JPH04108879A - ポリイミド樹脂コーテイング剤組成物 - Google Patents
ポリイミド樹脂コーテイング剤組成物Info
- Publication number
- JPH04108879A JPH04108879A JP22873190A JP22873190A JPH04108879A JP H04108879 A JPH04108879 A JP H04108879A JP 22873190 A JP22873190 A JP 22873190A JP 22873190 A JP22873190 A JP 22873190A JP H04108879 A JPH04108879 A JP H04108879A
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- JP
- Japan
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- polyimide resin
- bis
- agent composition
- dianhydride
- resin coating
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- Pending
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- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、有機溶剤に可溶な耐熱性、機械特性に優れ、
かつ、接着性、電気特性に優れたポリイミド樹脂を含有
する新規なコーティング剤組成物に係り、より詳しくは
、コート、ケーブル等の被覆膜、半導体用保護膜、絶縁
膜、塗料等に有用なポリイミド樹脂コーティング剤組成
物に関する。
かつ、接着性、電気特性に優れたポリイミド樹脂を含有
する新規なコーティング剤組成物に係り、より詳しくは
、コート、ケーブル等の被覆膜、半導体用保護膜、絶縁
膜、塗料等に有用なポリイミド樹脂コーティング剤組成
物に関する。
ポリイミド樹脂は、耐熱性、機械特性、耐薬品性など種
々の優れた特性を有しており、電子材料を中心に広く工
業材料として使用されている。また、これらポリイミド
樹脂の緒特性に更に電気特性、接着性、耐プラズマ特性
などを付与する目的で、シリコン化合物との共重合体で
あるシリコン変成ポリイミド樹脂についても近年多くの
開発がなされ、半導体の保護膜、絶縁膜など電子工業分
野において広く使用されている(特開昭60−76、5
33号公報、特開昭62−223.228号公報等)。
々の優れた特性を有しており、電子材料を中心に広く工
業材料として使用されている。また、これらポリイミド
樹脂の緒特性に更に電気特性、接着性、耐プラズマ特性
などを付与する目的で、シリコン化合物との共重合体で
あるシリコン変成ポリイミド樹脂についても近年多くの
開発がなされ、半導体の保護膜、絶縁膜など電子工業分
野において広く使用されている(特開昭60−76、5
33号公報、特開昭62−223.228号公報等)。
しかしながら、一般にポリイミド樹脂は、有機溶剤に不
溶であり、使用に際してはその前駆体であるポリアミッ
ク酸で成膜若しくは塗布後、加熱等によりイミド化反応
を行い、ポリイミド樹脂被膜とすることが一般的に行わ
れている。
溶であり、使用に際してはその前駆体であるポリアミッ
ク酸で成膜若しくは塗布後、加熱等によりイミド化反応
を行い、ポリイミド樹脂被膜とすることが一般的に行わ
れている。
しかしながら、ポリアミック酸で成膜若しくは塗布後に
イミド化を行った場合、ポリアミック酸の閉環反応によ
り水が発生し、被膜内にボイドが発生したり、高温でイ
ミド化しなければならないために被膜及び被膜を形成し
た基板や金属等に熱的ダメージを与える等の問題があっ
た。また、ポリアミック酸をイミド化して得られる被膜
は満足すべき接着強度が得られないという問題があった
。
イミド化を行った場合、ポリアミック酸の閉環反応によ
り水が発生し、被膜内にボイドが発生したり、高温でイ
ミド化しなければならないために被膜及び被膜を形成し
た基板や金属等に熱的ダメージを与える等の問題があっ
た。また、ポリアミック酸をイミド化して得られる被膜
は満足すべき接着強度が得られないという問題があった
。
この様な問題点を解決するための手段として、例えば、
USP 3,325,450 、USP 3,740,
305等に開示されているような溶剤に可溶な溶剤可溶
ポリイミド樹脂を用いることも考えられるが、これらの
溶剤可溶性ポリイミド樹脂は被膜の強度が十分でなく、
ガラス転移点も低いことから、高温での使用に耐えられ
ないという問題がある。
USP 3,325,450 、USP 3,740,
305等に開示されているような溶剤に可溶な溶剤可溶
ポリイミド樹脂を用いることも考えられるが、これらの
溶剤可溶性ポリイミド樹脂は被膜の強度が十分でなく、
ガラス転移点も低いことから、高温での使用に耐えられ
ないという問題がある。
本発明者らは、既に、別の目的で特開平2−91.12
4号公報及び特開平2−91.125公報として溶剤に
可溶な系を含むポリイミド樹脂を提案している。そして
、これらのポリイミド樹脂の応用について検討を重ねて
きた。
4号公報及び特開平2−91.125公報として溶剤に
可溶な系を含むポリイミド樹脂を提案している。そして
、これらのポリイミド樹脂の応用について検討を重ねて
きた。
従って、本発明の目的は、成膜、塗布後にイミド化処理
を必要とせず、溶剤を除去するだけで耐熱性、機械特性
に優れ、かつ、接着性、電気特性に優れた目的物が得ら
れるポリイミド樹脂コーティング剤組成物を提供するこ
とにある。
を必要とせず、溶剤を除去するだけで耐熱性、機械特性
に優れ、かつ、接着性、電気特性に優れた目的物が得ら
れるポリイミド樹脂コーティング剤組成物を提供するこ
とにある。
すなわち、本発明は、少なくともポリイミド樹脂と有機
溶剤とを含有するポリイミド樹脂コーティング剤組成物
において、ポリイミド樹脂が、3゜3’ 、 4.4’
−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物及び/
又は4.4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジ
フタル酸二無水物と下記一般式((但し、式中Xは存在
しないか、又は、−〇S−−SO□−−CO−1−CH
2−−C(CH3)2−又はC(Ch)2−を示す)で
表される芳香族ジアミン50〜99モル%及び下記一般
式(n) R= Rs (但し、式中R1、R2は2価の有機基を示し、R3−
R6はアルキル基、フェニル基又は置換フェニル基を示
し、nは1〜50の整数を示す)で表されるシロキサン
系ジアミン1〜50モル%よりなるジアミン成分とを重
縮合させて得られたポリイミド前駆体をイミド化させて
得られる有機溶剤可溶のポリイミド樹脂であるポリイミ
ド樹脂コーティング剤組成物である。
溶剤とを含有するポリイミド樹脂コーティング剤組成物
において、ポリイミド樹脂が、3゜3’ 、 4.4’
−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物及び/
又は4.4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジ
フタル酸二無水物と下記一般式((但し、式中Xは存在
しないか、又は、−〇S−−SO□−−CO−1−CH
2−−C(CH3)2−又はC(Ch)2−を示す)で
表される芳香族ジアミン50〜99モル%及び下記一般
式(n) R= Rs (但し、式中R1、R2は2価の有機基を示し、R3−
R6はアルキル基、フェニル基又は置換フェニル基を示
し、nは1〜50の整数を示す)で表されるシロキサン
系ジアミン1〜50モル%よりなるジアミン成分とを重
縮合させて得られたポリイミド前駆体をイミド化させて
得られる有機溶剤可溶のポリイミド樹脂であるポリイミ
ド樹脂コーティング剤組成物である。
本発明において使用するポリイミド樹脂は、芳香族カル
ボン酸二無水物とジアミン成分とから合成される。そし
て、この様な芳香族カルボン酸二無水物として3.3’
、 4.4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸
二無水物及び/又は4,4”−(ヘキサフルオロイソプ
ロピリデン)ジフタル酸二無水物が使用される。
ボン酸二無水物とジアミン成分とから合成される。そし
て、この様な芳香族カルボン酸二無水物として3.3’
、 4.4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸
二無水物及び/又は4,4”−(ヘキサフルオロイソプ
ロピリデン)ジフタル酸二無水物が使用される。
また、ジアミン成分としては下記一般式(I)(I)
(但し、式中Xは存在しないか、又は、−〇s−−5o
2− −co−1−CH2−−C(CH3)2−又はC
(CF3)2−を示す)で表される芳香族ジアミンが使
用される。この様な芳香族ジアミンとしては、具体的に
は2,2−ビス−[4−(4−アミノフェノキシ)フェ
ニル1プロパン、2,2−ビス−[4−(3−アミノフ
ェノキシ)フェニル1プロパン、ビス[4−(4−アミ
ノフェノキシ)フェニル1スルホン、ビス−[4−(3
アミノフエノキシ)フェニル1スルホン、2,2ビス−
[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル1ヘキサフル
オロプロパン、2,2−ビス−[4−(3−アミノフェ
ノキシ)フェニル1ヘキサフルオロプロパン、ビス[4
−(4−アミノフェノキシ)1ビフエニル、ビス[4−
(3−アミノフェノキシ)1ビフエニル、ビス[1(4
−アミノフェノキシ)1ビフエニル、ビス[1−(3ア
ミノフエノキシ)]ビフェニル、ビス[4−(4−アミ
ノフェノキシ)フェニル1メタン、ビス[4−(3−ア
ミノフェノキシ)フェニル1メタン、ビス[4−(4ア
ミノフエノキシ)フェニ ル1エーテル、ビス[4−(
3−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、ビス[4
−(4−アミノフェノキシ)]ベンゾフェノン、ビス[
4−(3−アミノフェノキシ)1ベンゾフエノン等が挙
げられる。これらは単独で使用してもよいし、2種以上
を併用することもできる。
2− −co−1−CH2−−C(CH3)2−又はC
(CF3)2−を示す)で表される芳香族ジアミンが使
用される。この様な芳香族ジアミンとしては、具体的に
は2,2−ビス−[4−(4−アミノフェノキシ)フェ
ニル1プロパン、2,2−ビス−[4−(3−アミノフ
ェノキシ)フェニル1プロパン、ビス[4−(4−アミ
ノフェノキシ)フェニル1スルホン、ビス−[4−(3
アミノフエノキシ)フェニル1スルホン、2,2ビス−
[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル1ヘキサフル
オロプロパン、2,2−ビス−[4−(3−アミノフェ
ノキシ)フェニル1ヘキサフルオロプロパン、ビス[4
−(4−アミノフェノキシ)1ビフエニル、ビス[4−
(3−アミノフェノキシ)1ビフエニル、ビス[1(4
−アミノフェノキシ)1ビフエニル、ビス[1−(3ア
ミノフエノキシ)]ビフェニル、ビス[4−(4−アミ
ノフェノキシ)フェニル1メタン、ビス[4−(3−ア
ミノフェノキシ)フェニル1メタン、ビス[4−(4ア
ミノフエノキシ)フェニ ル1エーテル、ビス[4−(
3−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、ビス[4
−(4−アミノフェノキシ)]ベンゾフェノン、ビス[
4−(3−アミノフェノキシ)1ベンゾフエノン等が挙
げられる。これらは単独で使用してもよいし、2種以上
を併用することもできる。
更に、もう一方のジアミン成分として、下記−般式(n
) R3R5 H2N−R++5i−0+−V−3!−R2NH2R4
R6(n) (但し、式中R1、R2は2価の有機基を示し、R3−
R6はアルキル基、フェニル基又は置換フェニル基を示
し、nは1〜50の整数を示す)で表されるシロキサン
系ジアミンもまた必須の共重合成分として使用される。
) R3R5 H2N−R++5i−0+−V−3!−R2NH2R4
R6(n) (但し、式中R1、R2は2価の有機基を示し、R3−
R6はアルキル基、フェニル基又は置換フェニル基を示
し、nは1〜50の整数を示す)で表されるシロキサン
系ジアミンもまた必須の共重合成分として使用される。
この様なシロキサン系ジアミンとしては
CH3CH3
82N−(CH2)3÷5i−Oh−−3i−(CH2
)3−NH2CH3CH3 CH3CH3 82N−(CH2)a+5i−0+T−3i−(CH2
)4−NH2CH3CH3 ph ph H2N−(CH2)3 +S i−0’h−3i−(C
H2)3−NH2Ph Ph ph ph H2N−(CH2)4÷5i−0+T−3i−(CH2
)4−NH2ph ph 等が挙げられる。これらのシロキサン系ジアミンとして
は、重量平均分子量が200〜5,000のものが使用
されるが、好ましくは200〜3゜000の範囲である
。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を併用して
もよい。
)3−NH2CH3CH3 CH3CH3 82N−(CH2)a+5i−0+T−3i−(CH2
)4−NH2CH3CH3 ph ph H2N−(CH2)3 +S i−0’h−3i−(C
H2)3−NH2Ph Ph ph ph H2N−(CH2)4÷5i−0+T−3i−(CH2
)4−NH2ph ph 等が挙げられる。これらのシロキサン系ジアミンとして
は、重量平均分子量が200〜5,000のものが使用
されるが、好ましくは200〜3゜000の範囲である
。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を併用して
もよい。
本発明において使用されるポリイミド樹脂は、有機溶剤
可溶性及びその諸特性を損なわない範囲において、上記
必須の共重合成分以外に、他の共重合成分を導入するこ
とも可能である。共重合可能な芳香族テトラカルボン酸
二無水物としては、例えばピロメリット酸二無水物、3
.3’ 、 4.4’−ビフェニルテトラカルボン酸二
無水物、2.3’ 、 4.4’−ビフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物、3.3’ 、 4.4′−ベンゾフ
エノンテトラカルボン酸二無水物、3.3’ 。
可溶性及びその諸特性を損なわない範囲において、上記
必須の共重合成分以外に、他の共重合成分を導入するこ
とも可能である。共重合可能な芳香族テトラカルボン酸
二無水物としては、例えばピロメリット酸二無水物、3
.3’ 、 4.4’−ビフェニルテトラカルボン酸二
無水物、2.3’ 、 4.4’−ビフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物、3.3’ 、 4.4′−ベンゾフ
エノンテトラカルボン酸二無水物、3.3’ 。
4.4゛−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水
物、2.3’ 、 4.4’−ジフェニルエーテルテト
ラカルボン酸二無水物、2.3.6.7−ナフタレンテ
トラカルボン酸二無水物、1.2.5.6−ナフタレン
テトラカルボン酸二無水物、1.4.5.8−ナフタレ
ンテトラカルボン酸二無水物、2,2′−ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)プロパンニ無水物、2.2’
−ビス(2,3ジカルボキシフエニル)プロパンニ無水
物、■、1′ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エ
タンニ無水物、ベンゼン−1,2,3,4−テトラカル
ボン酸二無水物、2.3.6.7−アントラセンテトラ
カルボン酸二無水物、1.2.7.8−フェナンスレン
テトラカルボン酸二無水物、3.4.9.1.0−ペリ
レンテトラカルボン酸二無水物、4,4−ビス(2,3
−ジカルボキシフェニル)ジフェニルメタンニ無水物等
を使用することができる。
物、2.3’ 、 4.4’−ジフェニルエーテルテト
ラカルボン酸二無水物、2.3.6.7−ナフタレンテ
トラカルボン酸二無水物、1.2.5.6−ナフタレン
テトラカルボン酸二無水物、1.4.5.8−ナフタレ
ンテトラカルボン酸二無水物、2,2′−ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)プロパンニ無水物、2.2’
−ビス(2,3ジカルボキシフエニル)プロパンニ無水
物、■、1′ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エ
タンニ無水物、ベンゼン−1,2,3,4−テトラカル
ボン酸二無水物、2.3.6.7−アントラセンテトラ
カルボン酸二無水物、1.2.7.8−フェナンスレン
テトラカルボン酸二無水物、3.4.9.1.0−ペリ
レンテトラカルボン酸二無水物、4,4−ビス(2,3
−ジカルボキシフェニル)ジフェニルメタンニ無水物等
を使用することができる。
また、共重合可能なその他の芳香族ジアミンとしては、
例えばm−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミ
ン、4.4’−ジアミノジフェニルプロパン、4.4’
−ジアミノジフェニルメタン、4,4“−ジアミノジフ
ェニルエーテル、3,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、4.4’−ジアミノジフェニルスルフィド、4.4
’−ジアミノジフェニルスルホン、2゜6−ジアミツピ
リジン、ビス(4−アミノフェニル)ホルフィンオキシ
ド、ビス(4−アミノフェニル)N−メチルアミン、■
、5−ジアミノナフタレン、3,3”ジメチル−4,4
″−ジアミノビフェニル、3,3゛−ジメトキシベンジ
ジン、2,4−ビス(β−アミノ−tert−ブチル)
トルエン、ビス(p−β−アミノ−tertブチルフェ
ニル)エーテル、p−ビス(2−メチル−4アミノペン
チル)ベンゼン等を挙げることができる。
例えばm−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミ
ン、4.4’−ジアミノジフェニルプロパン、4.4’
−ジアミノジフェニルメタン、4,4“−ジアミノジフ
ェニルエーテル、3,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、4.4’−ジアミノジフェニルスルフィド、4.4
’−ジアミノジフェニルスルホン、2゜6−ジアミツピ
リジン、ビス(4−アミノフェニル)ホルフィンオキシ
ド、ビス(4−アミノフェニル)N−メチルアミン、■
、5−ジアミノナフタレン、3,3”ジメチル−4,4
″−ジアミノビフェニル、3,3゛−ジメトキシベンジ
ジン、2,4−ビス(β−アミノ−tert−ブチル)
トルエン、ビス(p−β−アミノ−tertブチルフェ
ニル)エーテル、p−ビス(2−メチル−4アミノペン
チル)ベンゼン等を挙げることができる。
本発明において使用されるポリイミド樹脂は、芳香族テ
トラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン及びシロキサ
ン系ジアミンとを極性溶剤中で一段階で反応せしめて得
られるランダム共重合体でも、ジアミン成分と芳香族テ
トラカルボン酸二無水物とを二段階で反応せしめ、各ジ
アミンよりなるイミド結合ユニットをブロック構造とし
て有するブロック共重合体でもよい。かかる二段階反応
によって得られるブロック共重合体は、一般にミクロ相
分離構造を有し、両ユニットを分子構造中に含むことに
より、本発明のポリイミド樹脂コーティング剤組成物に
用いた場合、得られる被膜は強度、耐熱性及び接着性に
優れた特性を示す。
トラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン及びシロキサ
ン系ジアミンとを極性溶剤中で一段階で反応せしめて得
られるランダム共重合体でも、ジアミン成分と芳香族テ
トラカルボン酸二無水物とを二段階で反応せしめ、各ジ
アミンよりなるイミド結合ユニットをブロック構造とし
て有するブロック共重合体でもよい。かかる二段階反応
によって得られるブロック共重合体は、一般にミクロ相
分離構造を有し、両ユニットを分子構造中に含むことに
より、本発明のポリイミド樹脂コーティング剤組成物に
用いた場合、得られる被膜は強度、耐熱性及び接着性に
優れた特性を示す。
本発明において使用されるポリイミド樹脂は芳香族テト
ラカルボン酸二無水物とジアミン成分とを極性溶剤中モ
ル比0.9〜1.1好ましくは0゜95〜1.05の範
囲で、反応温度0〜100°Cで0.5〜10時間反応
せしめ、得られるポリイミド前駆体であるポリアミック
酸を脱水閉環によリイミド化させることにより製造する
ことができる。また、重合度を制御するために無水フタ
ル酸、無水ナジック酸、無水マレイン酸、アニリン、安
息香酸クロリド等の末端停止剤を添加することも可能で
ある。この様にして得られたポリイミド樹脂は例えばN
−メチル−2−ピロリドン等の有機溶剤中で、ポリマー
濃度0.5g/di、温度30℃の条件で測定した対数
粘度が0.1〜5.0dl/g、好ましくは0.2〜3
.0dl!/gの範囲にあるものである。
ラカルボン酸二無水物とジアミン成分とを極性溶剤中モ
ル比0.9〜1.1好ましくは0゜95〜1.05の範
囲で、反応温度0〜100°Cで0.5〜10時間反応
せしめ、得られるポリイミド前駆体であるポリアミック
酸を脱水閉環によリイミド化させることにより製造する
ことができる。また、重合度を制御するために無水フタ
ル酸、無水ナジック酸、無水マレイン酸、アニリン、安
息香酸クロリド等の末端停止剤を添加することも可能で
ある。この様にして得られたポリイミド樹脂は例えばN
−メチル−2−ピロリドン等の有機溶剤中で、ポリマー
濃度0.5g/di、温度30℃の条件で測定した対数
粘度が0.1〜5.0dl/g、好ましくは0.2〜3
.0dl!/gの範囲にあるものである。
重合反応において使用される有機溶剤としては、例えば
ジエチレングリコールジメチルエーテル(ジグライム)
、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン等のエーテル系溶剤や、N、N−ジメチルホル
ムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、N−メチル
−2−ピロリドン、N−シクロへキシル−2−ピロリド
ン等のアミド系溶剤、フェノール、クレゾール、クロロ
フェノール、キシレノール等のフェノール系溶剤等が挙
げられる。
ジエチレングリコールジメチルエーテル(ジグライム)
、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン等のエーテル系溶剤や、N、N−ジメチルホル
ムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、N−メチル
−2−ピロリドン、N−シクロへキシル−2−ピロリド
ン等のアミド系溶剤、フェノール、クレゾール、クロロ
フェノール、キシレノール等のフェノール系溶剤等が挙
げられる。
これらの溶剤はその1種のみを単独で使用できるほか、
2種以上を組み合わせた混合溶剤としても使用できる。
2種以上を組み合わせた混合溶剤としても使用できる。
また、ポリイミド前駆体であるポリアミック酸を脱水閉
環によりイミド化させポリイミド樹脂を得る方法として
は、下記溶液中熱イミド化法、化学イミド化法、直接イ
ミド化法等公知の方法により行うことができる。
環によりイミド化させポリイミド樹脂を得る方法として
は、下記溶液中熱イミド化法、化学イミド化法、直接イ
ミド化法等公知の方法により行うことができる。
(1)溶液中熱イミド化法
ポリイミド前駆体を溶液中100°C以上、好ましくは
130℃以上に加熱することによりイミド化を行う。こ
の際、共沸溶剤としてベンゼン、トルエン、キシレン、
N−シクロへキシル−2−ピロリドン等の溶剤が好まし
く用いられ、反応促進剤としてトリエチルアミン、ピリ
ジン、N、N−ジメチルアニリン等の三級アミンを添加
してもよい。
130℃以上に加熱することによりイミド化を行う。こ
の際、共沸溶剤としてベンゼン、トルエン、キシレン、
N−シクロへキシル−2−ピロリドン等の溶剤が好まし
く用いられ、反応促進剤としてトリエチルアミン、ピリ
ジン、N、N−ジメチルアニリン等の三級アミンを添加
してもよい。
(2)化学イミド化法
ポリイミド前駆体溶液に脱水剤として無水酢酸、無水プ
ロピオン酸等の脂肪酸無水物を添加し、室温若しくは加
熱下にイミド化を行う。この際上記三級アミン反応促進
剤として添加してもよい。
ロピオン酸等の脂肪酸無水物を添加し、室温若しくは加
熱下にイミド化を行う。この際上記三級アミン反応促進
剤として添加してもよい。
(3)直接イミド化法
ポリイミド前駆体を、ポリイミド前駆体を溶解しない水
、メタノール、ヘキサン等の貧溶剤中に沈澱析出させ、
単離後得られた粉末状ポリイミド前駆体を100°C以
上、好ましくは150℃以上に加熱することによりイミ
ド化を行う。
、メタノール、ヘキサン等の貧溶剤中に沈澱析出させ、
単離後得られた粉末状ポリイミド前駆体を100°C以
上、好ましくは150℃以上に加熱することによりイミ
ド化を行う。
この様にして得られたポリイミド樹脂は、N、Nジメチ
ルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、N−
メチル−2−ピロリドン、N−シクロヘキシル2−ピロ
リドン、ジメチルスルホキシド等の極性溶剤に完全に溶
解するので、イミド化後のポリイミド樹脂をこれらの溶
剤に溶解してコーティング剤組成物として使用するか、
又は、重合反応に用いた溶剤を除去することなくコーテ
ィング溶剤としてそのまま使用することもできる。
ルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、N−
メチル−2−ピロリドン、N−シクロヘキシル2−ピロ
リドン、ジメチルスルホキシド等の極性溶剤に完全に溶
解するので、イミド化後のポリイミド樹脂をこれらの溶
剤に溶解してコーティング剤組成物として使用するか、
又は、重合反応に用いた溶剤を除去することなくコーテ
ィング溶剤としてそのまま使用することもできる。
本発明のポリイミド樹脂コーティング剤組成物は、目的
に応じて種々の添加剤を添加し特性を付与することがで
きる。かかる添加剤としては、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル(ジグライム)、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル(メチルセロソルブ)、エチレングリ
コールモノエチルエーテル(エチルセロソルブ)、エチ
レングリコールモノブチルエーテル(ブチルセロソルブ
)及びそのアセテート誘導体等の溶解性を損なわない範
囲でその流動性を改善させる流動性向上剤、グラファイ
ト、二硫化モリブデン等の耐磨耗性向上剤、ガラス繊維
、炭素繊維、ウィスカー等の繊維強化剤、炭酸マグネシ
ウム、炭酸カルシウム、三酸化アンチモン等の難燃性向
上剤、電気特性向上剤、酸化安定剤、シリカ、アルミナ
、チタニア、ジルコニア、タルク等の充填剤、顔料、染
料等を挙げることができる。
に応じて種々の添加剤を添加し特性を付与することがで
きる。かかる添加剤としては、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル(ジグライム)、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル(メチルセロソルブ)、エチレングリ
コールモノエチルエーテル(エチルセロソルブ)、エチ
レングリコールモノブチルエーテル(ブチルセロソルブ
)及びそのアセテート誘導体等の溶解性を損なわない範
囲でその流動性を改善させる流動性向上剤、グラファイ
ト、二硫化モリブデン等の耐磨耗性向上剤、ガラス繊維
、炭素繊維、ウィスカー等の繊維強化剤、炭酸マグネシ
ウム、炭酸カルシウム、三酸化アンチモン等の難燃性向
上剤、電気特性向上剤、酸化安定剤、シリカ、アルミナ
、チタニア、ジルコニア、タルク等の充填剤、顔料、染
料等を挙げることができる。
以下に本発明の実施例を示し、本発明を更に詳しく説明
する。
する。
なお、各実施例において使用されている略号は以下の通
りである。
りである。
DSDA : 3.3°、 4.4’−ジフェニルスル
ホンテトラカルボン酸二無水物 6FBDA : 4.4’−(ヘキサフルオロイソプロ
ピリデン)ジフタル酸二無水物 BTDA : 3.3’ 、 4.4’−ベンゾフェノ
ンテトラカルボン酸二無水物 BPDA : 3.3’ 、 4.4”−ビフェニルテ
トラカルボン酸二無水物 PMDA :ピロメリット酸二無水物 BAPP : 2.2−ビス(4−アミノフェノキシフ
ェニル)プロパン BAPS :ビス(4−アミノフェノキシフェニル)ス
ルホン BAPB :ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル
BAPF : 2.2−ビス(4−アミノフェノキシフ
ェニル)へキサフルオロプロパン BAPE :ビス(4−アミノフェノキシフェニル)エ
ーテル DADE : 4.4′−ジアミノジフェニルエーテル
NMP:N−メチル−2−ピロリドン DMAc : N、 N−ジメチルアセトアミドDIG
ニジエチレングリコールジメチルエーテルTHF :
テトラヒドロフラン また、シロキサン系ジアミンについては、平均分子量に
より以下の略号を用いた。
ホンテトラカルボン酸二無水物 6FBDA : 4.4’−(ヘキサフルオロイソプロ
ピリデン)ジフタル酸二無水物 BTDA : 3.3’ 、 4.4’−ベンゾフェノ
ンテトラカルボン酸二無水物 BPDA : 3.3’ 、 4.4”−ビフェニルテ
トラカルボン酸二無水物 PMDA :ピロメリット酸二無水物 BAPP : 2.2−ビス(4−アミノフェノキシフ
ェニル)プロパン BAPS :ビス(4−アミノフェノキシフェニル)ス
ルホン BAPB :ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル
BAPF : 2.2−ビス(4−アミノフェノキシフ
ェニル)へキサフルオロプロパン BAPE :ビス(4−アミノフェノキシフェニル)エ
ーテル DADE : 4.4′−ジアミノジフェニルエーテル
NMP:N−メチル−2−ピロリドン DMAc : N、 N−ジメチルアセトアミドDIG
ニジエチレングリコールジメチルエーテルTHF :
テトラヒドロフラン また、シロキサン系ジアミンについては、平均分子量に
より以下の略号を用いた。
FSX248 :平均分子量248
PSX480: 〃480
PSx740:ノ1740
PSX1240 : 1240実施例1
0.5A’のセパラブルフラスコに、BPDA35゜8
g(0,1モル)を、DMAc200−に分散させたの
ち、FSX740ノ15 、 0 g (0,0203
モル)を旧G50gに溶解した溶液を水冷下に徐々に滴
下し、滴下終了後さらに2時間30°Cにて反応させた
。さらに、BAPE32. 72 g(0,0797モ
ル)をDMAc200 mlに溶解させ、上記反応液に
徐々に滴下し、滴下終了後12時間攪拌、反応させポリ
アミック酸溶液を得た。
g(0,1モル)を、DMAc200−に分散させたの
ち、FSX740ノ15 、 0 g (0,0203
モル)を旧G50gに溶解した溶液を水冷下に徐々に滴
下し、滴下終了後さらに2時間30°Cにて反応させた
。さらに、BAPE32. 72 g(0,0797モ
ル)をDMAc200 mlに溶解させ、上記反応液に
徐々に滴下し、滴下終了後12時間攪拌、反応させポリ
アミック酸溶液を得た。
次に、この溶液にトルエン50dを加えたのち、150
℃まで加熱し、トルエン還流下脱水閉環させ、ポリイミ
ド溶液を得た。
℃まで加熱し、トルエン還流下脱水閉環させ、ポリイミ
ド溶液を得た。
本溶液をシリコン、銅、アルミニウム、シリカ及びアル
ミナ基板の表面にスピンコードし、100℃で30分間
及び、200℃で60分間溶剤乾燥し、塗膜形成を行っ
た。この塗膜は強靭で良好な密着性を示した。
ミナ基板の表面にスピンコードし、100℃で30分間
及び、200℃で60分間溶剤乾燥し、塗膜形成を行っ
た。この塗膜は強靭で良好な密着性を示した。
実施例2〜10
実施例1と同様な方法を用い、第1表に示す組成で可溶
性ポリイミドを合成し、溶解性及び塗膜の性能試験を行
った。
性ポリイミドを合成し、溶解性及び塗膜の性能試験を行
った。
合成したポリイミド溶液の特性を第1表に、また、形成
した塗膜の性能を第2表に示す。
した塗膜の性能を第2表に示す。
比較例1〜3
DSDA及び6FBDAを全く用いずに、実施例1と同
様な方法を用い、第1表に示す組成でポリイミドを合成
し、溶解性及び塗膜の性能試験を行った。
様な方法を用い、第1表に示す組成でポリイミドを合成
し、溶解性及び塗膜の性能試験を行った。
合成したポリイミド溶液の特性を第1表に、また、形成
した塗膜の性能を第2表にそれぞれ示す。
した塗膜の性能を第2表にそれぞれ示す。
本発明のポリイミド樹脂コーティング剤組成物は、有機
溶剤に可溶で成型性に優れ、塗布加工後、イミド化処理
を必要とせず、高い耐熱性、優れた機械特性を有し、か
つ、接着性、電気特性に優れているため、コード、ケー
ブル等の被覆材、半導体用保護膜、絶縁膜やフィルム、
接着剤、塗料等に有用である。
溶剤に可溶で成型性に優れ、塗布加工後、イミド化処理
を必要とせず、高い耐熱性、優れた機械特性を有し、か
つ、接着性、電気特性に優れているため、コード、ケー
ブル等の被覆材、半導体用保護膜、絶縁膜やフィルム、
接着剤、塗料等に有用である。
特許出願人 新日鐵化学株式会社
Claims (2)
- (1)少なくともポリイミド樹脂と有機溶剤とを含有す
るポリイミド樹脂コーティング剤組成物において、ポリ
イミド樹脂が、3,3′,4,4′−ジフェニルスルホ
ンテトラカルボン酸二無水物及び/又は4,4′−(ヘ
キサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物と
下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (但し、式中Xは存在しないか、又は、−O−、−S−
、−SO_2−、−CO−、−CH_2−、−C(CH
_3)_2−又は−C(CF_3)_2−を示す)で表
される芳香族ジアミン50〜99モル%及び下記一般式
(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (但し、式中R_1、R_2は2価の有機基を示し、R
_3〜R_6はアルキル基、フェニル基又は置換フェニ
ル基を示し、nは1〜50の整数を示す)で表されるシ
ロキサン系ジアミン1〜50モル%よりなるジアミン成
分とを重縮合させて得られたポリイミド前駆体をイミド
化させて得られる有機溶剤可溶のポリイミド樹脂である
ことを特徴とするポリイミド樹脂コーティング剤組成物
。 - (2)有機溶剤が、エーテル系溶剤、アミド系溶剤、フ
ェノール系溶剤及びジメチルスフホキシドよりなる群か
ら選ばれた少なくとも1種の溶剤であることを特徴とす
る請求項1記載のポリイミド樹脂コーティング剤組成物
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22873190A JPH04108879A (ja) | 1990-08-30 | 1990-08-30 | ポリイミド樹脂コーテイング剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22873190A JPH04108879A (ja) | 1990-08-30 | 1990-08-30 | ポリイミド樹脂コーテイング剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04108879A true JPH04108879A (ja) | 1992-04-09 |
Family
ID=16880932
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22873190A Pending JPH04108879A (ja) | 1990-08-30 | 1990-08-30 | ポリイミド樹脂コーテイング剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04108879A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05331445A (ja) * | 1992-06-04 | 1993-12-14 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | フィルム接着剤の製造方法 |
| US5578697A (en) * | 1994-03-29 | 1996-11-26 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Polyimide precursor, bismaleimide-based cured resin precursor and electronic parts having insulating members made from these precursors |
| US6232039B1 (en) | 1998-05-14 | 2001-05-15 | Nippon Mektron Limited | Photosensitive composition |
| JP2005174561A (ja) * | 2003-12-05 | 2005-06-30 | Pi R & D Co Ltd | 絶縁電線及び絶縁コイル |
| WO2021241763A1 (ja) * | 2020-05-28 | 2021-12-02 | 旭化成株式会社 | 樹脂組成物 |
-
1990
- 1990-08-30 JP JP22873190A patent/JPH04108879A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05331445A (ja) * | 1992-06-04 | 1993-12-14 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | フィルム接着剤の製造方法 |
| US5578697A (en) * | 1994-03-29 | 1996-11-26 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Polyimide precursor, bismaleimide-based cured resin precursor and electronic parts having insulating members made from these precursors |
| US6232039B1 (en) | 1998-05-14 | 2001-05-15 | Nippon Mektron Limited | Photosensitive composition |
| US6365324B1 (en) * | 1998-05-14 | 2002-04-02 | Nippon Mektron, Limited | Photosensitive composition |
| JP2005174561A (ja) * | 2003-12-05 | 2005-06-30 | Pi R & D Co Ltd | 絶縁電線及び絶縁コイル |
| WO2021241763A1 (ja) * | 2020-05-28 | 2021-12-02 | 旭化成株式会社 | 樹脂組成物 |
| JPWO2021241763A1 (ja) * | 2020-05-28 | 2021-12-02 | ||
| CN115667368A (zh) * | 2020-05-28 | 2023-01-31 | 旭化成株式会社 | 树脂组合物 |
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