表面を
加熱する手段と、該潜像領域を顕像化させる記録剤付与
手段と、記録体(A)表面に付着された記録剤を記録紙
に転写する手段とを具備してなり、しかも前記の記録体
(A)と加熱手段とは一体的に構成されていることを特
徴としている。
触材料(B)と接触させた状態で選択的に加熱させるこ
とにより又は記録体(A)の表面を選択的に加熱した状
態で接触材料(B)と接触させることにより記録体(A
)の表面に加熱温度に応じた後退接触角を示す潜像領域
を形成せしめる接触材料(B)を記録体(A)表面に供
給する手段と、潜像形成のために記録体(A)の表面を
加熱する手段と、該潜像領域を顕像化させる記録剤付与
手段と、記録体(A)表面に付着された記録剤を記録紙
に転写する手段とを具備してなり、しかも前記の記録体
(A)と加熱手段とは一体的に構成されていることを特
徴としている。
(A)加熱状態でかつ液体と接触させた場合に後退接触
角が低下する表面を有する記録体。
角が低下する表面を有する記録体。
(B)液体、蒸気又は記録体(A)にいう後退接触角の
低下開始温度以下で液体となるか、液体もしくは蒸気を
発生する固体。
低下開始温度以下で液体となるか、液体もしくは蒸気を
発生する固体。
なお、本発明装置においては、前記潜像が形成された記
録体(A)の表面を、接触材料(B)の不存在下で加熱
することによって潜像の消去が行なえ、可逆的に画像形
成がなし得るものである。
録体(A)の表面を、接触材料(B)の不存在下で加熱
することによって潜像の消去が行なえ、可逆的に画像形
成がなし得るものである。
本発明者らは、前記従来の技術に記述したごとき欠陥を
解消し、新規な記録方式について多くの研究・検討を行
なった。その結果、液体に接した状態で加熱されると冷
却後においても後退接触角が低くなり、かつ、肢体不存
在下の加熱により後退接触角が高くなるという機能を表
面に有する部材が記録体として有用であることを見いだ
した。
解消し、新規な記録方式について多くの研究・検討を行
なった。その結果、液体に接した状態で加熱されると冷
却後においても後退接触角が低くなり、かつ、肢体不存
在下の加熱により後退接触角が高くなるという機能を表
面に有する部材が記録体として有用であることを見いだ
した。
そして、このような機能を有する記録体(A)はその表
面が(1)疎水基の表面自己配向機能をもつ有機化合物
を含む部材,又は(2)疎水基をもつ有機化合物であっ
て疎水基を表面に配向した部材であることも併せて確め
た。
面が(1)疎水基の表面自己配向機能をもつ有機化合物
を含む部材,又は(2)疎水基をもつ有機化合物であっ
て疎水基を表面に配向した部材であることも併せて確め
た。
(1)にいう“表面自己配向機能”とは、ある化合物を
支持体上に形成した固体又はある化合物自体による固体
を空気中で加熱すると、表面において疎水基が空気側(
自由表面側)に向いて配向する性質があることを意味す
る。このことは、(2)においても同様にいえることで
ある。一般に、有機化合物では疎水基は疎水性雰囲気側
へ向きやすい性質をもっている。これは、固一気界面の
界面エネルギーが低くなる方に向うために生じる現象で
ある。また、この現象は疎水基の分子長が長くなるほど
その傾向がみられるが、これは分子長が長く?るほど加
熱における分子の運動性が上がるためである。
支持体上に形成した固体又はある化合物自体による固体
を空気中で加熱すると、表面において疎水基が空気側(
自由表面側)に向いて配向する性質があることを意味す
る。このことは、(2)においても同様にいえることで
ある。一般に、有機化合物では疎水基は疎水性雰囲気側
へ向きやすい性質をもっている。これは、固一気界面の
界面エネルギーが低くなる方に向うために生じる現象で
ある。また、この現象は疎水基の分子長が長くなるほど
その傾向がみられるが、これは分子長が長く?るほど加
熱における分子の運動性が上がるためである。
更に具体的には、末端に疎水基を有する(即ち表面エネ
ルギーを低くする)分子であると、空気側(自由表面側
)を向いて表面配向しやすい。同様に−{CH■+−。
ルギーを低くする)分子であると、空気側(自由表面側
)を向いて表面配向しやすい。同様に−{CH■+−。
を含む直鎖状分子では→CH2CH2←の部分が平面構
造をしており、分子鎖どうしが配向しやすい。また、→
0+−oを含む分子も→0トの部分が平面構造をしてお
り、分子鎖どうしが配向しやすい。殊に、フッ素などの
電気陰性度の高い元素を含む直鎖状分子は自己凝集性が
高く、分子鎖どうしが配向しやすい。
造をしており、分子鎖どうしが配向しやすい。また、→
0+−oを含む分子も→0トの部分が平面構造をしてお
り、分子鎖どうしが配向しやすい。殊に、フッ素などの
電気陰性度の高い元素を含む直鎖状分子は自己凝集性が
高く、分子鎖どうしが配向しやすい。
これらの検討結果をまとめると、より好ましくは、自己
凝集性の高い分子を含んだり平面構造をもつ分子を含み
、かつ、末端に疎水基を有する直鎖状分子、或いは、そ
うした直鎖状分子を含む化合物は表面自己配向機能が高
い化合物といえる。
凝集性の高い分子を含んだり平面構造をもつ分子を含み
、かつ、末端に疎水基を有する直鎖状分子、或いは、そ
うした直鎖状分子を含む化合物は表面自己配向機能が高
い化合物といえる。
これまでの記述から明らかなように、表面自己配向状態
と後退接触角とは関連があり、また、後退接触角と液体
付着性との間にも関係がある。即ち、固体表面での液体
の付着は、液体の固体表面での主にタツキングによって
生じる。このタツキングはいわば液体が固体表面を滑べ
る時の一種の摩擦力とみなすことができる。従って、本
発明でいう“後退接触角”orは, (但し、 γ :真空中の固体の表面張力γs1:固一
液界面張力 πe゛平衡表面張力 の関係式が成立つ(斉藤、北崎ら「日本接着協会誌」V
oQ.22、&I2, 1986)。
と後退接触角とは関連があり、また、後退接触角と液体
付着性との間にも関係がある。即ち、固体表面での液体
の付着は、液体の固体表面での主にタツキングによって
生じる。このタツキングはいわば液体が固体表面を滑べ
る時の一種の摩擦力とみなすことができる。従って、本
発明でいう“後退接触角”orは, (但し、 γ :真空中の固体の表面張力γs1:固一
液界面張力 πe゛平衡表面張力 の関係式が成立つ(斉藤、北崎ら「日本接着協会誌」V
oQ.22、&I2, 1986)。
従って、θ『の値が低くなるときγf値は大きくなる。
即ち、液体は固体面を滑べりにくくなり、その結果、液
体は固体面に付着するようになる。
体は固体面に付着するようになる。
これら相互の関連から推察しうるように、液体付着性は
後退接触角orがどの程度であるかに左右され、その後
退接触角orは表面自己配向機能を表面に有する部材の
如何により定められる。それ故、本発明装置においては
、記録体(A)はその表面に所望パターン領域の形成及
び/又は記録剤による顕像化の必要から、必然的に、表
面自己配向機能を表面に有する部材が選択されねばなら
ば゛い。
後退接触角orがどの程度であるかに左右され、その後
退接触角orは表面自己配向機能を表面に有する部材の
如何により定められる。それ故、本発明装置においては
、記録体(A)はその表面に所望パターン領域の形成及
び/又は記録剤による顕像化の必要から、必然的に、表
面自己配向機能を表面に有する部材が選択されねばなら
ば゛い。
本発明装置で用いられる記録体(A)は、既述のとおり
、「加熱状態でかつ液体と接触された場合に後退接触角
θrが低下ずる表面』を有するものである。
、「加熱状態でかつ液体と接触された場合に後退接触角
θrが低下ずる表面』を有するものである。
記録体(A)はその表面が上記のような性状を有してさ
えいれば、形状等は任意である。従って、記録体(A)
はフィルム状であっても、適当な支持体や成形体上に表
面が上記のような性状を有する別の塗工膜などが設けら
れていてもかまわない。
えいれば、形状等は任意である。従って、記録体(A)
はフィルム状であっても、適当な支持体や成形体上に表
面が上記のような性状を有する別の塗工膜などが設けら
れていてもかまわない。
成形体自体であってもかまわないが、その表面は上記の
ような性状を有していることが必要である。
ような性状を有していることが必要である。
この記録体(A)は、接触材料(B)の種類によっては
潜像領域における液体付着性部分が親油性又1す親水性
のいずれかになり、従って、複写物を得る際には油性イ
ンク、水性インクの記録剤のいずれも必要に応じて使い
わけられる。
潜像領域における液体付着性部分が親油性又1す親水性
のいずれかになり、従って、複写物を得る際には油性イ
ンク、水性インクの記録剤のいずれも必要に応じて使い
わけられる。
ここで、“加熱状態でかつ液体と接触させた場合に後退
接触角θ『が低下する表面を形成する”部材ないし材料
を幾つかに分類した例を第1図に示す。第1図(a)は
自己配向機能を有する化合物の例で、高分子重合体の側
鎖に疎水基を有する化合物であり、主鎖Lと疎水基Rと
は結合基Jにて結合している。
接触角θ『が低下する表面を形成する”部材ないし材料
を幾つかに分類した例を第1図に示す。第1図(a)は
自己配向機能を有する化合物の例で、高分子重合体の側
鎖に疎水基を有する化合物であり、主鎖Lと疎水基Rと
は結合基Jにて結合している。
第1図(b)は、疎水基を有する有機化合物においてそ
の疎水基を表面に配向した部材の例で、有機又l才無機
材料Mの表面に、物理的又は化学的結合により、前記疎
水基を有する化合物Oを形成した部材である。
の疎水基を表面に配向した部材の例で、有機又l才無機
材料Mの表面に、物理的又は化学的結合により、前記疎
水基を有する化合物Oを形成した部材である。
第1図(c)は、第1図(b)であげた疎水基を有する
有機化合物Oのみからなる部材の例である。
有機化合物Oのみからなる部材の例である。
第1図(d)は、直鎖状分子が高分子の側鎖にある例で
、主@Lと前記分子を結合基Jによりつなぎ、末端に疎
水基Rをもつ自己凝集性又は平面構造を有ずる分子鎖N
が中間にある化合物である。
、主@Lと前記分子を結合基Jによりつなぎ、末端に疎
水基Rをもつ自己凝集性又は平面構造を有ずる分子鎖N
が中間にある化合物である。
なお、第1図(a) (d)の例においては、高分子化
合物の主鎖Lは直線状でも網かけ構造でもよい。
合物の主鎖Lは直線状でも網かけ構造でもよい。
第1図(b)の例においては、累積LB膜のように、疎
水基含有化合物Oの上にさらに疎水基含有化合物0が積
層されていてもよい。第1図(C)の例においては、主
鎖(L)をもつことなく又は有機・無機材料OJ)など
に結合することなく、疎水基含有化合物Oのみによる構
造である。
水基含有化合物Oの上にさらに疎水基含有化合物0が積
層されていてもよい。第1図(C)の例においては、主
鎖(L)をもつことなく又は有機・無機材料OJ)など
に結合することなく、疎水基含有化合物Oのみによる構
造である。
前記の疎水基としては、分子の末端が好ましくは−CH
3や−CF3、−CF2H,−CFH2、−C(CF3
)3、C (CH3) 3などによっており、より好ま
しくは、分子運動性が高い点で分子長の長いものが有利
である。中でも、前記疎水基としては、一F及び/又は
CQ.が1つ以上ある置換アルキル基(一CFzCFz
CFCF2CFzのCQ ようなものでもよい)或いは無置換のアルキル基であっ
て、炭素数4以上のものが望ましい。フッ素置換、塩素
置換のいずれのものも用いうるが、フン素置換のものの
方が効果的である。これらの材料においては、アルキル
基炭素数と機能との関係では、炭素数が3以下であると
、記録装置に適する機能が低くなってしまう。
3や−CF3、−CF2H,−CFH2、−C(CF3
)3、C (CH3) 3などによっており、より好ま
しくは、分子運動性が高い点で分子長の長いものが有利
である。中でも、前記疎水基としては、一F及び/又は
CQ.が1つ以上ある置換アルキル基(一CFzCFz
CFCF2CFzのCQ ようなものでもよい)或いは無置換のアルキル基であっ
て、炭素数4以上のものが望ましい。フッ素置換、塩素
置換のいずれのものも用いうるが、フン素置換のものの
方が効果的である。これらの材料においては、アルキル
基炭素数と機能との関係では、炭素数が3以下であると
、記録装置に適する機能が低くなってしまう。
この機能発現の原理はいまだ完全に明らかにされた訳で
はなく、従って、不明な点が多いが、以下のことが推定
される。
はなく、従って、不明な点が多いが、以下のことが推定
される。
まず、上記化合物により形成された記録体(A)の表面
は、前記疎水基がかなり配向した表面となっていること
が考えられる。従って、この表面は液体反撥性を有する
(疎水基は表面エネルギーが小さいため)。この状態で
、記録体(A)の表面が接触材料(B)に接して加熱を
受けると、加熱による疎水基の分子運動が活発となり、
かつ、接触材料(B)との相互作用を受けて、記録体(
A)の表面の少なくとも一部の配向(整列)状態が別の
状態(即ち,別の配向状態又は配向が乱れた状態)にか
わり5冷却後もその別の状態を維持するためと思われる
。
は、前記疎水基がかなり配向した表面となっていること
が考えられる。従って、この表面は液体反撥性を有する
(疎水基は表面エネルギーが小さいため)。この状態で
、記録体(A)の表面が接触材料(B)に接して加熱を
受けると、加熱による疎水基の分子運動が活発となり、
かつ、接触材料(B)との相互作用を受けて、記録体(
A)の表面の少なくとも一部の配向(整列)状態が別の
状態(即ち,別の配向状態又は配向が乱れた状態)にか
わり5冷却後もその別の状態を維持するためと思われる
。
なお、記録体(A)の表面に接触材料(B)が接した状
態のもとで加熱することは、接触材料(B)の形態如何
により、記録体(A)の表面が加熱された状態のちとに
液体を接触させることになる。
態のもとで加熱することは、接触材料(B)の形態如何
により、記録体(A)の表面が加熱された状態のちとに
液体を接触させることになる。
この加熱前は、疎水基が表面に整列(配向)していろた
め、記録体(A)の表面エネルギーは極めて少ない。
め、記録体(A)の表面エネルギーは極めて少ない。
ところが、前記の接触材料(B)が接した状態のもとて
の加熱により、配向状態は乱れて表面エネルギーが高ま
る。後退接触角orは、液体の種類にかからわす、固体
と液体との表面エネルギーのバランスで決定される。こ
のため,固体の表面エネルギーが高まれば、液体の種類
にかかわらず、後退接触角θrは低くなる。従って、液
体に対する付着性は増大ずることになる。
の加熱により、配向状態は乱れて表面エネルギーが高ま
る。後退接触角orは、液体の種類にかからわす、固体
と液体との表面エネルギーのバランスで決定される。こ
のため,固体の表面エネルギーが高まれば、液体の種類
にかかわらず、後退接触角θrは低くなる。従って、液
体に対する付着性は増大ずることになる。
更に、記録体(A)の表面が別の状態(元の配向状態と
は異なるF別の配向状態」又は「配向が乱れた状態」)
で接触材料(B)の不存在下に加熱を受けると、接触材
料(B)との相互作用が生じないため、元の整列(配向
)状態にもどると思われる。
は異なるF別の配向状態」又は「配向が乱れた状態」)
で接触材料(B)の不存在下に加熱を受けると、接触材
料(B)との相互作用が生じないため、元の整列(配向
)状態にもどると思われる。
従って、接触材料(13)の存在は単なる記録体(A)
の表面を加熱後の急冷を行なうためのものではなく、記
録体(A)の表面の化合物との何らかの相互作用をおこ
すものであり、この相互作用があって、はじめて別の状
態(別の配向状態又は配向が乱れた状態)への変化がお
こると思われる。
の表面を加熱後の急冷を行なうためのものではなく、記
録体(A)の表面の化合物との何らかの相互作用をおこ
すものであり、この相互作用があって、はじめて別の状
態(別の配向状態又は配向が乱れた状態)への変化がお
こると思われる。
前記のとおり、記録体(A)の表面を形威する部材(化
合物)の疎水基として、アルキル基又はフッ素あるいは
塩素置換のアルキル基が採用された場合には、アルキル
基の炭素数が4以上であるのが望ましいのは、記録体(
A)の表面にアルキル基がある程度整列(配向)し、し
かも加熱時に活発な分子運動をするのに必要な数に由来
しているものと思われる。また、接触材料(B)が記録
体(A)の表面とともに加熱を受けた時、記録体(A)
表面の分子中に接触材料(B)の分子がとりこまれるこ
とも考えられる。さらに,アルキル基中に電気陰性度の
高いフッ素や塩素があると、液体特に極性液体との相互
作用が大きくなるため、水素のみのアルキル基を含有す
る化合物よりも大きな付着性変化が得られる。また、フ
ッ素を含有するアルキル基は、自己凝集性が強いため、
表面自己配向機能が高く、更に、表面エネルギーが低い
ため、地肌よごれ防止の点ですぐれている。
合物)の疎水基として、アルキル基又はフッ素あるいは
塩素置換のアルキル基が採用された場合には、アルキル
基の炭素数が4以上であるのが望ましいのは、記録体(
A)の表面にアルキル基がある程度整列(配向)し、し
かも加熱時に活発な分子運動をするのに必要な数に由来
しているものと思われる。また、接触材料(B)が記録
体(A)の表面とともに加熱を受けた時、記録体(A)
表面の分子中に接触材料(B)の分子がとりこまれるこ
とも考えられる。さらに,アルキル基中に電気陰性度の
高いフッ素や塩素があると、液体特に極性液体との相互
作用が大きくなるため、水素のみのアルキル基を含有す
る化合物よりも大きな付着性変化が得られる。また、フ
ッ素を含有するアルキル基は、自己凝集性が強いため、
表面自己配向機能が高く、更に、表面エネルギーが低い
ため、地肌よごれ防止の点ですぐれている。
更にまた、記録体(A)の表面は液体反撥性を有するが
、これを固体の表面エネルギーで記述すると、本発明者
らの検討では、50dyn/cm以下であることが記録
装置として望ましいことがわかった。
、これを固体の表面エネルギーで記述すると、本発明者
らの検討では、50dyn/cm以下であることが記録
装置として望ましいことがわかった。
これ以上の高い値では記録剤に対して記録体(A)0表
面が、時として、ぬれてしまい、地肌よごれをお二すお
それがある。
面が、時として、ぬれてしまい、地肌よごれをお二すお
それがある。
ここで、記録体(A)の表面を形成する化合物の詳細を
述べる。まず、第1図(a)及び(d)のタイプについ
てビニル系高分子側鎖にアルキル基(フッ素置換及び/
又は塩素置換のものも含む冫を有する化合物などが考え
られる。具体的には、式(r)(TI)(m)(■)(
V)(VI)及び(■)(ノ=し Kl COORI CH2=CR (C H 2}t−R f ・(■〉 1i:−}{、−C}13、−C2H5、−CF3又は
ーC2F5Rl:C4以上のアルキル基又はフッ素若し
くは塩素置換アルキル基を含有した基、もしくは、分子
鎖中に→CF2+−a.→CHz+a又は−〇一をもつ
疎水基劃≧4) n’:I以上の整数 をモノマーとした重合体があげられる。
述べる。まず、第1図(a)及び(d)のタイプについ
てビニル系高分子側鎖にアルキル基(フッ素置換及び/
又は塩素置換のものも含む冫を有する化合物などが考え
られる。具体的には、式(r)(TI)(m)(■)(
V)(VI)及び(■)(ノ=し Kl COORI CH2=CR (C H 2}t−R f ・(■〉 1i:−}{、−C}13、−C2H5、−CF3又は
ーC2F5Rl:C4以上のアルキル基又はフッ素若し
くは塩素置換アルキル基を含有した基、もしくは、分子
鎖中に→CF2+−a.→CHz+a又は−〇一をもつ
疎水基劃≧4) n’:I以上の整数 をモノマーとした重合体があげられる。
その他のボリマーとしては、式(■)(■)及び(X)
に示したごときものがあげられる。
に示したごときものがあげられる。
NH
0=C−Rl
R>t{,−CH3、−C2H5、−CF3又は−C2
F5R(:C4以上のアルキル基又はフッ素もしくは塩
素置換アルキル基を含有した基、もしくは、分子tll
J 中1:−40cF2+−a、*CH2+a又は一〇
−を含む疎水基劃≧4) n:l(1以上の整数 これら具体例でRfをより詳しくいえば下記(1)から
(20)までのものを例示することができる。
F5R(:C4以上のアルキル基又はフッ素もしくは塩
素置換アルキル基を含有した基、もしくは、分子tll
J 中1:−40cF2+−a、*CH2+a又は一〇
−を含む疎水基劃≧4) n:l(1以上の整数 これら具体例でRfをより詳しくいえば下記(1)から
(20)までのものを例示することができる。
(1)−CH2CFzCHFCF3
0
11
(4) CHzC82N C (CF2)7CF
(CF3)2C(CH3)3 (5) CH2CHCH2(CF2)4CF30H (6)−CH2(CF2)+oH (7) −+CF2hO−CF2CF3(8)→C H
zhN H C F 2 C F 3(9)→CF
2)−KCF3 (10)→CH2)IOCIIF +7(12) −f
CH2) loNS02CaF+yC}{3 ?13) CH2NHS02C8F+y(14)→
CF2《トF (15)c−s−CH2CH2 (CF3)6CF(
CF3)2(16) CH2CF2CF2CF3(
+7)−CH■CH■CH2CH2F(1g) C
H2(CFzb,CF3(+9) CH2(CF2
)5CF3(2G) −4c H2) 3C F 3こ
れらの化合物のうちでも、特に、下記(XI)の材料の
使用が効果的である。
(CF3)2C(CH3)3 (5) CH2CHCH2(CF2)4CF30H (6)−CH2(CF2)+oH (7) −+CF2hO−CF2CF3(8)→C H
zhN H C F 2 C F 3(9)→CF
2)−KCF3 (10)→CH2)IOCIIF +7(12) −f
CH2) loNS02CaF+yC}{3 ?13) CH2NHS02C8F+y(14)→
CF2《トF (15)c−s−CH2CH2 (CF3)6CF(
CF3)2(16) CH2CF2CF2CF3(
+7)−CH■CH■CH2CH2F(1g) C
H2(CFzb,CF3(+9) CH2(CF2
)5CF3(2G) −4c H2) 3C F 3こ
れらの化合物のうちでも、特に、下記(XI)の材料の
使用が効果的である。
〔但し、
R】.水素、−CnH2n+I又は−cn’p2r++
I (n=I又は2以上の整数) R2:−(CH2+− (p≧1の整数)p 又は→C H 2 + N ( R 3) S 0 2
−q (R3は C113又は C 2H ,、 q≧1の整数) m.6以上の整数 である。
I (n=I又は2以上の整数) R2:−(CH2+− (p≧1の整数)p 又は→C H 2 + N ( R 3) S 0 2
−q (R3は C113又は C 2H ,、 q≧1の整数) m.6以上の整数 である。
〕
従って、
本発明における記録体(A)表面の部材の最も好ましい
具体的化合物としては C2H5 CH2=CH COO→CH分−dcF2hF CHz=C(C}{3) Co04CH分式CF2石F CI■2=CH Coo−CH2CF2CHFCF3 CH2=C(CH3) COO→CH廿バCF2hF CH2=CH COOCH2(CF2)7CF3 CH2=CH COOCH2(CF2)9CF3 C}{2=C(CH3) COOCH2(CF2)7CF3 などが挙げられる。
具体的化合物としては C2H5 CH2=CH COO→CH分−dcF2hF CHz=C(C}{3) Co04CH分式CF2石F CI■2=CH Coo−CH2CF2CHFCF3 CH2=C(CH3) COO→CH廿バCF2hF CH2=CH COOCH2(CF2)7CF3 CH2=CH COOCH2(CF2)9CF3 C}{2=C(CH3) COOCH2(CF2)7CF3 などが挙げられる。
さらに、これら式(I )(II)(m)(IV)(V
)(Vl)(■)及び(XI)のモノマーどラし(2種
以上のモノマーの共重合体)の他に、他のモノマー例え
ばエチレン、塩化ビニル,スチレン、ブタジェン、イソ
プレン,クaOプレン、ビニルアルキルエーテル、酢酸
ビニル、ビニルアルコールなどとの共重合体も上記化合
物として適する。
)(Vl)(■)及び(XI)のモノマーどラし(2種
以上のモノマーの共重合体)の他に、他のモノマー例え
ばエチレン、塩化ビニル,スチレン、ブタジェン、イソ
プレン,クaOプレン、ビニルアルキルエーテル、酢酸
ビニル、ビニルアルコールなどとの共重合体も上記化合
物として適する。
また,式(XI)の七ノマーと官能基を有する重合性モ
ノマー例えば (12=((CH3)COO(CH2) 208CH2
=C(CH3)COOCHzCH(OH)CH3CtL
2=CHCOOCH2CH(OH)CsF+yなどの1
種以上とで共重合物をつくり重合物中に官能基を多数導
入するか、式(XI)のモノマーと官能基を有する重合
性モノマーとの共重合物をつくり、続いて、官能基を多
数含んだ共重合物どうしを架橋試薬をもちいて架橋する
ことにより製造した架橋性重合体も材料としてすぐれて
いる。架橋試薬としては、ホルムアルデヒド、ジアルデ
ヒドN−メチロール化合物、ジカルボン酸、ジカルボン
酸クロライド、ビスハロゲン化合物、ビスエポキシド、
ビスアジりジン、ジイソシアネートなどがあげられる。
ノマー例えば (12=((CH3)COO(CH2) 208CH2
=C(CH3)COOCHzCH(OH)CH3CtL
2=CHCOOCH2CH(OH)CsF+yなどの1
種以上とで共重合物をつくり重合物中に官能基を多数導
入するか、式(XI)のモノマーと官能基を有する重合
性モノマーとの共重合物をつくり、続いて、官能基を多
数含んだ共重合物どうしを架橋試薬をもちいて架橋する
ことにより製造した架橋性重合体も材料としてすぐれて
いる。架橋試薬としては、ホルムアルデヒド、ジアルデ
ヒドN−メチロール化合物、ジカルボン酸、ジカルボン
酸クロライド、ビスハロゲン化合物、ビスエポキシド、
ビスアジりジン、ジイソシアネートなどがあげられる。
このようにして得られた架橋重合物の一例を下記に示す
。
。
上記の式において、^プロソクは前記の熱的性質の変化
をもたらすアルキル基であり、一方、Bブロックは鎖状
ボリマーどうしを架橋している(架橋試薬としてジイソ
シアネートを用いて架橋したもの)部位である。
をもたらすアルキル基であり、一方、Bブロックは鎖状
ボリマーどうしを架橋している(架橋試薬としてジイソ
シアネートを用いて架橋したもの)部位である。
架橋体による膜を得るには、前記の共重合物と架橋試薬
とを混合した溶液をコート液として基板上に塗布し、加
熱又は電子線照射や光照射により架橋重合膜を得るよう
にすればよい。
とを混合した溶液をコート液として基板上に塗布し、加
熱又は電子線照射や光照射により架橋重合膜を得るよう
にすればよい。
なお、上記モノマーから重合体を得るには、溶液重合、
電解重合、乳化重合、光重合、放射線重合、プラズマ重
合、グラフト重合、プラズマ開始重合、蒸着重合など、
材料により適当な方法が選択される。
電解重合、乳化重合、光重合、放射線重合、プラズマ重
合、グラフト重合、プラズマ開始重合、蒸着重合など、
材料により適当な方法が選択される。
次に、第1図(b)に示した化合物について述べる。
ここでは,式(Xl+)、(Xlll)及び(HV)に
示す材料R,−COOH ・iXn)
R,−OH ・・・(Xm)R−
CH2九SiX ・・・(x■)(R1炭素
数4以上のアルキル基又はフッ素又は塩素置換のアルキ
ル基を含有した基、もしくは、分子鎖中に−+c F
2 +−a、→CH2)−。又は一〇−を含む疎水基(
Il≧4)) n:■以上の!I数 X:塩素、メトキシ基又はエトキシ基)等をガラス,金
、銅などの無機材料やポリイミド、ポリエステル、ポリ
エチレンテレフダレートなどの有機材科表面に物理吸着
又は化学結合した材料(表面エネルギーが約50dyn
/cm以下であるのが好ましい)であることが望ましい
。
示す材料R,−COOH ・iXn)
R,−OH ・・・(Xm)R−
CH2九SiX ・・・(x■)(R1炭素
数4以上のアルキル基又はフッ素又は塩素置換のアルキ
ル基を含有した基、もしくは、分子鎖中に−+c F
2 +−a、→CH2)−。又は一〇−を含む疎水基(
Il≧4)) n:■以上の!I数 X:塩素、メトキシ基又はエトキシ基)等をガラス,金
、銅などの無機材料やポリイミド、ポリエステル、ポリ
エチレンテレフダレートなどの有機材科表面に物理吸着
又は化学結合した材料(表面エネルギーが約50dyn
/cm以下であるのが好ましい)であることが望ましい
。
式(Xll)(Xm)及ヒ(XIV)ノ具体例としてC
F3→CF,$COOH , CF1→C F 2hC O O H ,CF3+CF
zh(CH2hOH , H−4CF2扇COOH , H{CF2}TKICH20H , F→CFzhCH2CH2 Si(CH3)2(J2
,CF2C氾(CF3)CF(CF2)5COOH
,CF3(CF2)7(CH2)2S i C氾3など
があげられる。
F3→CF,$COOH , CF1→C F 2hC O O H ,CF3+CF
zh(CH2hOH , H−4CF2扇COOH , H{CF2}TKICH20H , F→CFzhCH2CH2 Si(CH3)2(J2
,CF2C氾(CF3)CF(CF2)5COOH
,CF3(CF2)7(CH2)2S i C氾3など
があげられる。
第1図(c)に示す化合物としては式(X II ),
式(Xlll)や式(XIV)の材料のみの構造体があ
げられる。
式(Xlll)や式(XIV)の材料のみの構造体があ
げられる。
続いて、上記化合物を用いた記録体(A)について述べ
る。
る。
記録体(A)の構成としては、支持体(Ifましくけ耐
熱性支持体)上に前記の表面部材を形成したものである
。従って、記録体(A)の形状はフィルム状あるいは板
状であっても、円筒状であっても、エントレスベルト状
であってもかまわない。記録体(A)自体の膜厚は3O
A−1mmが望ましい。ただし、熱伝導性の点では10
0A〜10,n、耐摩耗性の点では10IJs−1mm
がすぐれている。支持体の耐熱温度としては、50℃〜
300℃が望ましい。
熱性支持体)上に前記の表面部材を形成したものである
。従って、記録体(A)の形状はフィルム状あるいは板
状であっても、円筒状であっても、エントレスベルト状
であってもかまわない。記録体(A)自体の膜厚は3O
A−1mmが望ましい。ただし、熱伝導性の点では10
0A〜10,n、耐摩耗性の点では10IJs−1mm
がすぐれている。支持体の耐熱温度としては、50℃〜
300℃が望ましい。
支持体の形状は、ベルト状、板状、ドラム状いずれでも
よく、装置の使用用途に応じて選定する。
よく、装置の使用用途に応じて選定する。
特に、ドラム状は装置における寸法精度を出せる点です
ぐれている。板状のものは、記録紙サイズに応じてその
大きさを決めればよい。耐熱性支持体としては、ポリイ
ミド、ポリエステルなどの樹脂フィルムやガラスやNi
. Afi、Cu.Cr. Piなどの金属や金属酸化
物等が好ましい。これら支持体は平滑でも粗面や多孔質
であってもよい。
ぐれている。板状のものは、記録紙サイズに応じてその
大きさを決めればよい。耐熱性支持体としては、ポリイ
ミド、ポリエステルなどの樹脂フィルムやガラスやNi
. Afi、Cu.Cr. Piなどの金属や金属酸化
物等が好ましい。これら支持体は平滑でも粗面や多孔質
であってもよい。
次に、接触材料(B)について説明する。
接触材料(B)は、先に記載したとおりであるが、端的
にいえば、当初から戒体あるいは蒸気であるか、又は、
記録体(A)にいう後退接触角orの低下開始温度以下
で結果的に液体を生じさせる固体である。ここでの蒸気
は、記録体(A)の表面又は表面近傍で、少なくともそ
の一部が凝縮して液体を生ぜしめ、その液体が記録体(
A)の表面を濡らすことができるものであれば充分であ
る。一方、ここでの固体は,前記後退接触角θrの低下
開始温度以下で液体となるか、肢体を発生させるか、又
は、蒸気を発生させるものである。固体から発生された
蒸気は記録体(A)の表面又はその近傍で凝縮して液体
を生じさせることは前記の場合と同様である。
にいえば、当初から戒体あるいは蒸気であるか、又は、
記録体(A)にいう後退接触角orの低下開始温度以下
で結果的に液体を生じさせる固体である。ここでの蒸気
は、記録体(A)の表面又は表面近傍で、少なくともそ
の一部が凝縮して液体を生ぜしめ、その液体が記録体(
A)の表面を濡らすことができるものであれば充分であ
る。一方、ここでの固体は,前記後退接触角θrの低下
開始温度以下で液体となるか、肢体を発生させるか、又
は、蒸気を発生させるものである。固体から発生された
蒸気は記録体(A)の表面又はその近傍で凝縮して液体
を生じさせることは前記の場合と同様である。
これら接触材料(8)をより具体的にいえば次のとおり
である。
である。
即ち、接触材料(B)の一つである液体としては、水の
他に、電解質を含む水溶液、エタノール、n−ブタノー
ル等のアルコール、グリセリン、エチレングリコール等
の多価アルコール、メチルエチルケトン等のケトン類の
ごとき有極性液体や、n−ノナン、n−すクタ〉等の直
鎖状炭化水素、シクローキサン等の環式状炭化水素、m
−キシレン、ベンセン等の芳香族炭化水素のごとき無極
性液体があげられる。また、これらの混合体でもよいし
、さらには極性液体であってもかまわない。
他に、電解質を含む水溶液、エタノール、n−ブタノー
ル等のアルコール、グリセリン、エチレングリコール等
の多価アルコール、メチルエチルケトン等のケトン類の
ごとき有極性液体や、n−ノナン、n−すクタ〉等の直
鎖状炭化水素、シクローキサン等の環式状炭化水素、m
−キシレン、ベンセン等の芳香族炭化水素のごとき無極
性液体があげられる。また、これらの混合体でもよいし
、さらには極性液体であってもかまわない。
接触材料(8)の他の一つである蒸気として1才水蒸気
の外に、接触材料(B)の液体の蒸気であれば使用でき
るが、特にエタノール蒸気やm−キシレン蒸気などの有
機化合物の蒸気(噴霧状態のものを含む)があげられる
。この有機化合物蒸気の温度は記録体(A)の表面を形
成する化合物の融点或いは軟化点以下である必要がある
。
の外に、接触材料(B)の液体の蒸気であれば使用でき
るが、特にエタノール蒸気やm−キシレン蒸気などの有
機化合物の蒸気(噴霧状態のものを含む)があげられる
。この有機化合物蒸気の温度は記録体(A)の表面を形
成する化合物の融点或いは軟化点以下である必要がある
。
接触材料(B)の他のもう一つである固体としては、高
級脂肪酸、低分子量ポリエチレン、高分子ゲル(ポリア
クリルアミドゲル、ポリビニルアルコールゲル)、シリ
カゲル、結晶水を含んだ化合物などがあげられる。
級脂肪酸、低分子量ポリエチレン、高分子ゲル(ポリア
クリルアミドゲル、ポリビニルアルコールゲル)、シリ
カゲル、結晶水を含んだ化合物などがあげられる。
なお、後述するところからより明らかになるが、接触材
料(B)として、液状インクのごとき゛′顕色剤を含有
した記録剤′゛を用いた場合には、潜像形成ど同時に顕
像化が行なわれることになる。
料(B)として、液状インクのごとき゛′顕色剤を含有
した記録剤′゛を用いた場合には、潜像形成ど同時に顕
像化が行なわれることになる。
続いて、加熱手段(潜像ないし画像形成のための加熱手
段)について説明する。
段)について説明する。
潜像形成のための加熱手段は、本発明の装置にあっては
、前記の記録体(A)と実質的に一体化されでいる。こ
のため、本発明装置では、望ましくは、加熱手段を微小
な発熟体をもつ薄膜加熱層として形成し、この上に.;
Wい樹脂層(絶縁層)を介して、表面部材(記録体(A
)〉を設けた構成が採用される。このような構成により
、加熱手段からの熱の拡散が抑えられ、記録体(A)に
する加熱効率が向士するため、高速記録が可能となる。
、前記の記録体(A)と実質的に一体化されでいる。こ
のため、本発明装置では、望ましくは、加熱手段を微小
な発熟体をもつ薄膜加熱層として形成し、この上に.;
Wい樹脂層(絶縁層)を介して、表面部材(記録体(A
)〉を設けた構成が採用される。このような構成により
、加熱手段からの熱の拡散が抑えられ、記録体(A)に
する加熱効率が向士するため、高速記録が可能となる。
第2図(a)は支持体1七に記録体(A)の表面を構成
する前記化合物からなる表面部材2(以下膜2と記すこ
ともある)が形成され、この膜面に接触材料(B)のう
ちの例えば液体3が存在している状態を示している。こ
の状態において、膜2を加熱すると、膜2表面は後退接
触角orが低Fして著しい濡れを示し、液体付着性を有
してし,ようのが認められる。
する前記化合物からなる表面部材2(以下膜2と記すこ
ともある)が形成され、この膜面に接触材料(B)のう
ちの例えば液体3が存在している状態を示している。こ
の状態において、膜2を加熱すると、膜2表面は後退接
触角orが低Fして著しい濡れを示し、液体付着性を有
してし,ようのが認められる。
更に、この液体付着性を有する膜2を空気中、真空中又
は不活性ガス雰囲気中で再び加熱する(第2図(b))
と膜2表面は後退接触角θ『が高まっていき再び液体反
撥性を示すのが認められる。
は不活性ガス雰囲気中で再び加熱する(第2図(b))
と膜2表面は後退接触角θ『が高まっていき再び液体反
撥性を示すのが認められる。
このような現象と幾分類似した現象を示すものとして、
先にあげた特公昭54−41902号公報に記載された
方法がある。だが、ここに開示されている方法では記録
材料に実質的にディスオーダーでかつ一般的に不定形の
メモリ物質の層を得るようにしている点でメカニズム上
大きく相違したものとなっている。すなわち、本発明で
は、接触材料(B)の存在なしでは、記録体(A)表面
には状態変化がおこりえない。また、特公昭54−41
902号公報に記載された方法では、簡単な操作で可逆
性を得ることはできない。
先にあげた特公昭54−41902号公報に記載された
方法がある。だが、ここに開示されている方法では記録
材料に実質的にディスオーダーでかつ一般的に不定形の
メモリ物質の層を得るようにしている点でメカニズム上
大きく相違したものとなっている。すなわち、本発明で
は、接触材料(B)の存在なしでは、記録体(A)表面
には状態変化がおこりえない。また、特公昭54−41
902号公報に記載された方法では、簡単な操作で可逆
性を得ることはできない。
この膜2の水溶液接触下での加熱前後の水溶液の接触角
の変動,及び、このものを更に空気中で加熱した場合の
水溶妓の接触角の変動の一例を第3図に示した。第3図
において、Oは前進接触角、△は後退接角を表tx)L
ている。
の変動,及び、このものを更に空気中で加熱した場合の
水溶妓の接触角の変動の一例を第3図に示した。第3図
において、Oは前進接触角、△は後退接角を表tx)L
ている。
一般に、後退接触角が90゜以Lの高い値の場合,その
表面は液体反撥性を示し、90″以Fの低い値の場合、
その表面は液体付着性を示す。
表面は液体反撥性を示し、90″以Fの低い値の場合、
その表面は液体付着性を示す。
接触材科(B)に接した状態での記録体(A)表面の加
熱温度としては、50℃〜250℃の範囲が望ましく、
さらに望ましくは80℃〜150℃である。加熱時間は
、0.1m秒−1秒程度で望ましくは0. 5m秒〜2
m秒である。
熱温度としては、50℃〜250℃の範囲が望ましく、
さらに望ましくは80℃〜150℃である。加熱時間は
、0.1m秒−1秒程度で望ましくは0. 5m秒〜2
m秒である。
加熱のタイミングとしては、■記録体(A)表面を加熱
した後、んめないうちに接触材料(B)に接触させる、
■記録体(A)表面に接触材料(B)を接触させた状態
のもとに記録体(A)表面を加熱させる、のいずれかで
もよい。
した後、んめないうちに接触材料(B)に接触させる、
■記録体(A)表面に接触材料(B)を接触させた状態
のもとに記録体(A)表面を加熱させる、のいずれかで
もよい。
続いて、記録体(A)表面に実際に画像情報の記録を行
なう手段についてより詳細に説明する。
なう手段についてより詳細に説明する。
−つば,液体又は蒸気雰囲気下で画像信号に応じて記録
体(A)の表面を加熱し、記録体(A)の表面に液体付
着領域を形成(潜像形成)し、その後、この潜像部に記
録剤を接触させる手段により潜像部に記録剤を付着させ
(現像)、続いて、記録紙に記録体(A)表面の記録剤
を転写する方法である(間接記録方法)。さらに、この
方法において、記録剤を転写後、再び潜像部に記録剤を
接触させる手段を行えば、記録体(A)を印刷版として
用いた印刷方法となる。また、上記の方法において、記
録剤を記録紙に転写後、液体又は蒸気の不存在下で潜像
を形成した記録体(A)の表面を加熱し潜像を消去する
ことにより、記録体(A)が再生可能な記録方法となる
。第4図(aL(b)に間接記録方法(印刷法)、記録
体の可逆的な記録方法(繰り返し記録方法)の代表的な
プロセスを示す。
体(A)の表面を加熱し、記録体(A)の表面に液体付
着領域を形成(潜像形成)し、その後、この潜像部に記
録剤を接触させる手段により潜像部に記録剤を付着させ
(現像)、続いて、記録紙に記録体(A)表面の記録剤
を転写する方法である(間接記録方法)。さらに、この
方法において、記録剤を転写後、再び潜像部に記録剤を
接触させる手段を行えば、記録体(A)を印刷版として
用いた印刷方法となる。また、上記の方法において、記
録剤を記録紙に転写後、液体又は蒸気の不存在下で潜像
を形成した記録体(A)の表面を加熱し潜像を消去する
ことにより、記録体(A)が再生可能な記録方法となる
。第4図(aL(b)に間接記録方法(印刷法)、記録
体の可逆的な記録方法(繰り返し記録方法)の代表的な
プロセスを示す。
本発明において用いる記録紙(被転写体)としては、透
明樹脂フイルム、普通紙、インクジェット用紙、タイプ
紙などが適当である。
明樹脂フイルム、普通紙、インクジェット用紙、タイプ
紙などが適当である。
次に記録剤について述べる。
本発明の記録装置において記録体(A)表面上に可視画
像を得るには、記録剤として筆記用インク、インクジェ
ソト用インク、印刷インク、電子写真用トナー等の従来
の印字記録方法に用いられてきた記録剤の中から、前記
プロセスに適合するものを選択し使用することができる
。
像を得るには、記録剤として筆記用インク、インクジェ
ソト用インク、印刷インク、電子写真用トナー等の従来
の印字記録方法に用いられてきた記録剤の中から、前記
プロセスに適合するものを選択し使用することができる
。
より具体的な例を挙げると、例えば水性インクとしては
,水、湿潤剤、染料を主体とする水溶性インク又は水、
顔料、分散用高分子化合物、湿潤剤を主体とした水性顔
料分散インク、顔料又は染料を界面活性剤を用いて水に
分散せしめたエマルジョン・インク等が用いられる。水
性インクに用いられるm潤剤としては,次のような水溶
性の有機液体化合物が挙げられる。
,水、湿潤剤、染料を主体とする水溶性インク又は水、
顔料、分散用高分子化合物、湿潤剤を主体とした水性顔
料分散インク、顔料又は染料を界面活性剤を用いて水に
分散せしめたエマルジョン・インク等が用いられる。水
性インクに用いられるm潤剤としては,次のような水溶
性の有機液体化合物が挙げられる。
エタノール,メタノール、プロバノール等の価アルコー
ル類:エチレングリコール,ジエチレングリコール、ト
リエチレシグリコール、テトラエチレングリコール、ポ
リエチレングリコール、プaピレングリコール,ジブロ
ビレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類:
エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレング
リコール七ノメチルエーテル,トリエチレングリコール
モノメチルエーテル、テトラエチレングリコールモノメ
チルエーテル,プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル,エチレングリコール、ジエチレングリコールモノエ
チルエーテル、トリエチレングリコーノレモノエチノレ
エーテlレ、テトラエチレ冫・グリコールモノエチルエ
ーテル、ブロビレングリコールモノエチルエーテル等の
多価アルコールのエーテル類.N−メチル−2−ピロリ
ドン、1.3−ジメチルイミダゾリジノン、l一カブロ
ラクタム等の複素環式化合物:モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノエチ
ルアミン,シエチルアミン、トリエチルアミン等のアミ
ン類等。
ル類:エチレングリコール,ジエチレングリコール、ト
リエチレシグリコール、テトラエチレングリコール、ポ
リエチレングリコール、プaピレングリコール,ジブロ
ビレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類:
エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレング
リコール七ノメチルエーテル,トリエチレングリコール
モノメチルエーテル、テトラエチレングリコールモノメ
チルエーテル,プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル,エチレングリコール、ジエチレングリコールモノエ
チルエーテル、トリエチレングリコーノレモノエチノレ
エーテlレ、テトラエチレ冫・グリコールモノエチルエ
ーテル、ブロビレングリコールモノエチルエーテル等の
多価アルコールのエーテル類.N−メチル−2−ピロリ
ドン、1.3−ジメチルイミダゾリジノン、l一カブロ
ラクタム等の複素環式化合物:モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノエチ
ルアミン,シエチルアミン、トリエチルアミン等のアミ
ン類等。
水溶性染料としては、カラー・インデックスにおいて酸
性染料、直接染料,塩基性染料,反応性染料に分類され
る染料が用いられる。代表的な染料の例としては、 C. I.アシンド・イエロー+7.23,42,44
,79,142C.1.アシンド・レッド1,8.+3
.+4.+11.26,27,35.37,42,52
,82.87,89,92,97,+06,Ill,J
]4,115,134,!86,249,254.28
9 C. I.アシッド・ブルー9. 29, 45, 9
2, 249.890C.I.アシッド・ブラック1,
2,7,24.26.94C.1.フード・イエロー3
,4 C.I、フード・レッド7,9.14 C.1.フード・ブラック2 C. I.ダイレクト・イエロー1, +2.24,2
6,33,44,50,142, 144,865 C.1,ダイレクト・レッド1.4,9,+3.17.
20.28.3+,39,110.81,83,89,
225,227 C.1.ダイレクト・オレンジ26,29,62.10
2C.1.ダイレクト・プルー1.2,6, +5.2
2,25.7+,76,79,86.8?,90,98
,163,165,202 C.I.ダイレクト・ブラック+9.22,32.38
.51,567+,74,75,77, 154.16
8C.l.ベーシソク・イエロー1.2,II.+3.
+4.15.19,21,23,24,25,28,2
9,32,36.40.4+,45.49.5+,53
,63.65.67,70 73, 77.87. 91 C.I.ベーシソク・レノト2, +2. 13. 1
4. 15. IL 22,23.24.27,29.
35,36.38.39,46,49.5+,52,5
4.5’l,611,69,70,73,711,82
,102,104,+(19,112 C.1,ベーシソク・ブルー1.3,5,7,9.2+
,22,26,35,41,45,47.54,62.
65.66,67,69,75,77,711,119
,92,93, !(15,目7. 12(1, 12
2,!24. 129, I37. 14+, 147
,155 ベーシック・ブランク2,8 等を挙げることができる。
性染料、直接染料,塩基性染料,反応性染料に分類され
る染料が用いられる。代表的な染料の例としては、 C. I.アシンド・イエロー+7.23,42,44
,79,142C.1.アシンド・レッド1,8.+3
.+4.+11.26,27,35.37,42,52
,82.87,89,92,97,+06,Ill,J
]4,115,134,!86,249,254.28
9 C. I.アシッド・ブルー9. 29, 45, 9
2, 249.890C.I.アシッド・ブラック1,
2,7,24.26.94C.1.フード・イエロー3
,4 C.I、フード・レッド7,9.14 C.1.フード・ブラック2 C. I.ダイレクト・イエロー1, +2.24,2
6,33,44,50,142, 144,865 C.1,ダイレクト・レッド1.4,9,+3.17.
20.28.3+,39,110.81,83,89,
225,227 C.1.ダイレクト・オレンジ26,29,62.10
2C.1.ダイレクト・プルー1.2,6, +5.2
2,25.7+,76,79,86.8?,90,98
,163,165,202 C.I.ダイレクト・ブラック+9.22,32.38
.51,567+,74,75,77, 154.16
8C.l.ベーシソク・イエロー1.2,II.+3.
+4.15.19,21,23,24,25,28,2
9,32,36.40.4+,45.49.5+,53
,63.65.67,70 73, 77.87. 91 C.I.ベーシソク・レノト2, +2. 13. 1
4. 15. IL 22,23.24.27,29.
35,36.38.39,46,49.5+,52,5
4.5’l,611,69,70,73,711,82
,102,104,+(19,112 C.1,ベーシソク・ブルー1.3,5,7,9.2+
,22,26,35,41,45,47.54,62.
65.66,67,69,75,77,711,119
,92,93, !(15,目7. 12(1, 12
2,!24. 129, I37. 14+, 147
,155 ベーシック・ブランク2,8 等を挙げることができる。
顔料としては、有機顔料としてアゾ系、フタロシアニン
系、アンスラキノン系、キナクリドン系、ジオキサジン
系、インジゴ系、チオインジゴ系、ペリノン系、ペリレ
ン系、イソインドレノン系、アニリン・ブラック,アゾ
メチンアゾ系、カーボン・ブランク等が挙げられ、無機
顔料として酸化鉄、酸化チタン、炭酸カルシウム、硫酸
バリウム、水酸化アルミニウム、バリウムイエロー、紺
青、カドミウムレノド、クロムイエロー、金属粉が挙げ
られる。
系、アンスラキノン系、キナクリドン系、ジオキサジン
系、インジゴ系、チオインジゴ系、ペリノン系、ペリレ
ン系、イソインドレノン系、アニリン・ブラック,アゾ
メチンアゾ系、カーボン・ブランク等が挙げられ、無機
顔料として酸化鉄、酸化チタン、炭酸カルシウム、硫酸
バリウム、水酸化アルミニウム、バリウムイエロー、紺
青、カドミウムレノド、クロムイエロー、金属粉が挙げ
られる。
顔料分散用化合物として2ボリアクリルアミド、ポリア
クリル酸及びそのアルカリ金属塩、水溶性スチレンアク
リル樹脂等のアクリル系樹脂、水溶性スチレンマレイン
酸樹脂、水溶性ビニルナフタレンアクリル樹脂、水溶性
ビニルナフタレンマレイン酸樹脂、ポリビニルビロリド
ン,ポリビニルアルコール、β−ナフタレンスルホン酸
ホルマリン縮金物のアルカリ金属塩、四級アンモニウム
やアミノ基等のカチオン性官能基の塩を含む高分子化合
物、ポリエチレンオキサイド、ゼラチン、カゼイン等の
蛋白質、アラビアゴム、トラガントゴム等の天然ゴム類
、サボニン等のグルコキシド類、カルボキシメチルセル
ロース、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロー
ス、等のセルロース誘導体、リグニンスルホン酸及びそ
の塩、セラミック等の天然高分子化合物、等が挙げられ
る。
クリル酸及びそのアルカリ金属塩、水溶性スチレンアク
リル樹脂等のアクリル系樹脂、水溶性スチレンマレイン
酸樹脂、水溶性ビニルナフタレンアクリル樹脂、水溶性
ビニルナフタレンマレイン酸樹脂、ポリビニルビロリド
ン,ポリビニルアルコール、β−ナフタレンスルホン酸
ホルマリン縮金物のアルカリ金属塩、四級アンモニウム
やアミノ基等のカチオン性官能基の塩を含む高分子化合
物、ポリエチレンオキサイド、ゼラチン、カゼイン等の
蛋白質、アラビアゴム、トラガントゴム等の天然ゴム類
、サボニン等のグルコキシド類、カルボキシメチルセル
ロース、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロー
ス、等のセルロース誘導体、リグニンスルホン酸及びそ
の塩、セラミック等の天然高分子化合物、等が挙げられ
る。
油性の記録剤としては、水性インクと同様に、油溶性染
料を有機液体化合物に溶解したものや.顔料を有機液体
化合物に分散せしめたもの、顔料又は染料を油性ベース
に乳化させたもの、等が用いられる。
料を有機液体化合物に溶解したものや.顔料を有機液体
化合物に分散せしめたもの、顔料又は染料を油性ベース
に乳化させたもの、等が用いられる。
油性染料の代表的な例としては、
C.1,ソルベント・イエロー1.2,3,4,5,6
.7,8,9,10, I1, !2. 14. 16
. 1726. 27, 29, 30, 39, 4
0,46,49,50,51,56,61,80,86
,87,119.96 C.].ソルベント・オレンジ+2.23.3+,43
.51.6IC.I.ンルベント・レッド], 2,3
, +6. 17. 18. 19. 20,22,
24, 25, 26,40, 52, 59,60,
63.67,611, 121 C.1.ソルベント・バイオレット7,16.17C.
1.ソルベント・ブルー2.6. 11. 15.20
,30.3+,32,35.36,55,511.71
.72C.l.ソルベント・ブラウン2, 10, 1
5, 21.22C. I.ソルベント・ブラック3.
10. 11, 12. 13等が挙げられる。
.7,8,9,10, I1, !2. 14. 16
. 1726. 27, 29, 30, 39, 4
0,46,49,50,51,56,61,80,86
,87,119.96 C.].ソルベント・オレンジ+2.23.3+,43
.51.6IC.I.ンルベント・レッド], 2,3
, +6. 17. 18. 19. 20,22,
24, 25, 26,40, 52, 59,60,
63.67,611, 121 C.1.ソルベント・バイオレット7,16.17C.
1.ソルベント・ブルー2.6. 11. 15.20
,30.3+,32,35.36,55,511.71
.72C.l.ソルベント・ブラウン2, 10, 1
5, 21.22C. I.ソルベント・ブラック3.
10. 11, 12. 13等が挙げられる。
また、染料を溶解したり、顔料を分散するための油性ベ
ースとしては、n−オクタン、n−デカン、ミネラネス
ピリット,リグロイン、ナフサ、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の炭化水素類;ジブチルエーテル、ジヘキシ
ルエーテル、アニソール、フエネトール、ジベンジルエ
ーテル等のエーテル類:メタノール、エタノール、イソ
ブロビルアルコール、ベンジルアルコール、エチレング
リコール、ジエチレングリコール、グリセリン等のアル
コール類等を例示することができる。
ースとしては、n−オクタン、n−デカン、ミネラネス
ピリット,リグロイン、ナフサ、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の炭化水素類;ジブチルエーテル、ジヘキシ
ルエーテル、アニソール、フエネトール、ジベンジルエ
ーテル等のエーテル類:メタノール、エタノール、イソ
ブロビルアルコール、ベンジルアルコール、エチレング
リコール、ジエチレングリコール、グリセリン等のアル
コール類等を例示することができる。
油性インクにおいても先に例示した顔料を用いることが
できる。油性の顔料分散剤の例としては、ポリメタクリ
ル酸エステル、ポリアクリル酸エステル、メタクリル酸
エステルーアクリル酸エステル共重合体、ポリ酢酸ビニ
ル、塩ビー酢ビ共重合体、ポリビニルビロリドン、ポリ
ビニルブチラール等のビニル系共重合体、エチルセルロ
ース、メチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリエ
ステル、ボリアミド、フェノール樹脂等の縮重合樹脂、
ロジン、七ラミノク、ゼラチン、カゼイン、等の天然樹
脂等がある。
できる。油性の顔料分散剤の例としては、ポリメタクリ
ル酸エステル、ポリアクリル酸エステル、メタクリル酸
エステルーアクリル酸エステル共重合体、ポリ酢酸ビニ
ル、塩ビー酢ビ共重合体、ポリビニルビロリドン、ポリ
ビニルブチラール等のビニル系共重合体、エチルセルロ
ース、メチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリエ
ステル、ボリアミド、フェノール樹脂等の縮重合樹脂、
ロジン、七ラミノク、ゼラチン、カゼイン、等の天然樹
脂等がある。
次に、記録体(A)をはじめ、本発明装置における構成
について述べる。
について述べる。
記録体(A)は、潜像形成の加熱手段と一体化されてお
り、前述のように加熱状態でかつ液体と接触させた場合
に後退接触角が低下する表面を支持体上に有しているも
のであればよい。記録体(A)と加熱手段とが一体化さ
れているものの一例を第5図に示す。この例では、基板
lI上に電極21及び発熱材22からなる加熱部(薄膜
加熱部)20が形成され、この上に樹脂薄膜(絶縁性樹
脂薄膜)12が塗工又は被覆され、更に樹脂薄膜l2上
に表面部材(記録体(A))13が設けられている。
り、前述のように加熱状態でかつ液体と接触させた場合
に後退接触角が低下する表面を支持体上に有しているも
のであればよい。記録体(A)と加熱手段とが一体化さ
れているものの一例を第5図に示す。この例では、基板
lI上に電極21及び発熱材22からなる加熱部(薄膜
加熱部)20が形成され、この上に樹脂薄膜(絶縁性樹
脂薄膜)12が塗工又は被覆され、更に樹脂薄膜l2上
に表面部材(記録体(A))13が設けられている。
基板+1にはガラスの他に、ポリイミド、ポリエステル
などの樹脂が用いられてよいこと勿論であり、また,こ
れらの樹脂を用いて樹脂薄膜l2を形成することができ
る。電極2Iを^悲、Ctなどの金属とし、発熱材22
をPol7−Siとすれば、薄膜加熱部20は通常のリ
ソグラフィー法により容易に基板11上に形成すること
ができる。々お、薄膜加熱部20はこうした構造のもの
に限られる訳ではなく、要は、表面部材l3を画像情報
に応じて局所的に加熱できる構造と々っていればよい。
などの樹脂が用いられてよいこと勿論であり、また,こ
れらの樹脂を用いて樹脂薄膜l2を形成することができ
る。電極2Iを^悲、Ctなどの金属とし、発熱材22
をPol7−Siとすれば、薄膜加熱部20は通常のリ
ソグラフィー法により容易に基板11上に形成すること
ができる。々お、薄膜加熱部20はこうした構造のもの
に限られる訳ではなく、要は、表面部材l3を画像情報
に応じて局所的に加熱できる構造と々っていればよい。
また、薄膜加熱部20は必要に応じて、−次元、二次元
にいずれσ〕形態で設けられていてもかまわない。
にいずれσ〕形態で設けられていてもかまわない。
続いて、記録剤付与手段(顕像化手段)について述べる
。
。
記録剤付与手段はノズル、ローラー、その他記録剤が表
面部材13の表面に塗布できるものであれば、その形態
にとらわれない。最も望ましいタイプは、第6図に示す
ように記録剤4を表面部材l3に液体付着性をもたらす
溶液として併用し,表面部材13の進行方向に配置し常
に表面部材13に接しておく構成とすることである。そ
うした場合には、記録剤4の供給と表面部材13の液体
付着性化を一つの工程で行なうことが可能となり、しか
も装置の小型化を図ることができる。
面部材13の表面に塗布できるものであれば、その形態
にとらわれない。最も望ましいタイプは、第6図に示す
ように記録剤4を表面部材l3に液体付着性をもたらす
溶液として併用し,表面部材13の進行方向に配置し常
に表面部材13に接しておく構成とすることである。そ
うした場合には、記録剤4の供給と表面部材13の液体
付着性化を一つの工程で行なうことが可能となり、しか
も装置の小型化を図ることができる。
間接記録の場合、前記のとおり、例えば剛体円筒管が記
録体基板として用いられるのが有利である。潜像形成及
び現像(顕像化)後、例えば表面部材13上の記録剤4
は、記録紙6と直接接する手段を設けることで記録紙6
の毛管作用により記録紙46へ転写される(転写手段)
。転写を行う位置は、現像後であれば、記録体のどの位
置でもかまわないが、現像後、直ちに転写が行われる位
置が望ましい。転写後、潜像消去を行わず現像を繰り返
えせば、この装置は印刷装置となる。一つの画像情報の
印刷が終了すれば、潜像消去を行なうことで、別の画像
情報の記録・印刷が可能となる。
録体基板として用いられるのが有利である。潜像形成及
び現像(顕像化)後、例えば表面部材13上の記録剤4
は、記録紙6と直接接する手段を設けることで記録紙6
の毛管作用により記録紙46へ転写される(転写手段)
。転写を行う位置は、現像後であれば、記録体のどの位
置でもかまわないが、現像後、直ちに転写が行われる位
置が望ましい。転写後、潜像消去を行わず現像を繰り返
えせば、この装置は印刷装置となる。一つの画像情報の
印刷が終了すれば、潜像消去を行なうことで、別の画像
情報の記録・印刷が可能となる。
また、上記転写手段の後、液体又は蒸気の不存在下で、
即ち、空気中、真空中、又は、不活性ガス中で潜像部付
近を加熱することにより、潜像を消去すれば記録体(A
)は繰返し使用可能な記録装置となる。なお、潜像消去
のための加熱源としてよ、ヒーターやサーマルヘッドの
ごとき接触加熱源やレーザーや赤外線ランプのごとき電
磁波による非接触加熱源が望ましい。加熱は記録体全面
に行っても良く、潜像部のみ行っても良い。ただし、全
面加熱の方が装置構成を簡単にできるため、より望まし
い。なお、潜像消去手段は、消去のための加熱を行った
のち、再び,潜像を行うまでの時間の間に記録体(A)
表面が実質的に冷却する位置に設ける。消太に必要な加
熱温度は,当該記録体(A)表面の材料により異なるが
、記録体(A)表面の材料の後退接触角が低くなる開始
温度以上で分解点以下の温度が望ましい。す々わち、5
0〜300℃、望ましくは100−180℃に加熱すれ
ばよい。加熱時間はいずれの場合も1m秒−lO秒程度
で好ましくは10m秒〜■秒である。
即ち、空気中、真空中、又は、不活性ガス中で潜像部付
近を加熱することにより、潜像を消去すれば記録体(A
)は繰返し使用可能な記録装置となる。なお、潜像消去
のための加熱源としてよ、ヒーターやサーマルヘッドの
ごとき接触加熱源やレーザーや赤外線ランプのごとき電
磁波による非接触加熱源が望ましい。加熱は記録体全面
に行っても良く、潜像部のみ行っても良い。ただし、全
面加熱の方が装置構成を簡単にできるため、より望まし
い。なお、潜像消去手段は、消去のための加熱を行った
のち、再び,潜像を行うまでの時間の間に記録体(A)
表面が実質的に冷却する位置に設ける。消太に必要な加
熱温度は,当該記録体(A)表面の材料により異なるが
、記録体(A)表面の材料の後退接触角が低くなる開始
温度以上で分解点以下の温度が望ましい。す々わち、5
0〜300℃、望ましくは100−180℃に加熱すれ
ばよい。加熱時間はいずれの場合も1m秒−lO秒程度
で好ましくは10m秒〜■秒である。
次に実施例を示す。本発明の装置はこれに限定されるも
のではなく、その変形が考えられてよい。
のではなく、その変形が考えられてよい。
実施例1
基板として1mmのパイレックスガラス(コーニング社
製)を用い、その上にPo l y−S i層を約0.
5ミクロンの厚みで堆積した。通常のリソグラフィー法
により、50pmX +00IJa(16ドット/mm
)の発熱部、At電極及び配線部、ボンディングバンド
等を作製した。更にその上に、ポリイミド層を約1%厚
にスビンコートした。このポリイミド層の上に2倍に希
釈したPFAMA系材料を塗布後、90℃で2時間乾燥
した。PFAMA系材料としてダイキン工業製撥水撥油
剤rTG−702JまたはrTG−602Jを用いた。
製)を用い、その上にPo l y−S i層を約0.
5ミクロンの厚みで堆積した。通常のリソグラフィー法
により、50pmX +00IJa(16ドット/mm
)の発熱部、At電極及び配線部、ボンディングバンド
等を作製した。更にその上に、ポリイミド層を約1%厚
にスビンコートした。このポリイミド層の上に2倍に希
釈したPFAMA系材料を塗布後、90℃で2時間乾燥
した。PFAMA系材料としてダイキン工業製撥水撥油
剤rTG−702JまたはrTG−602Jを用いた。
こうしてつくられた加熱手段を一体化してなる記録体の
主要部の概略は第5図に示したとおりである。
主要部の概略は第5図に示したとおりである。
このものの加熱前後におけるPFA−A系材料膜表面で
の接触角変化を測定した結果、後退接触角の著しい低下
が認められ、表面が親水化されていることが確められた
。第7図において,○印でプロットとしたものは前記の
加熱手段内蔵の記録体の加熱前後での後退接触角の変化
を加熱時間との関係において表わしたものである。
の接触角変化を測定した結果、後退接触角の著しい低下
が認められ、表面が親水化されていることが確められた
。第7図において,○印でプロットとしたものは前記の
加熱手段内蔵の記録体の加熱前後での後退接触角の変化
を加熱時間との関係において表わしたものである。
参考のために、約30仰厚のポリイミドフイルム(東レ
デュポン社製カプトン200V)上に前記と同じ材料を
用いて同じ厚さのPFAMA系材料膜を形成した。この
ものをポリイミドフィルム基板側からヒーターにより加
熱して、第7図においてΔ印でプロットした後退接触角
の変化を得た。
デュポン社製カプトン200V)上に前記と同じ材料を
用いて同じ厚さのPFAMA系材料膜を形成した。この
ものをポリイミドフィルム基板側からヒーターにより加
熱して、第7図においてΔ印でプロットした後退接触角
の変化を得た。
第7図から明らかなように、参考例では1.0ミリ秒以
下では後退接触角の変化がきわめて減少するに対L2、
本実施例では0.5ミリ秒程度まで後退接触角の変化量
はほぼ一定であった(実用上は0,2ミリ秒迄使用でき
る)6この差異は、基板上に発熱部を一体的に形成した
ことによりボリイミトの膜厚をきわめて薄くできたこと
、加熱部と樹脂薄膜との密着性が高いため加熱効率がよ
いことなどによると考えられる。この結果,16ドノl
・/mmの印刷が高速で可能である。
下では後退接触角の変化がきわめて減少するに対L2、
本実施例では0.5ミリ秒程度まで後退接触角の変化量
はほぼ一定であった(実用上は0,2ミリ秒迄使用でき
る)6この差異は、基板上に発熱部を一体的に形成した
ことによりボリイミトの膜厚をきわめて薄くできたこと
、加熱部と樹脂薄膜との密着性が高いため加熱効率がよ
いことなどによると考えられる。この結果,16ドノl
・/mmの印刷が高速で可能である。
実地例2
約50/jl厚、幅22cmのポリイミド膜を基板とじ
NC+合金をスバッタし200dpiでA4判対応の一
次元発熱部アレイを作製した。更に、真空蒸着法により
、電極、配線部等を順次構成し、更にその上に実施例1
と同様にポリイミド膜を!.0%厚、PFAMA系材料
模を約1.0μs厚に形成した。このものをベルトにし
第6図に示すような構成で駆動した。まず、インク溶岐
4に接している状態(第6図のA点)で各発熱素子20
毎に約1msecでアレイを順次加熱し、つ.いで紙(
三菱コート紙NM)に転写し、その後第6図のB点で約
1secの加熱操作を行った。この連の操作を繰り返す
ことにより,A4判の画像情報の転写機能が確認できた
。
NC+合金をスバッタし200dpiでA4判対応の一
次元発熱部アレイを作製した。更に、真空蒸着法により
、電極、配線部等を順次構成し、更にその上に実施例1
と同様にポリイミド膜を!.0%厚、PFAMA系材料
模を約1.0μs厚に形成した。このものをベルトにし
第6図に示すような構成で駆動した。まず、インク溶岐
4に接している状態(第6図のA点)で各発熱素子20
毎に約1msecでアレイを順次加熱し、つ.いで紙(
三菱コート紙NM)に転写し、その後第6図のB点で約
1secの加熱操作を行った。この連の操作を繰り返す
ことにより,A4判の画像情報の転写機能が確認できた
。
本発明の装置によれば、記録体上に液体付着領域と非液
体付着領域とが簡単に形成でき、また、その二つに区分
された領域を元の状態に戻すことが容易であるばかりで
なく,希望により、一枚限りの印刷や多数枚印刷も容易
に行なうことが可能である。しかも、鮮明でかつ階調性
のある転写画像が容易に得られ、その上、記録体と潜像
形成のための加熱手段を一体化したため記録体に対する
加熱効率が高まり、記録・印刷の高速化が図れる。
体付着領域とが簡単に形成でき、また、その二つに区分
された領域を元の状態に戻すことが容易であるばかりで
なく,希望により、一枚限りの印刷や多数枚印刷も容易
に行なうことが可能である。しかも、鮮明でかつ階調性
のある転写画像が容易に得られ、その上、記録体と潜像
形成のための加熱手段を一体化したため記録体に対する
加熱効率が高まり、記録・印刷の高速化が図れる。
第1図は表面自己配向機能を有する形態の模式的な四例
の図である。 第2図は本発明装置を基本的に説明するための図である
。 第3図は本発明の実施で用いられる記録体(A)表面に
液体を接触させた状態で記録体(A)表面を加熱した場
合、その記録体(A)表面にみられる後退接触角Orの
変化を表わした図である。 第4図は本発明装置を用いた場合の二つの態様を示した
ものである。 第5図は本発明に係る記録体の主要部を主走査方向にみ
た一部拡大断面図である。 第6図は本発明の一例の装置を用いて記録紙に画像形成
を行う様子を示した概略図である。 第7図は本発明の記録体及び参考例の記録体の表面を加
熱し液体を接触し、た場合にみられる接触角の変化を表
わした図である。 1 支持体 2,l3・表面部材(膜、記録体) 3・液体 4・・記録剤 5・ ローラー 6・記録紙 11 基板 l2・・・樹脂薄膜 20・・・薄膜加熱部 2l 電極 22 発熱材
の図である。 第2図は本発明装置を基本的に説明するための図である
。 第3図は本発明の実施で用いられる記録体(A)表面に
液体を接触させた状態で記録体(A)表面を加熱した場
合、その記録体(A)表面にみられる後退接触角Orの
変化を表わした図である。 第4図は本発明装置を用いた場合の二つの態様を示した
ものである。 第5図は本発明に係る記録体の主要部を主走査方向にみ
た一部拡大断面図である。 第6図は本発明の一例の装置を用いて記録紙に画像形成
を行う様子を示した概略図である。 第7図は本発明の記録体及び参考例の記録体の表面を加
熱し液体を接触し、た場合にみられる接触角の変化を表
わした図である。 1 支持体 2,l3・表面部材(膜、記録体) 3・液体 4・・記録剤 5・ ローラー 6・記録紙 11 基板 l2・・・樹脂薄膜 20・・・薄膜加熱部 2l 電極 22 発熱材
Claims (3)
- (1)下記記録体(A)の表面を下記接触材料(B)と
接触させた状態で選択的に加熱させることにより又は記
録体(A)の表面を選択的に加熱した状態で接触材料(
B)と接触させることにより記録体(A)の表面に加熱
温度に応じた後退接触角を示す潜像領域を形成せしめる
接触材料(B)を記録体(A)表面に供給する手段と、
潜像形成のために記録体(A)の表面を加熱する手段と
、該潜像領域を顕像化させる記録剤付与手段と、記録体
(A)表面に付着された記録剤を記録紙に転写する手段
とを具備してなり、しかも前記の記録体(A)と加熱手
段とは一体的に構成されていることを特徴とする記録装
置。 (A)加熱状態でかつ液体と接触させた場合に後退接触
角が低下する表面を有する記録体。 (B)液体、蒸気又は記録体(A)にいう後退接触角の
低下開始温度以下で液体となるか液体もしくは蒸気を発
生する固体。 - (2)前記の記録体と加熱手段は、支持体上に形成され
た発熱材と、前記発熱材に通電するための電極と、前記
発熱材と前記電極をおおう樹脂薄膜と、前記樹脂薄膜上
に形成された記録体とからなる一体構成のものであるこ
とを特徴とする請求項1に記載の記録装置。 - (3)前記の接触材料(B)の供給手段と記録剤付与手
段とを一つにしたことを特徴とする請求項1又は2に記
載の記録装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26866589 | 1989-10-16 | ||
| JP1-268665 | 1989-10-16 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03205184A true JPH03205184A (ja) | 1991-09-06 |
Family
ID=17461701
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2277182A Pending JPH03205184A (ja) | 1989-10-16 | 1990-10-16 | 記録装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03205184A (ja) |
-
1990
- 1990-10-16 JP JP2277182A patent/JPH03205184A/ja active Pending
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